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主题

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  • 2 篇 hgcdte薄膜
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  • 1 篇 (111)te面
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机构

  • 2 篇 中国科学院上海技...
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作者

  • 2 篇 焦翠灵
  • 2 篇 徐庆庆
  • 2 篇 李向阳
  • 2 篇 陆液
  • 2 篇 魏彦锋
  • 2 篇 杨建荣
  • 2 篇 王仍
  • 2 篇 赵守仁
  • 2 篇 陈新强
  • 2 篇 曹妩媚
  • 1 篇 黄元竞
  • 1 篇 马庆华
  • 1 篇 zhao shou-ren
  • 1 篇 xu qing-qing
  • 1 篇 王志斌
  • 1 篇 zhang mei
  • 1 篇 chen xin-qiang
  • 1 篇 liu ming
  • 1 篇 吴刚
  • 1 篇 邵秀华

语言

  • 8 篇 中文
检索条件"主题词=CdZnTe衬底"
8 条 记 录,以下是1-10 订阅
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cdznte衬底对碲镉汞气相外延表面形貌的影响
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激光与红外 2015年 第9期45卷 1064-1067页
作者: 王仍 焦翠灵 张莉萍 张可锋 陆液 杜云辰 邵秀华 林杏潮 李向阳 中国科学院上海技术物理研究所红外成像材料与器件重点实验室 上海200083
利用气相外延技术在Cd Zn Te衬底上生长Hg1-xCdxTe薄膜材料,通过在不同晶向、不同极性、不同晶向偏离角度Cd Zn Te衬底上的外延结果发现,Cd Zn Te衬底对外延形貌的影响非常大。(111)面衬底上外延形貌明显优于(211)面衬底的外延形貌。对... 详细信息
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碲锌镉衬底晶面极性对水平液相外延碲镉汞薄膜的影响
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红外与毫米波学报 2023年 第1期42卷 1-7页
作者: 霍勤 张诚 焦翠灵 王仍 毛诚铭 陆液 乔辉 李向阳 中国科学院上海技术物理研究所红外成像材料与器件重点实验室 上海200083
研究了碲锌镉衬底(111)晶面的不同极性对水平推舟液相外延生长碲镉汞薄膜的影响。实验结果显示,(111)A面碲锌镉衬底水平液相外延生长碲镉汞薄膜材料组分和厚度均与常规(111)B面碲锌镉衬底碲镉汞薄膜材料相当;碲镉汞母液在采用(111)A面、... 详细信息
来源: 评论
采用(211)碲锌镉衬底制备碲镉汞液相外延薄膜
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激光与红外 2005年 第11期35卷 842-844页
作者: 徐庆庆 陈新强 魏彦锋 曹妩媚 赵守仁 杨建荣 中国科学院上海技术物理研究所半导体材料与器件研究中心 上海200083
文中对(211)晶向的cdznte衬底进行液相外延生长HgCdTe.获得的碲镉汞液相外延材料的组分为0.30~0.33,薄膜厚度为10~15μm,表面缺陷密度为500cm-2,材料的FWHM达到24弧秒,位错腐蚀坑密度约为2×105cm-2,该材料的表面形貌与采用(111)... 详细信息
来源: 评论
碲锌镉衬底缺陷对液相外延碲镉汞薄膜结构的影响
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激光与红外 2005年 第9期35卷 663-667页
作者: 吴刚 唐利斌 马庆华 赵增林 张梅 黄晖 姬荣斌 昆明物理研究所红外材料研发中心
采用红外显微镜、X射线双晶回摆衍射法、X射线貌相术对cdznte衬底中的沉淀相、亚结构、组分偏析等缺陷进行了研究,并对用此衬底液相外延的HgCdTe薄膜作了测试。结果显示:cdznte衬底中亚晶界处聚集的位错在外延生长中呈发散状向薄膜中延... 详细信息
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碲镉汞液相外延薄膜典型缺陷及其起源分析
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激光与红外 2009年 第3期39卷 280-284页
作者: 刘铭 周立庆 华北光电技术研究所 北京100015
通过碲镉汞液相外延薄膜的典型缺陷的研究,结合国内外的研究现状,综述了各种缺陷的特征、起因、消除方法等。通过对HgCdTe液相外延层中常见的缺陷进行归纳和总结,探讨各种缺陷的可能起因,以达到提高液相外延工艺水平的目的。
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美国TJT公司生产的高性能短波红外HgCdTe 320x256/30μm焦平面阵列(上)
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红外 2018年 第11期39卷 44-48页
作者: 张小华
Teledyne Judson Technologies(TJT)公司已经成功研制高性能短波红外(Short-wavelength Infrared,SWIR)320x256/30nm的HgCdTe焦平面阵列(Focal Plane Arrays,FPA),目前正在生产这些器件。这些FPA的截止波长一般为2.5μm或2.9pm,可以在... 详细信息
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采用(211)碲锌镉衬底制备碲镉汞液相外延薄膜
采用(211)碲锌镉衬底制备碲镉汞液相外延薄膜
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首届全国先进焦平面技术研讨会
作者: 徐庆庆 陈新强 魏彦锋 曹妩媚 赵守仁 杨建荣 中国科学院上海技术物理研究所 半导体材料与器件研究中心上海200083
文中对(211)晶向的cdznte衬底进行液相外延生长HgCdTe.获得的碲镉汞液相外延材料的组分为0.30~0.33,薄膜厚度为10~15μm,表面缺陷密度为500cm-2,材料的FWHM达到24弧秒,位错腐蚀坑密度约为2×105cm-2,该材料的表面形貌与采用(111)... 详细信息
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HgCdTe液相外延薄膜与衬底之间组分过渡层研究
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电子世界 2019年 第2期 94-94,96页
作者: 毛旭峰 黄元竞 吴军 万志远 王志斌 昆明物理研究所
通过改变薄膜的生长降温速率和生长时间,生长了一系列薄膜,并用SEM-EDS研究了其组分纵向分布。发现生长的HgCdTe液相外延薄膜与cdznte衬底之间的组分过渡层一般都在3μm以下与国外HgCdTe薄膜过渡层的水平一致,且组分过渡层厚度随着生长... 详细信息
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