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AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

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检索条件"主题词=Advanced Process Controls"

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详细简洁

排序：

A rapid control prototyping platform methodology for decentralized automation

A rapid control prototyping platform methodology for decentr...

引用

Conference on Design and Architectures for Signal and Image processing (DASIP)

作者： Kaestner, Florian Janssen, Benedikt Schwanewilms, Sebastian Huebner, Michael Ruhr Univ Bochum Chair Embedded Syst Informat Technol Bochum Germany

ISBN: (纸本)9781538635346

Today's industrial requirements regarding the ability of embedded devices used for decentralized automation are increasing. Industrial providers of automation equipment strive to make their products and thus, industrial plants, smarter to raise efficiency. This evolution is based on new technologies like machine learning, predictive maintenance, sensor fusion and advanced process controls. These techniques require performance and energy efficient hardware platforms supporting a fast execution of computational intensive algorithms in compliance with real-time constraints. Therefore, to achieve these targets in a cost-efficient manner, the sharing of hardware resources to implement advanced process controls or machine learning algorithms is beneficial. Further, if different institutions integrating intellectual property (IP) into a single platform a certain degree of isolation is mandatory to protect their IP against theft or manipulation. In this paper, we propose a rapid control prototyping platform supporting the sharing of resources in an isolated manner to evaluate new control or monitoring strategies on a single platform with the help of Linux Containers for process isolation, MQTT for interprocess communication, OPC UA for vertical integration and partial bitstreams.

关键词： Rapid Control Prototyping MQTT LXC OPC UA process isolation advanced process controls

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Implementation of an OES System to Detect Silane Bursting During HDP SiN Film Deposition 33

Implementation of an OES System to Detect Silane Bursting Du...

引用

33rd Annual SEMI advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC)

作者： Azevedo, Isabel Hurley, Matthew Mosher, David GlobalFoundries Chem Vapor Deposit Dept Essex Jct VT 05452 USA

ISBN: (纸本)9781665494878

A new fault detection data model was developed for High Density Plasma (HDP) SiN deposition processing to detect copper migration caused by silane (SiH4) introduction into the chamber prior to the deposition step. Before the development of this model, copper (Cu) migration could not be detected until electrical test. Potential product exposure was high due to the elapsed time between occurrence and detection. The model provides an automated detection system, reducing the magnitude of product exposure from repeat instances of silane bursting.

关键词： advanced process controls Manufacturing

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