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  • 1,106 篇 中文
检索条件"机构=上海中国科学院上海微系统与信息技术研究所微系统技术国家重点实验室"
1106 条 记 录,以下是41-50 订阅
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128×1线列InGaAs短波红外焦平面的研究
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红外与毫米波学报 2006年 第5期25卷 333-337页
作者: 吕衍秋 徐运华 韩冰 孔令才 亢勇 庄春泉 吴小利 张永刚 龚海梅 中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
报道了用分子束外延(MBE)方法生长的掺杂InGaAs吸收层PIN InP/InGaAs/InP双异质结外延材料,通过干法刻蚀和湿法腐蚀相结合制作台面、硫化和聚酰亚胺钝化、电极生长等工艺,制备了128×1台面正照射InGaAs探测器阵列.测试了器件的变温... 详细信息
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自差分交流偏置超导纳米线单光子探测器
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物理学报 2022年 第15期71卷 281-287页
作者: 马璐瑶 张兴雨 舒志运 肖游 张天柱 李浩 尤立星 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室上海200050 中国科学院大学 北京100039
超导纳米线单光子探测器(SNSPD)因其优异的综合性能,在量子信息、激光雷达等方面有广泛的应用.通常,SNSPD工作在直流偏置下,在时域上具有自由运行探测的优点.而在卫星激光测距、单光子激光雷达等光信号到达时间有规律的应用场景中,使用... 详细信息
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一种栅型结构微机械陀螺的研究
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中国机械工程 2003年 第3期14卷 184-186页
作者: 熊斌 车录锋 王跃林 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术国家重点实验室
介绍了一种新型结构微机械陀螺的设计及制作。新型陀螺的驱动振动和敏感检测振动的阻尼均为滑膜阻尼 ,且几乎相同 ,惯性质量块为栅型结构 ,由弹性悬臂梁支撑 ;驱动固定电极和敏感检测固定电极位于惯性质量块下方。分析了新型陀螺的工作... 详细信息
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CMOS兼容的微机械热电堆红外探测器阵列研究
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浙江大学学报(工学版) 2011年 第6期45卷 1043-1047,1107页
作者: 徐德辉 熊斌 王跃林 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术国家重点实验室 微系统技术重点实验室上海200050 中国科学院研究生院 北京100039
通过设计2种不同微机械热电堆红外探测器阵列结构,对微机械热电堆红外探测器阵列性能进行研究.阵列器件采用二维的面阵列结构,单元探测器分别以串联和并联2种方式分别组成阵列,微机械热电堆的热电偶材料采用N型多晶硅和铝,结构支撑膜为... 详细信息
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单极型量子级联激光器的发明及其进展(邀请论文)
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中国激光 2010年 第9期37卷 2213-2220页
作者: 李爱珍 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 上海200050 信息功能材料国家重点实验室 上海200050
1960年发明的固态激光器和气体激光器,1962年发明的双极型半导体激光器和1994年发明的单极型量子级联激光器(QCL)是激光领域的三个重大革命性里程碑。自1994年发明单极型QCL以来,目前已研制出波长覆盖2.63~360μm,温连续功率达瓦级... 详细信息
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极板不平行对力反馈微加速度传感器可靠工作范围的影响
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机械强度 2007年 第5期29卷 745-748页
作者: 吴浩 车录锋 王俊杰 王跃林 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术国家重点实验室
根据梳齿式电容加速度传感器极板不平行对传感器静电力和阻尼力的影响,建立有阻尼力反馈微加速度传感器的等效电学模型。通过电学模拟,分析不同阻尼情况下由工艺原因引起的电容极板不平行对传感器可靠工作范围的影响。结果表明,当传感... 详细信息
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刻蚀改变InGaN/AlGaN应变多量子阱发光特性
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光学学报 2007年 第3期27卷 494-498页
作者: 曹萌 吴惠桢 劳燕锋 刘成 谢正生 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
为了分析干法刻蚀对应变多量子阱(SMQWs)发光特性的影响,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术对金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长的InGaN/AIGaN应变多量子阱覆盖层表面刻蚀了约95 nm。通过光致发光(PL)特性表征发现,干法刻蚀后量子阱... 详细信息
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多台阶平板静电驱动的高占空比微镜阵列的研制
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光学精密工程 2011年 第8期19卷 1816-1823页
作者: 李四华 徐静 龙亮 钟少龙 吴亚明 中国科学院上海微系统与信息技术研究所微系统技术重点实验室传感技术联合国家重点实验室 上海200050 中国科学院研究生院 北京100039
为了在限定驱动电压下获得大镜面尺寸、大扭转角度的微镜阵列,提出了一种多台阶平板静电驱动结构的微镜阵列。理论分析了多台阶平板结构与平行平板结构在静电驱动时的区别。研究了多台阶平板结构的制作工艺并采用体硅加工工艺制作了多... 详细信息
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采用低温AlN插入层在氢化物气相外延中生长GaN膜
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光电子.激光 2006年 第12期17卷 1453-1456页
作者: 雷本亮 于广辉 孟胜 齐鸣 李爱珍 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
采用低温AlN插入层在氢化物气相外延(HVPE)设备中生长出高质量GaN膜。X射线衍射(XRD)测量发现,低温AlN插入层有助于提高GaN膜的结晶质量。低温(10K)光致发光(PL)谱测量表明,低温AlN插入层有助于释放GaN膜外延生长的应力。原子力显微镜(A... 详细信息
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带有阶梯缓变集电区的InP/InGaAs/InP DHBT材料研究
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固体电子学研究与进展 2008年 第1期28卷 138-141,148页
作者: 艾立鹍 徐安怀 孙浩 朱福英 齐鸣 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
设计并生长了一种新的InP/InGaAs/InP DHBT结构材料,采用在基区和集电区之间插入两层不同禁带宽度的InGaAsP四元系材料的阶梯缓变集电结结构,以解决InP/InGaAs/InP DHBT集电结导带尖峰的电子阻挡效应问题。采用气态源分子束外延(GSMBE)... 详细信息
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