检索结果-内蒙古大学图书馆

2006第五届中国(国际)纳米科技西安研讨会

作者：赵保军王英张亚非上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

纳米加工技术的发展将带来现代工业和社会文明的极大进步.本文从整体上介绍了基于传统半导体加工的纳米加工技术,纳米掩膜刻蚀加工技术,探针直接书写式纳米加工技术,纳米复制加工技术,以及其衍生的纳米加工技术的原理、特点及其应用.

关键词：纳米加工掩膜刻蚀浸笔纳米印刷微接触印刷纳米压印半导体加工

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场发射硅锥阵列的干法制备与研究

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微细加工技术 2006年第1期 56-60页

作者：王芸徐东吴茂松王莉钱开友叶枝灿蔡炳初上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 Honey well公司上海传感器实验室上海200030

阐述了用于场发射压力传感器发射阴极的硅锥阵列的干法制备工艺,用反应离子刻蚀(RIE)的方法在76 mm(3 in.)的低阻硅片上制备出52个均匀分布的10×12的硅锥阵列,得到了曲率半径为25 nm^35 nm且具有良好一致性的尖锥。当阵列的场发射... 详细信息

阐述了用于场发射压力传感器发射阴极的硅锥阵列的干法制备工艺,用反应离子刻蚀(RIE)的方法在76 mm(3 in.)的低阻硅片上制备出52个均匀分布的10×12的硅锥阵列,得到了曲率半径为25 nm^35 nm且具有良好一致性的尖锥。当阵列的场发射起始电压为1.4 V/μm,场强为9.2 V/μm时,单个硅锥的发射电流达到8.3 nA,并且性能较为稳定。

关键词：硅锥干法刻蚀 RIE 场发射

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阳极氧化法制备氧化铝纳米线薄膜及其生成机理研究

阳极氧化法制备氧化铝纳米线薄膜及其生成机理研究

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2006全国化工应用技术开发热点研讨会

作者：杨卉王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

研究了一种简单新颖的制备氧化铝纳米线薄膜的电化学方法.以阳极氧化法在高纯铝片表面制备多孔阳极氧化铝(AAO)的工艺为基础,在草酸电解液中将AAO孔壁溶解形成氧化铝纳米线,均匀覆盖在AAO有序孔道的上方,得到一种特殊结构的纳米线薄膜.... 详细信息

研究了一种简单新颖的制备氧化铝纳米线薄膜的电化学方法.以阳极氧化法在高纯铝片表面制备多孔阳极氧化铝(AAO)的工艺为基础,在草酸电解液中将AAO孔壁溶解形成氧化铝纳米线,均匀覆盖在AAO有序孔道的上方,得到一种特殊结构的纳米线薄膜.对实验产物纳米线的形貌、结构及成分进行了表征分析,并探讨了氧化铝纳米线薄膜的生成机理.

关键词：阳极氧化铝阳极氧化法纳米线薄膜

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基于NRF9E5射频无线遥控系统的设计

基于NRF9E5射频无线遥控系统的设计

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2006年电子机械和微波结构工艺学术会议

作者：左德参冯敏华彭松林曹雯陈文元上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

介绍了一种基于8051内核的无线射频传输芯片nRF9E5,采用该芯片制作了扑翼微型飞行器的遥控系统,对遥控系统的收发装置进行了硬件设计,并对设计出的硬件系统进行了软件编程和系统的调试,实验表明,该系统具有成本少、功耗低、尺寸小的特点... 详细信息

介绍了一种基于8051内核的无线射频传输芯片nRF9E5,采用该芯片制作了扑翼微型飞行器的遥控系统,对遥控系统的收发装置进行了硬件设计,并对设计出的硬件系统进行了软件编程和系统的调试,实验表明,该系统具有成本少、功耗低、尺寸小的特点,能以较高质量在200～300米范围内进行信号的无线传输.

关键词：扑翼微型飞行器遥控系统射频 nRF9E5

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采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层

采用RIE沉积法研制微纳工艺中的防粘连层

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第八届中国微米/纳米技术学术年会

作者：顾盼刘景全陈迪孙洪文上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

摩擦和粘附问题已经成为影响微机电系统(MEMS)工艺性能和可靠性的主要因素.本文针对MEMS/NEMS中微构件表面改性问题,采用反应离子刻蚀(RIE)在硅片表面沉积氟化物薄膜,以达到降低硅片的表面能,减少其摩擦和粘附的目的.实验还将RIE沉积法... 详细信息

摩擦和粘附问题已经成为影响微机电系统(MEMS)工艺性能和可靠性的主要因素.本文针对MEMS/NEMS中微构件表面改性问题,采用反应离子刻蚀(RIE)在硅片表面沉积氟化物薄膜,以达到降低硅片的表面能,减少其摩擦和粘附的目的.实验还将RIE沉积法制得的薄膜与自组装(SAMs)薄膜在浸润角、表面能、表面粗糙度等方面进行了对比.

关键词：反应离子刻蚀表面能微机电系统防粘连膜

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三维微弹簧型MEMS探卡的设计和制备

三维微弹簧型MEMS探卡的设计和制备

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第八届中国微米/纳米技术学术年会

作者：靖向萌陈迪张晔张保增刘景全陈翔朱军上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

随着IC器件上的I/O尺寸减小和密度增加,与之通过接触来进行电性能测试的探卡密度也要相应增加,传统手工制作的环氧树脂针形探卡难以满足使用要求,使用MEMS技术制作探卡成为发展的趋势,但是当前MEMS探卡的主要问题是不能承受和产生破坏... 详细信息

随着IC器件上的I/O尺寸减小和密度增加,与之通过接触来进行电性能测试的探卡密度也要相应增加,传统手工制作的环氧树脂针形探卡难以满足使用要求,使用MEMS技术制作探卡成为发展的趋势,但是当前MEMS探卡的主要问题是不能承受和产生破坏焊垫表面氧化层和污染层所需的应力.本文提出了一种简支梁结构、通过多次电镀工艺制作的三维弹性MEMS探卡,这种探卡可以承受更大应力,并且具有较小的自身电阻.针对间距为250 μm阵列排布的器件I/O,使用ANSYS有限元方法对弹簧型探卡进行了结构分析和设计,采用UV-LIGA工艺制备探卡,最后对探卡的力学性能进行了测试.

关键词：探卡微弹簧 MEMS IC器件

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新兴的纳米结构亚波长光学器件及其发展

新兴的纳米结构亚波长光学器件及其发展

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2006年国防光学及光电子学学术研讨会暨中国兵工学会光学专业委员会成立25周年年会

作者：刘汉玉王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室和薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

介绍了新颖的纳米结构亚波长光学器件的特点,从器件的基本功能特性和工作机理两个方面详细讨论了其应用状况,并阐述了纳米制造技术对亚波长光学器件发展的重要推动作用及这一领域今后的研究热点。

关键词：亚波长光学器件纳米制造纳米结构

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一种用于测试坡莫合金薄膜机械性能的拉伸模型

一种用于测试坡莫合金薄膜机械性能的拉伸模型

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第八届中国微米/纳米技术学术年会

作者：李雪萍丁桂甫安藤妙子式田光宏佐藤一雄上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 名古屋大学微纳系统工程系名古屋日本上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 名古屋大学微纳系统工程系名古屋日本

坡莫合金(Ni80Fe20)薄膜是微机电系统常用的磁性材料之一.本文介绍了一种用于测试其机械性能的单轴拉伸试验模型.此模型的特点是微小试件两端固定、且与加载机构集成在基片上,从而可减少操作工作量、提高对准精度.整个机构以微细加工方... 详细信息

坡莫合金(Ni80Fe20)薄膜是微机电系统常用的磁性材料之一.本文介绍了一种用于测试其机械性能的单轴拉伸试验模型.此模型的特点是微小试件两端固定、且与加载机构集成在基片上,从而可减少操作工作量、提高对准精度.整个机构以微细加工方法制成:坡莫合金拉伸试件以光刻和电镀技术成型,其余的加载机构以湿法蚀刻制成.实验表明:使用此机构可以简单且高精度地对薄膜试件进行拉伸试验,获得多项力学性能参数,从而为MEMS器件设计和分析提供可靠的理论基础.

关键词：微机电系统机械性能坡莫合金拉伸试验磁性材料

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掺杂Si的Ge2Sb2Te5相变薄膜的性能研究

掺杂Si的Ge2Sb2Te5相变薄膜的性能研究

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第三届上海纳米科技与产业发展研讨会

作者：乔保卫冯洁赖云锋凌云林殷茵汤庭鳌蔡炳初陈邦明上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室复旦大学微电子学系ASIC与系统国家重点实验室上海 200433 Silicon Storage Technology Inc．1171 Sonora CourtSunnyvaleCA94086USA

采用共溅射Ge2Sb2Te5合金靶和si靶的方法制备了掺杂Si的Ge2Sb2Te5薄膜。掺杂Si提高了Ge2Sb2Te5薄膜的晶化温度和从面心立方晶相向六方晶相转变的温度。掺杂Si可显著提高薄膜的晶态电阻率。当Si掺杂浓度为11.8at.％时,460℃退火后薄膜的... 详细信息

采用共溅射Ge2Sb2Te5合金靶和si靶的方法制备了掺杂Si的Ge2Sb2Te5薄膜。掺杂Si提高了Ge2Sb2Te5薄膜的晶化温度和从面心立方晶相向六方晶相转变的温度。掺杂Si可显著提高薄膜的晶态电阻率。当Si掺杂浓度为11.8at.％时,460℃退火后薄膜的晶态电阻率从1增加到11mΩ.cm。I-y特性显示,掺杂Si增加了器件的动态电阻,这有利于降低相变存储器的写电流。

关键词：晶态电阻率相变存储器相变薄膜薄膜性能晶化温度晶相转变

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位错型微机械可变光衰减器的研究

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光学学报 2005年第5期25卷 717-718页

作者：谢晓强戴旭涵赵小林丁桂甫蔡炳初上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

介绍了一种基于微机械技术实现的可变光衰减器,通过微电磁驱动器改变输入输出光纤之间的径向偏移量来调整衰减量。基于波导传输理论分析确定了器件的结构参量,并通过集成电路微细加工工艺实现了器件的制作和封装。测试结果表明,该可变... 详细信息

介绍了一种基于微机械技术实现的可变光衰减器,通过微电磁驱动器改变输入输出光纤之间的径向偏移量来调整衰减量。基于波导传输理论分析确定了器件的结构参量,并通过集成电路微细加工工艺实现了器件的制作和封装。测试结果表明,该可变光衰减器的插入损耗小于1dB,动态范围约35dB,工作电压小于5V,偏振相关损耗小于0.1dB,体积为20mm×15mm×8mm,有望为全光网提供一种低成本,高性能的光通信器件。

关键词：光学器件全光网可变光衰减器微机械电磁驱动

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