静电放电(electro-static discharge,ESD)防护结构的维持电压是决定器件抗闩锁性能的关键参数,但ESD器件参数的热致变化使得防护器件在高温环境中有闩锁风险.本文研究了ESD防护结构N沟道金属-氧化物-半导体(N-channel metal oxide semic...
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静电放电(electro-static discharge,ESD)防护结构的维持电压是决定器件抗闩锁性能的关键参数,但ESD器件参数的热致变化使得防护器件在高温环境中有闩锁风险.本文研究了ESD防护结构N沟道金属-氧化物-半导体(N-channel metal oxide semiconductor,NMOS)在30—195℃的工作温度下的维持特性.研究基于0.18μm部分耗尽绝缘体上硅工艺下制备的NMOS器件展开.在不同的工作温度下,使用传输线脉冲测试系统测试器件的ESD特性.实验结果表明,随着温度的升高,器件的维持电压降低.通过半导体工艺及器件模拟工具进行二维建模及仿真,提取并分析不同温度下器件的电势、电流密度、静电场、载流子注入浓度等物理参数的分布差异.通过研究以上影响维持电压的关键参数随温度的变化规律,对维持电压温度特性的内在作用机制进行了详细讨论,并提出了改善维持电压温度特性的方法.
栅氧化层退化是碳化硅-金属-氧化物-半导体场效应晶体管(silicon carbide metal-oxide-semiconductor field effect transistor, SiC MOSFET)最常见的失效形式之一,栅氧化层状态监测是电力电子系统稳定运行的重要保证。因此,文中提出...
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栅氧化层退化是碳化硅-金属-氧化物-半导体场效应晶体管(silicon carbide metal-oxide-semiconductor field effect transistor, SiC MOSFET)最常见的失效形式之一,栅氧化层状态监测是电力电子系统稳定运行的重要保证。因此,文中提出了一种基于电磁辐射(electromagnetic radiation, EMR)信号的SiC MOSFET栅氧化层退化状态监测方法。首先在SiC MOSFET导通过程分析基础上,推导出栅氧化层老化程度与漏极电流变化率之间的关系;其次,把SiC MOSFET模块当作一个磁偶极子,测量其EMR信号,分析可知栅氧化层老化会引起EMR信号频谱幅值减小;最后,以SiC MOSFET组成的Buck变换器为被测对象,利用近场探头捕获EMR信号,根据其频谱幅值监测栅氧化层退化的程度。实验结果表明,SiC MOSFET栅氧化层退化对低频段的EMR信号频谱影响较大,在谐振点6.3 MHz附近出现峰值,并且随着栅氧化层老化程度加深,EMR信号频谱幅值也相应减小。
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