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机构

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作者

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  • 12 篇 周志敏
  • 11 篇 崔峰

语言

  • 291 篇 中文
检索条件"机构=上海交通大学微纳科学技术研究院、微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室"
291 条 记 录,以下是271-280 订阅
排序:
UV-LIGA双层齿轮加工工艺研究
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微细加工技术 2005年 第4期 69-75页
作者: 张晔 陈迪 潘欣欣 方华斌 朱军 刘景全 上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海200030
利用SU-8光刻胶UV-LIGA技术制备了双层齿轮,齿轮单层的厚度可达450μm。制备中分别采用了三种工艺路线:两次电铸、溅射种子层一次电铸和直接一次电铸,均成功地制备出了双层齿轮,并讨论了三种工艺路线各自的适用范围,即两次电铸工艺... 详细信息
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FX2N可编程控制器温度检测与控制系统的设计
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计算机信息 2005年 第9S期21卷 61-63页
作者: 陈远琪 李胜勇 赵堂忠 张卫平 广州白云山中药厂 上海交通大学微纳科学技术研究院 薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室 中国网络通信集团公司湖北省分公司
本文介绍采用了一种FX2N可编程控制器对自动高速吸塑机发热砖模块进行温度检测与控制系统实现功能的设计。在温度控制输出过程中,采用PID控制器,对温度的采集数据进行计算,然后通过可编程控制器输出对发热砖模块间接控制,同时实现数字... 详细信息
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SU-8胶光刻工艺参数优化研究
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微细加工技术 2005年 第3期 36-41,80页
作者: 张晔 陈迪 张金娅 倪智萍 朱军 刘景全 上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海200030
对基于SU-8胶的UV-LIGA技术进行了工艺优化,研究了光源波长和曝光时间对SU-8胶成型的影响。结果表明,光刻胶表面线宽变化随曝光时间增加先减少后增加,有一个极小值;侧壁角度先增加后减少,有一个极大值。通过优化光源波长、曝光时间以及... 详细信息
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不同晶化处理方式对PZT薄膜性能的影响
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纳米科技 2005年 第6期2卷 35-38页
作者: 李敏 惠春 汪静 上海交通大学微纳科学技术研究院、微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海200030
采用改进的溶胶一凝胶(sol—gel)法在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备PZT薄膜研究不同的晶化处理方式对PZT薄膜观结构、表面形貌及电学性能的影响。实验结果表明:快速晶化处理方式更有利于薄膜沿(110)方向的择优生长;并且相对... 详细信息
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纳米管场发射压力传感器结构设计与测试
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微细加工技术 2005年 第2期 69-72页
作者: 钱开友 王芸 叶枝灿 颜丙勇 徐东 蔡炳初 上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室 上海200030
研制出了碳纳米管场发射压力传感器。在结构设计中提出了场发射压力传感器台阶双层阳极变形膜结构,计算机模拟证明,这种结构具有大量程与高灵敏度的优点。同时对这种结构的形变特性进行了实验测试,为传感器结构的整体尺寸设计提供了依... 详细信息
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RF溅射制备Ta_2O_5薄膜及其电学性能的研究
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真空电子技术 2005年 第5期18卷 51-54页
作者: 曹莹 丁文 毛海平 周勇 薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院 上海200030
高介电常数薄膜广泛应用于动态随机存储器中.本文主要采用反应溅射在Si基体上制备Ta2O5薄膜,研究了在25~100nm厚度范围内薄膜的电学性能.讨论了不同退火时间对Ta2O5薄膜结构和性能的影响,测量了退火后薄膜的漏电流,并计算出其介电常数.
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基于MEMS技术的无线鼠标
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北京电子科技学学报 2005年 第4期13卷 76-78页
作者: 钱莉 陈文元 黄得志 杨华峰 张卫平 薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院 上海200030
本文介绍了一种新型的基于MEMS技术的无线鼠标。分析了构成系统的MEMS加速度计、处理器和射频收发器三个硬件组成模块,并对软件设计方法进行了介绍。
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基于旋涂的纳米压印技术研究
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微细加工技术 2005年 第4期 21-24,36页
作者: 顾盼 刘景全 孙洪文 陈迪 上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海200030
尝试使用一种新的工艺———旋涂法来达到图案复制的目的,介绍了旋涂法完成图案复制的实验过程,就印章及其复制品的尺寸作了对比,并分析了实验中观察到的缺陷。得出在精确控制实验条件的前提下,可以通过旋涂方法得到高品质纳米级图案... 详细信息
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反应离子刻蚀中的边缘效应及其补偿办法
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真空电子技术 2005年 第2期18卷 41-44页
作者: 谢晓强 戴旭涵 赵小林 丁桂甫 蔡炳初 薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院 上海200030
在反应离子刻蚀中,可以通过提高刻蚀功率来提高反应离子刻蚀速率,但此时由于反应气体浓度分布的影响,Si片中央和边缘的刻蚀速率存在着明显的差异,刻蚀量偏差最多可达±15%以上。本文分析了反应离子刻蚀中不均匀性的产生机理,并通过... 详细信息
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钛乙二醇盐的制备及其在聚酯缩聚催化与原位功能复合中的应用
钛乙二醇盐的制备及其在聚酯缩聚催化与原位功能复合中的应用
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2005年上海市颗粒学会年会
作者: 徐宏 黄伟 程存康 古宏晨 上海交通大学微纳科学技术研究院 微米/纳米加工技术国家重点实验室 薄膜与微细技术教育部重点实验室
本文首先合成了新型高抗水解性的钛的乙二醇盐,同时对其进行了结构表征.其次,以乙二醇钛为前驱体,水解合成了粒径分布均一的二氧化钛粒子并对其水解过程进行了研究.再次,将乙二醇钛用作聚对苯二甲酸乙二酯的缩聚催化剂,研究了其对聚酯... 详细信息
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