检索结果-内蒙古大学图书馆

中国生态农业学报 2017年第2期25卷 230-238页

作者：傅国海杨其长刘文科中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所/农业部设施农业节能与废弃物处理重点实验室北京100081

田间条件下采用起垄内嵌式基质栽培(soil ridged substrate-embedded cultivation,SRSC)方法,研究了日光温室LED冠层补光和电热线根区加温对甜椒生长和产量的影响。该试验设不加温不补光对照(CK)、根区加温15℃处理(T15)、根区加温18℃... 详细信息

田间条件下采用起垄内嵌式基质栽培(soil ridged substrate-embedded cultivation,SRSC)方法,研究了日光温室LED冠层补光和电热线根区加温对甜椒生长和产量的影响。该试验设不加温不补光对照(CK)、根区加温15℃处理(T15)、根区加温18℃处理(T18)、单一补光处理(L)、根区加温15℃+补光处理(T15+L)、根区加温18℃+补光处理(T18+L),共6个处理。结果表明,与对照相比,根区加温均能提高SRSC甜椒根区的温度,但根区温度仍呈现出随环境温度变化而变化的趋势,T18的根区全天保持较高温度。根区热通量的变化与根区温度变化相对应,T15和T18处理的根区热通量昼夜变化较CK剧烈,其根区侧面白天向内传热滞后,晚间侧面向外传热提前,传递量增加;根区垂直方向白天向内传热滞后,传递量减少,晚间垂直向外传热提前,但传递量增加。T15和T18均显著提高了甜椒的株高、冠层厚度和冠层直径,且T18比T15效果更明显。T15对甜椒的地上及地下干鲜重没有显著的提升作用,而T18的提升效果显著。根区加温补光处理的甜椒生物量普遍高于单一根区加温或补光处理,其中T18+L处理提升效果显著优于T15+L处理。T15、T18和L相对CK均提高了甜椒单产,单产分别提高30.74%、53.0%和14.81%。而根区加温和LED补光协同作用比单一的根区加温或冠层补光都能表现更好的增产效果,T15+L和T18+L分别比T15和T18的产量分别提升32.86%和15.50%,分别比L产量提升51.29%和53.87%。总之,根区加温与LED补光是日光温室甜椒增产有效的调控措施,两者在增加单株产量上存在显著的协同效应,二者共同作用比单一作用效果更加明显,且根区加温对甜椒生长和产量的促进效果比冠层补光更加显著,在实际生产中具有重要的指导意义。

关键词：起垄内嵌式基质栽培日光温室根区加温 LED补光甜椒产量

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日光温室甜椒起垄内嵌式基质栽培根区温度日变化特征

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中国生态农业学报 2016年第1期24卷 47-55页

作者：傅国海刘文科中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所/农业部设施农业节能与废弃物处理重点实验室北京100081

针对我国北方地区日光温室冬春季低温胁迫、土壤连作障碍、单产低和水肥资源利用率低等问题,本文设计了一种新型的栽培方法——起垄内嵌式基质栽培方法(soil ridge substrate-embedded cultivation,SRSC),并在早春季节,研究了两种模式的... 详细信息

针对我国北方地区日光温室冬春季低温胁迫、土壤连作障碍、单产低和水肥资源利用率低等问题,本文设计了一种新型的栽培方法——起垄内嵌式基质栽培方法(soil ridge substrate-embedded cultivation,SRSC),并在早春季节,研究了两种模式的SRSC[嵌槽式垄(SRSC-P)和嵌膜(铁丝网槽支撑)式垄(SRSC-W)]及土垄(SR)和单一基质槽垄(NPG)栽培下的甜椒幼苗根区温度的日变化特征。结果表明,日光温室内栽培垄根区温度与温室内、外的气温变化呈显著正相关,室内和栽培垄根区的平均温度分别比室外提高8.07℃和10.93℃,夜间分别提升9.90℃和14.81℃。在夜间低温阶段,SRSC-W维持根区较高温度的能力相对优于SR和SRSC-P,其根区平均温度分别比SR和SRSC-P高1.34℃和0.52℃;在白天高温阶段,SR、SRSC-P、NPG、SRSC-W最高温度平均值分别为28.06℃、27.21℃、29.93℃、26.05℃,SRSC-W抗高温效果最佳,NPG抗高温效果最差。阴天条件下,栽培垄的蓄热保温性能比晴天条件下差。SR白天和夜间的中心根区平均温度皆高于外侧,但SRSC-P和SRSC-W白天外侧温度高,夜间中心根区温度高。栽培垄北部根区温度高于南部根区温度,具有空间差异性,其中SRSC-W栽培模式的南部中心根区温度和北部中心根区温度差异相对于其他处理最小。此外,SRSC-W中心根区温度变化滞后时间最长,温度缓冲能力强。总之,SRSC-W栽培方法维持早春季节夜间甜椒根区温度能力和对低温及高温胁迫的缓冲性最强,且成本低,在日光温室抗低温生产中具有较好的应用前景。

关键词：日光温室起垄内嵌式基质栽培蓄热保温根区温度昼夜温度

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日光温室甜椒起垄内嵌式基质栽培优化机制研究

日光温室甜椒起垄内嵌式基质栽培优化机制研究

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作者：李宗耕中国农业科学院

学位级别：硕士

日光温室传统的土壤栽培环境可控性差,冬春茬低温胁迫频繁,高产稳产能力低等问题持续存在,并且生产中过量施肥较为普遍,养分利用率低,资源问题突出,环境风险大。为了解决上述问题,实现设施蔬菜高产稳产绿色可持续发展,傅国海发明了设施... 详细信息

日光温室传统的土壤栽培环境可控性差,冬春茬低温胁迫频繁,高产稳产能力低等问题持续存在,并且生产中过量施肥较为普遍,养分利用率低,资源问题突出,环境风险大。为了解决上述问题,实现设施蔬菜高产稳产绿色可持续发展,傅国海发明了设施蔬菜土壤起垄内嵌式基质栽培方式（Soil-ridged and substrate-embedded cultivation,SSC）。本研究在前人方式提出的基础上,对新的栽培方式进行了深一步的优化试验探究,以期能够形成配套的SSC垄工艺参数,提质增效,使新型栽培方式能够更好地应用于生产实践。为此,我们以甜椒生长表现及根区温度响应特征为参考指标,对SSC的垄规格、基质组成和根区养分效应分别进行了大田试验探究。1.为了明确起垄内嵌式基质栽培不同垄规格的温热和生产性能,在日光温室中进行大田试验,以土垄（CK）为对照,设置了窄垄（T1）、窄垄黑膜（T2）、矮垄（T3）、垫高垄（T4）和标准垄（T5）5种处理,探究栽培垄高度、宽度和覆膜类型对根区温热以及甜椒生长的影响。试验结果表明:黑色地膜的增温效果差,昼夜平均温度较白色透明地膜低1.0℃左右;夜间根区温度随着栽培垄宽度的减小而降低,而栽培垄高度的变化对根区温度的影响并不明显。虽然各处理根区温度日变化略有差异,但昼夜平均温度均在17.5～19.0℃,彼此间温差在1.0℃左右。栽培垄的高度、宽度和覆膜类型对甜椒的株高、茎粗和SPAD影响差异不显著。但与对照相比,试验组各处理的产量均有所提高,并以T3矮垄处理产量最高为6.1 kg/m2,比CK产量提高了90.6%,此外,在试验组中也以T3处理的植株干物质积累量最高。综上,在相同的滴灌水平下,基质槽与垄规格的改变对根区温度和甜椒的株高、茎粗、叶片叶绿素含量影响较弱;但以T3矮垄处理具有最高的产量,生产性能最佳,故在日光温室生产中矮垄（基质槽:宽×高=10 cm×10 cm）具有更好的应用前景。2.探究不同施肥浓度和垄规格处理下新型栽培方式对甜椒产量和氮磷吸收利用的影响,明确新型栽培方式下根区氮磷残留的效果。在日光温室中对甜椒进行分区试验,在相同的灌水量下设置高低2个施肥水平,并在每个施肥小区内以土垄（SR）为对照,设置标准垄（NR）、矮标准垄（NRs）、窄标准垄（NRn）和种植密度加倍标准垄（NRd）4种不同规格的垄嵌式基质栽培垄,探究不同施肥量和垄规格对甜椒产量、生物量以根区养分残留的影响。结果表明,增加施肥量可以提高甜椒的产量、生物量、株高和茎粗,但在叶绿素含量上没有显著差异。养分在根区的残留与施肥量有显著正相关,随着施肥量的增加养分在根区的积累也会增加;内嵌基质栽培与土壤相比能够促进甜椒对养分的吸收,降低养分在根区的积累,尤其能显著降低硝态氮的含量,避免土壤污染。2个施肥小区中,均以NRs矮垄处理产量最高,并且根区养分残留相对较低,故优化的NRs处理垄规格在日光温室中具有更好的应用前景。3.为探究起垄内嵌式栽培基质配比对甜椒生长和根区温度的影响,在日光温室中以土壤栽培（CK）为对照,共设置4种不同基质配比（体积比）:草炭:蛭石:珍珠岩=1:1:1、2:1:1、3:1:1和3:2:1。结果表明:根区基质温度受两侧土壤温度的影响,与两侧土壤温度呈极显著相关;不同基质配比根区温度日变化规律不一致,但日平均温度无显著差异;4种基质配比的根区昼夜平均温差均比土壤低1.0～2.0℃。基质配比对不同生育阶段甜椒的株高、茎粗和SPAD没有显著性影响,但2:1:1配比处理能显著提高甜椒的干物质量。4种基质栽培的甜椒产量均高于土壤,其中2:1:1配比处理产量最高为6.46 kg/m2,比土壤高103.1%。在植物体养分含量上,总的来看也以配比2处理的甜椒含量最高。总结而言,基质配比对根区温度和甜椒的株高、茎粗、叶片叶绿素含量上影响不显著,但草炭:蛭石:珍珠岩=2:1:1基质配比能够显著促进甜椒干物质量积累、产量的提高和养分的吸收,更适合应用于日光温室甜椒生产。

关键词：日光温室起垄内嵌式基质栽培垄规格养分残留基质配比

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日光温室起垄内嵌式基质栽培增产机制研究

日光温室起垄内嵌式基质栽培增产机制研究

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作者：傅国海中国农业科学院

学位级别：硕士

日光温室在中国反季节蔬菜生产中发挥重要作用。日光温室传统的土壤栽培存在的土壤连作障碍、水肥资源浪费、地下水污染等资源环境问题制约着其可持续发展。而日光温室生产过程中面临的弱光低温及高温胁迫问题是制约日光温室蔬菜生产的... 详细信息

日光温室在中国反季节蔬菜生产中发挥重要作用。日光温室传统的土壤栽培存在的土壤连作障碍、水肥资源浪费、地下水污染等资源环境问题制约着其可持续发展。而日光温室生产过程中面临的弱光低温及高温胁迫问题是制约日光温室蔬菜生产的重要因素。因此,解决日光温室生产中的资源环境问题和弱光低温及高温胁迫问题对促进温室作物的生长及产量的提高极为关键。本研究通过田间试验,构建了一种新型的日光温室无土栽培方法—起垄内嵌式基质栽培（Soil-ridged Substrate-embedded Cultivation,SSC）方法,以替代传统的土壤栽培,并解决无土栽培过程中的问题,研究了SSC在高低温环境下的根区温度变化规律、产量效应及增产机理,并初步确定了SSC甜椒水肥管理制度。此外,研究了冬季低温环境下人工加温和LED补光措施在SSC上的应用效果以及夏季高温环境下SSC降温生产模式。SSC方法充分利用无土栽培高产高效的优势和土壤栽培根区温度稳定性强的特性,结合“水肥一体化”技术,改善温室作物的根区环境（温热、水肥等）,促进作物生长和产量提高。1.采用田间试验的方法,研究了土垄栽培（SR）、土垄嵌PE槽基质栽培（SSC-P）、土垄嵌铁丝网槽基质栽培（SSC-W）和单纯PE槽基质栽培（PG）的根区温度变化规律及甜椒生长和产量指标,并监测营养液的利用和盈亏情况。结果表明,在3月16-20日,PG、SSC-P和SSC-W的根区最低平均温度分别比SR高1.01、0.75和1.16℃。在6月1-5日,SSC-P和SSC-W的根区最高平均温度比SR降低1.28和1.29℃,而PG比SR高1.44℃。SSC-W的昼夜温差和最低最高温度温差是最低的。结果表明,SSC能够提高根区温度缓冲能力,并且SSC-W的缓冲能力要优于SSC-P。此外,SSC-P和SSC-W能够促进株高、茎粗、和叶绿素含量,并且SSC-W效果更好。SSC-W同其他处理相比显著提高了单果重、果实大小和单株产量。同时,SSC-P和SSC-W的单位面积果实产量相对SR(3.06 kg·m-2)分别提高了21.24%和50.33%,而PG比SR低13.72%,其中SSC-W的增产效果最优。水肥（营养液）在三个时期的用量基本合理,但是栽培槽内还存在盈余,可以进一步减少水肥用量,以达到更加高效的目的。2.采用田间试验的方法,研究了土垄（T1,底宽40 cm,高15 cm）、窄栽培槽SSC垄（T2,底宽为35 cm）、槽体全嵌入地平表面的SSC垄（T3,高度为0 cm）、半嵌入地平表面的SSC垄（T4,高度为10cm）、裸槽垄（T5,宽度为10 cm）和标准SSC垄（T6,规格与土垄一致）不同宽度（T1、T2、T5和T6）和嵌入深度及土壤包被（T5、T3、T4和T6）差异SSC垄的根区温热变化规律及甜椒生长和产量指标。结果表明,宽度差异栽培垄中,T6根区温度分别比T1、T2和T5高0.55、1.27和1.33℃。嵌入深度和土壤包被差异栽培垄,T6根区温度分别比T3、T4和T5高0.44、0.84和1.55℃。T6的侧面和垂直方向上的热量传递较为缓慢,吸热时间较长,温度较高。此外,宽度差异栽培垄中,T2、T5、T6甜椒幼苗生长优于T1,且T6最优;嵌入深度和土壤包被差异栽培垄,T5甜椒幼苗的生长比其他处理差,T3和T6差异不显著,T6较优。总之,T6抗低温的能力比其他处理强,T6的甜椒产量最高,为3.69kg·m-2。监测发现,调整后的营养液制度能够满足SSC甜椒的生长需求,残留较少,养分利用率高,更加高效。3.采用田间试验的方法,研究了不同冠层补光和根区加温处理(根区加温15℃（T15）和根区加温18℃（T18）)的根区温热变化规律及甜椒生长和产量指标。结果表明,与对照CK（不加温不补光处理）相比,根区加温均能有效提高甜椒根区的温度。不同加温处理中,T18的根区会全天保持较高温度。根区热通量的变化与根区温度变化相对应,T15和T18处理的根区热通量昼夜变化较CK剧烈。T15和T18均显著提高了甜椒的生长指标,且T18比T15效果更明显。T18甜椒的地上及地下干鲜重显著高于其他处理。T18+L处理对生物量提升效果显著优于T15+L处理。T15+L和T18+L分别比T15和T18的产量分别提升32.86%和15.50%,同时分别比L产量提升了51.29%和53.87%。4.采用田间试验的方法,研究了夏季日光温室中透明膜（TM）、黑色膜（HM）、普通反光膜（PM）和强反光膜（QF）等覆膜类型的SSC垄的根区温热效应及番茄幼苗生长情况。在定植前覆盖不同类型地膜的SSC垄的膜下和根区平均最高温度和昼间平均温度都比CK低,其中QF处理的膜下和根区温度最低,膜下和根区平均最高温度分别比CK低12.78和9.73℃,昼间平均温度分

关键词：日光温室根区温度水肥管理起垄内嵌式基质栽培甜椒

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日光温室起垄内嵌式基质栽培N2O和CO2排放特征及其根区调控

日光温室起垄内嵌式基质栽培N2O和CO2排放特征及其根区调控

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作者：李宝石中国农业科学院

学位级别：硕士

起垄内嵌式基质栽培（Soil-ridged and substrate-embedded cultivation,SSC）是一种在土垄中央通过嵌入塑料膜和基质的方式,整合垄覆膜和滴灌等工程手段,形成了具有水肥一体化管控功能的新型无土栽培方式。与土壤栽培不同,起垄内嵌式... 详细信息

起垄内嵌式基质栽培（Soil-ridged and substrate-embedded cultivation,SSC）是一种在土垄中央通过嵌入塑料膜和基质的方式,整合垄覆膜和滴灌等工程手段,形成了具有水肥一体化管控功能的新型无土栽培方式。与土壤栽培不同,起垄内嵌式基质栽培改变了根区有效氧含量,以及微生物的数量和活性,必然导致根区CO2和N2O排放发生改变。然而,SSC与土垄栽培根区CO2和N2O排放差异机制尚不清楚,另外,SSC调控根区CO2和N2O减排措施尚需阐明。本文以典型设施菜地为研究对象,采用静态箱原位监测,研究生物炭和硝化抑制剂（3,4-二甲基吡唑磷酸盐,3,4-dimethylpyrazol phosphate,DMPP）、基质组成对SSC根区CO2和N2O排放的调控作用,阐明SSC与土垄栽培根区CO2和N2O排放规律及差异机制,为明确SSC的减排潜力,推动SSC熟化应用提供依据。主要的研究结果如下:（1）与常规施氮肥的土壤栽培（SC）相比,起垄内嵌式基质栽培（SSC）处理的N2O累积排放量、CO2累积排放量和全球增温潜势（Global warming potential,GWP）分别减少27.9%、30.2%、30.1%;施用硝化抑制剂DMPP的土壤栽培（SC+D）显著降低全球增温潜势27.5%。相比SSC处理,施用硝化抑制剂DMPP的起垄内嵌式基质栽培（SSC+D）显著降低全球增温潜势29.8%。与不施氮肥的土壤栽培（CK）相比,SC、SC+D、SSC和SSC+D处理的黄瓜总产量分别显著提高123.7%、138.0%、130.0%和138.7%。SSC处理较SC处理,显著提高了黄瓜产量5.1%。（2）以土壤栽培（SC）为对照,另设置4个处理。处理1为常规起垄内嵌式基质栽培（SSC,基质组成及体积比为草炭:蛭石:珍珠岩=2:1:1）,处理2为SSC-B 50%（基质组成及体积比为生物炭:蛭石:珍珠岩=2:1:1）,处理3为SSC-B 25%（基质组成及体积比为生物炭:草炭:蛭石:珍珠岩=1:1:1:1）,处理4为SSC-DMPP（SSC施加1%纯N量的DMPP）。试验结果表明:SSC比SC提高甜椒产量10.99%。SSC-DMPP处理比SSC处理增产10.30%,但SSC-B 50%和SSC-B 25%处理降幅为47.1%和13.7%。此外,与SC相比,SSC显著降低了全球增温潜势（GWP）,温室气体强度（Greenhouse gas intensity,GHGI）由0.072降低到0.037 kg·CO2-eq kg-1。与SSC处理相比,SSC-DMPP处理的累积N2O排放显著降低,GHGI也从0.037降低到0.032 kg·CO2-eq kg-1;但SSC-B50%和SSC-B 25%处理的GWP与SSC无显著差异。（3）试验设置4个处理:处理1为常规起垄内嵌式基质栽培（SSC,基质组成及体积比为草炭:蛭石:珍珠岩=2:1:1）,处理2为SSC-C 50%（基质组成及体积比为椰糠:蛭石:珍珠岩=2:1:1）,处理3为SSC-C 25%（基质组成及体积比为椰糠:草炭:蛭石:珍珠岩=1:1:1:1）;处理4为SSC-DG（基质组成及体积比为酒糟:蛭石:珍珠岩=2:1:1）。结果表明:以SSC处理的甜椒产量最高,为5.05 kg·m-2;以SSC-C 50%处理的甜椒产量最低,为4.19 kg·m-2。以酒糟为栽培基质的SSC-DG处理显著增加了根区CO2和N2O排放通量。与SSC处理相比,SSC-C 50%处理的N2O累积排放量能够降低60%,与此同时显著降低了全球增温潜势（GWP）。综上所述,相比土壤栽培,起垄内嵌式基质栽培具有降低根区CO2和N2O排放和提高蔬菜产量的优势。论文的研究可为日光温室蔬菜栽培提供技术储备,同时也为制定无土栽培根区温室气体减排措施提供理论依据。

关键词：起垄内嵌式基质栽培温室气体 DMPP 生物炭基质组成

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起垄内嵌基质栽培对日光温室夏季黄瓜根区温度、生长和产量的影响

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中国农业科技导报 2022年第2期24卷 177-183页

作者：李宝石刘文科王奇邵明杰中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所农业农村部设施农业节能与废弃物处理重点实验室北京100081

为探究起垄内嵌基质栽培(soil-ridge substrate-embedded cultivation,SSC)对夏季蔬菜栽培根区温度和生产性能的影响,以土壤栽培垄+银色反光地膜为对照(SR处理),分别设置SSC(垄高15 cm,宽度20 cm)+银色反光地膜(SSC处理),SSC(垄高10 cm... 详细信息

为探究起垄内嵌基质栽培(soil-ridge substrate-embedded cultivation,SSC)对夏季蔬菜栽培根区温度和生产性能的影响,以土壤栽培垄+银色反光地膜为对照(SR处理),分别设置SSC(垄高15 cm,宽度20 cm)+银色反光地膜(SSC处理),SSC(垄高10 cm、宽度20 cm)+银色反光地膜(SSCs处理)以及SSC(垄高10 cm、宽度30 cm)+银色反光地膜(SSB处理)共3个处理,在夏季日光温室中研究不同规格SSC的根区温热效应、黄瓜生长及产量情况。结果表明,2019年6月4-8日和7月4-8日,根区白天平均温度均以SSB处理最高,以SSCs处理最低,说明SSCs处理对夏季高温阶段黄瓜根区温度的缓冲能力最强。6月份连续5个昼夜中根区最高温度平均值与最低温度平均值的差值以SSB处理最高,7月份连续5个昼夜中根区最高温度平均值与最低温度平均值的差值以SR处理最高;2个月份根区最高温度平均值与最低温度平均值的差值均以SSCs处理最低,说明SSCs处理的根区温度波动范围小,稳定性强。SSCs和SSB处理黄瓜的株高、茎粗、叶片SPAD值、叶片数、植株地上部干重和根系干重均显著高于SR处理,又以SSCs处理对黄瓜生长的促进作用最显著。此外,SSC和SSCs处理黄瓜的单果重和产量均显著提高,其中产量较SR处理分别提高了6.4%和7.0%。由此可见,起垄内嵌基质栽培能够有效增强黄瓜根区温度的缓冲能力,进而提高产量,以垄高10 cm、宽20 cm的起垄内嵌基质栽培+银色反光地膜(SSCs处理)在夏季日光温室蔬菜生产中具有较好的应用前景,为起垄内嵌基质栽培方式的推广应用提供了科学的参数支持。

关键词：日光温室黄瓜起垄内嵌式基质栽培根区温度产量

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甜椒根区基质与土垄交界处热通量变化特征

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中国农业气象 2017年第10期38卷 672-678页

作者：李宗耕傅国海刘文科中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所/农业部设施农业节能与废弃物处理重点实验室北京100081

在日光温室中采用新型土垄内嵌式基质栽培(SSC)方法栽培甜椒。运用土壤热通量板探究土垄(SR)、标准垄(NR)、窄标准垄(NRn)、矮标准垄(NRs)和种植密度加倍标准垄(NRd)5种不同规格栽培垄东西侧水平方向以及根区垂直方向上热通量昼夜变化特... 详细信息

在日光温室中采用新型土垄内嵌式基质栽培(SSC)方法栽培甜椒。运用土壤热通量板探究土垄(SR)、标准垄(NR)、窄标准垄(NRn)、矮标准垄(NRs)和种植密度加倍标准垄(NRd)5种不同规格栽培垄东西侧水平方向以及根区垂直方向上热通量昼夜变化特征,探究适合冬季日光温室蔬菜生产的栽培垄。结果表明:各处理热通量均呈相同的昼夜单峰曲线变化特征,但不同处理吸放热的时间有所差异。栽培垄东侧水平方向上,晴天时SR、NR、NRn、NRd4个处理根区吸热的时间为9:00-14:00,阴天时吸热时间延后2h;晴天NRs在23:00-14:00吸热,阴天一直处于吸热状态。栽培垄西侧水平方向上,NRs处理一直为吸热状态,其余4个处理在9:00-17:00吸热。根区垂直方向上热通量变化表明,SR、NR、NRn、NRd4个处理吸热时间晴天为11:00-18:00,阴天为12:00-17:00;NRs放热的时间比其它处理晚2~3h。5个处理在东侧、西侧水平方向上和根区垂直方向上吸放热差值因位置不同有较大差异,在东侧水平方向和根区垂直方向上各处理以放热为主,而在西侧水平方向上吸热较多。东西侧水平方向和根区基质垂直方向上NRs处理基质吸热多放热少,NRd处理基质吸热少放热多,故NRd处理在冬季能更好地维持根区温度,在日光温室冬季和早春季蔬菜生产中具有更好的应用前景。

关键词：日光温室起垄内嵌式基质栽培甜椒热通量

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根区施用硝化抑制剂DMPP对不同栽培方式下黄瓜产量及根区温室气体排放的影响

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中国农业科技导报 2021年第9期23卷 184-192页

作者：李宝石刘文科王奇查凌雁张玉彬周成波邵明杰中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所农业农村部设施农业节能与废弃物处理重点实验室北京100081

为了研究根区施用硝化抑制剂(DMPP)对日光温室起垄内嵌式基质栽培与土垄栽培黄瓜产量及根区N 2 O和CO 2排放的影响,设置5个处理:CK(土垄栽培,不施氮肥)、SC(土垄栽培,常规施氮肥)、SC+D(土垄栽培、常规施氮肥配施DMPP)、SSC(起垄内嵌式... 详细信息

为了研究根区施用硝化抑制剂(DMPP)对日光温室起垄内嵌式基质栽培与土垄栽培黄瓜产量及根区N 2 O和CO 2排放的影响,设置5个处理:CK(土垄栽培,不施氮肥)、SC(土垄栽培,常规施氮肥)、SC+D(土垄栽培、常规施氮肥配施DMPP)、SSC(起垄内嵌式基质栽培、常规施氮肥)、SSC+D(起垄内嵌式基质栽培、常规施氮肥配施DMPP),分析了DMPP对黄瓜根区N 2 O和CO 2排放的影响机制和对黄瓜产量的综合影响。结果表明:施氮肥显著增加了设施蔬菜地N 2 O累计排放量和黄瓜总产量。与SC处理相比,SSC处理的N 2 O累积排放量、CO 2累积排放量和全球增温潜势分别减少27.9%、30.2%、30.1%(P<0.05)。SC+D处理显著降低全球增温潜势27.5%(P<0.05);相比SSC处理,SSC+D处理显著降低全球增温潜势29.8%(P<0.05)。与CK相比,SC、SC+D、SSC和SSC+D处理的黄瓜总产量分别显著提高123.7%、138.0%、130.0%和138.7%。与SC处理相比,SSC处理显著提高了黄瓜产量和地上部、根系的干物质量,分别为5.1%、8.4%、66.1%。综合考虑N 2 O和CO 2累积排放量、全球增温潜势、黄瓜产量,推荐施用DMPP条件下起垄内嵌式基质栽培为较优的管理模式。

关键词：日光温室硝化抑制剂黄瓜氮肥根区气体起垄内嵌式基质栽培

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