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机构

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作者

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语言

  • 48 篇 中文
检索条件"主题词=金属-氧化物-半导体场效应晶体管"
48 条 记 录,以下是1-10 订阅
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基于辐照前1/f噪声的金属-氧化物-半导体场效应晶体管辐照退化模型
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理学报 2008年 第8期57卷 5205-5211页
作者: 彭绍泉 杜磊 庄奕琪 包军林 何亮 陈伟华 西安电子科技大学技术物理学院 西安710071 西安电子科技大学微电子学院 西安710071
基于金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)噪声的载流子数涨落和迁移率涨落理论,建立了MOSFET辐照前1/f噪声参量与辐照后分别由氧化层陷阱和界面陷阱诱使阈值电压漂移之间的定量数学模型,并通过实验予以验证.研究结果表明,辐照诱生... 详细信息
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高温对MOSFET ESD防护器件维持特性的影响
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理学报 2022年 第12期71卷 489-496页
作者: 李明珠 蔡小五 曾传滨 李晓静 李多力 倪涛 王娟娟 韩郑生 赵发展 中国科学院微电子研究所 硅器件中心重点实验室北京100029 中国科学院大学 北京100049
静电放电(electro-static discharge,ESD)防护结构的维持电压是决定器件抗闩锁性能的关键参数,但ESD器件参数的热致变化使得防护器件在高温环境中有闩锁风险.本文研究了ESD防护结构N沟道金属-氧化物-半导体(N-channel metal oxide semic... 详细信息
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应变SiGe沟道PMOSFET阈值电压模型
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固体电子学研究与进展 2008年 第2期28卷 180-184,234页
作者: 徐静平 苏绍斌 邹晓 华中科技大学电子科学与技术系 武汉430074
首先建立了应变SiGe沟道PMOSFET的一维阈值电压模型,在此基础上,通过考虑沟道横向电场的影响,将其扩展到适用于短沟道的准二维阈值电压模型,与二维数值模拟结果呈现出好的符合。利用此模型,模拟分析了各结构参数对器件阈值电压的影响,... 详细信息
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基于EMR信号的SiC MOSFET栅氧化层退化状态监测方法
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天津理工大学学报 2025年 第2期41卷 57-64页
作者: 李巍 杜明星 天津理工大学电气工程与自动化学院天津市复杂系统控制理论及应用重点实验室
氧化层退化是碳化硅-金属-氧化物-半导体场效应晶体管(silicon carbide metal-oxide-semiconductor field effect transistor, SiC MOSFET)最常见的失效形式之一,栅氧化层状态监测是电力电子系统稳定运行的重要保证。因此,文中提出... 详细信息
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利用背面Ar^+轰击改善n-MOSFET饱和区特性
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华南理工大学学报(自然科学版) 2005年 第2期33卷 70-74页
作者: 陈平 黄美浅 李旭 李观启 华南理工大学物理科学与技术学院 广东广州510640
用550eV的低能量Ar+离子束轰击n MOSFET(n沟金属-氧化物-半导体场效 应晶体)芯片的背面,以改善其饱和区的直流特性(如跨导、阈值电压和表面有效迁移率) 以及低频噪声等.结果表明,随着轰击时间的增加,跨导和沟道表面有效迁移率... 详细信息
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基于表面势的N沟4H-SiCMOSFETI-V特性解析模型
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固体电子学研究与进展 2005年 第1期25卷 42-46页
作者: 王平 杨银堂 杨燕 柴常春 李跃进 西安电子科技大学微电子研究所 西安710071
报道了一种适于模拟 n沟 4H-Si C MOSFET直流 I-V特性的整体模型。该模型充分考虑了常温下 Si C中杂质不完全离化以及界面态电荷在禁带中不均匀分布的影响 ,通过解析求解泊松方程以及牛顿 -拉夫森迭代计算表面势 ,得到了表面电场以及表... 详细信息
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超薄栅介质MOSFET直接隧穿电流自洽解模型
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固体电子学研究与进展 2007年 第4期27卷 545-549页
作者: 许胜国 徐静平 季峰 陈卫兵 李艳萍 华中科技大学电子科学与技术系 武汉430074
采用自洽解方法求解一维薛定谔方程和二维泊松方程,得到电子的量子化能级和相应的浓度分布,利用MWKB方法计算电子隧穿几率,从而得到不同栅偏置下超薄栅介质MOSFET的直接隧穿电流模型。一维模拟结果与实验数据十分吻合,表明了模型的准确... 详细信息
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高k栅介质MOSFET电特性的模拟分析
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固体电子学研究与进展 2004年 第4期24卷 417-421页
作者: 陈卫兵 徐静平 邹晓 李艳萍 赵寄 华中科技大学电子科学与技术系 武汉430074
对高k栅介质MOSFET栅极漏电进行研究 ,确定栅介质的厚度 ,然后使用PISCES Ⅱ模拟器对高k栅介质MOSFET的阈值电压、亚阈斜率和Idsat/Ioff进行了详细的分析研究。通过对不同k值的MOSFET栅极漏电、阈值电压、亚阈斜率和Idsat/Ioff的综合考... 详细信息
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考虑量子效应的MOS器件表面势模型
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固体电子学研究与进展 2007年 第4期27卷 431-435页
作者: 贺道奎 权五云 复旦大学ASIC国家重点实验室 上海200433
介绍了目前基于表面势的MOSFET集约模型研究的最新进展,及考虑量子效应时对表面势进行修正的一般方法。并从三角势阱近似出发考虑量子效应,得到了一个新的表面势解析模型,并与经典理论和数值模拟结果进行了比较。模型简单、准确,且理... 详细信息
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深亚微米MOSFET的蒙特卡罗快速模拟
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华中科技大学学报(自然科学版) 2007年 第8期35卷 33-36页
作者: 季峰 徐静平 陈卫兵 李艳萍 华中科技大学电子科学与技术系 湖北武汉430074
用蒙特卡罗-泊松方程自洽求解的方法,对深亚微米金属-氧化物-半导体场效应晶体管——MOSFET的电特性进行了模拟.在泊松方程的求解上,使用了矩阵法,与一般的迭代方法相比,求解速度得到了极大的提高.为减少自散射的次数,用阶梯自散射方案... 详细信息
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