检索结果-内蒙古大学图书馆

生物工程学报 2006年第2期22卷 334-337页

作者：梁杰王英张亚非上海交通大学DNA计算机交叉团队微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200030

将链长不同的两种DNA溶解在超纯水中,分别测定它们在不同浓度不同温度下的电导行为。试验证明,同种DNA的电导率随着溶液中DNA的浓度增大而显著增大。而对于两种不同的DNA,短链DNA(1000bp)好。在本文测试的浓度范围内,短链DNA水溶液常温... 详细信息

将链长不同的两种DNA溶解在超纯水中,分别测定它们在不同浓度不同温度下的电导行为。试验证明,同种DNA的电导率随着溶液中DNA的浓度增大而显著增大。而对于两种不同的DNA,短链DNA(<50bp)的电导能力较长链DNA(>1000bp)好。在本文测试的浓度范围内,短链DNA水溶液常温下电导率达到0.99×10-4S/cm。而且,电导率随DNA浓度的变化规律与指数方程(δ/δ0=aCm)符合得很好。当温度升高时长链和短链DNA溶液的电导率都有明显增大,并且随温度的变化趋势基本一致。

关键词： DNA 电导率温度浓度

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基于金刚石薄膜的微间隙室制备

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压电与声光 2006年第6期28卷 692-695页

作者：王芸龙沪强侯中宇徐东谢宽仲蔡炳初卞建江上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030 上海交通大学电子信息与电气工程学院上海200030 上海大学材料科学与材料工程学院上海200072

采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚石薄膜介质层的MGC的制备技术，其典型结构为阳极微条宽20μm，微条间隔180μm，器件探测区面积为38m... 详细信息

采用金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层是一种新型的微间隙室（MGC）结构。该文详细介绍和讨论了采用常规的微细加工工艺制备基于金刚石薄膜介质层的MGC的制备技术，其典型结构为阳极微条宽20μm，微条间隔180μm，器件探测区面积为38mm×34mm。采用热丝CVD法制备的金刚石薄膜作为阴-阳极间绝缘介质层，厚7～8μm，具有（100）晶面结构。金刚石的刻蚀采用反应离子刻蚀，Cr作掩膜，O2和SF6为刻蚀气体，刻蚀速率为79nm／min，与Cr的刻蚀比约为20：1。实验结果表明，采用的微加工结合自套准工艺可很好地解决金刚石薄膜的制备、图形化及金属阳极电极与金刚石薄膜的相互套准等金刚石薄膜的可加工性及兼容性问题，并制备出采用金刚石薄膜作为电极间绝缘介质层的新型MGC结构。

关键词：微间隙室金刚石薄膜反应离子刻蚀热丝CVD

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曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜巨磁阻抗效应研究

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电子元件与材料 2006年第1期25卷 23-26页

作者：余先育曹莹周勇丁文商干兵周志敏高孝裕上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用磁控溅射方法，在玻璃基片上制备了曲折形三层等宽FeCuNbSiB／Cu／FeCuNbSiB多层膜。在1．40MHz下，研究了多层膜材料的巨磁阻抗（GMI）效应随外加磁场的变化关系。结果表明：在频率为5MHz、磁场强度为12kA／m下，横向和纵向GMI效... 详细信息

采用磁控溅射方法，在玻璃基片上制备了曲折形三层等宽FeCuNbSiB／Cu／FeCuNbSiB多层膜。在1．40MHz下，研究了多层膜材料的巨磁阻抗（GMI）效应随外加磁场的变化关系。结果表明：在频率为5MHz、磁场强度为12kA／m下，横向和纵向GMI效应分别达-23．5％和-16．8％。薄膜材料的纵向、横向GMI效应随外加磁场变化呈现先增后降，而纵向表现尤为明显。

关键词：电子技术巨磁阻抗效应三层等宽结构FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB薄膜微细加工技术

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基于Sn/Bi合金的低温气密性封装工艺研究

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功能材料与器件学报 2006年第3期12卷 211-214页

作者：张东梅丁桂甫汪红姜政姚锦元上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

研究了采用Sn/B i合金作为中间层的键合封装技术。通过电镀的方法在基片上形成Cr/N i/Cu/Sn、芯片上形成Cr/N i/Cu/B i多金属层,在513K、150Pa的真空环境中进行共晶键合,键合过程不需使用助焊剂,避免了助焊剂对微器件的污染。实验表明:... 详细信息

研究了采用Sn/B i合金作为中间层的键合封装技术。通过电镀的方法在基片上形成Cr/N i/Cu/Sn、芯片上形成Cr/N i/Cu/B i多金属层,在513K、150Pa的真空环境中进行共晶键合,键合过程不需使用助焊剂,避免了助焊剂对微器件的污染。实验表明:这种键合工艺具有较好的气密性,键合区合金层分布均匀,无缝隙、气泡等缺陷,键合强度较高,能够满足电子元器件和微机电系统(MEMS)可动部件低温气密性封装的要求。

关键词：微机电系统气密性封装低温键合

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磁悬浮转子微陀螺虚拟仪器测试系统

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电测与仪表 2006年第5期43卷 18-21页

作者：黄晓刚刘武陈文元张卫平吴校生上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家重点实验室上海200030

针对悬浮转子微陀螺的静态角度测试和漂移度测试任务,对微陀螺信号拾取电路的输出进行了分析,使用虚拟仪器技术研制了基于LabVIEW的测试软件。使用图形控件实现了实时线性度计算和漂移曲线的计算及绘制。该系统简化了悬浮转子微陀螺的... 详细信息

针对悬浮转子微陀螺的静态角度测试和漂移度测试任务,对微陀螺信号拾取电路的输出进行了分析,使用虚拟仪器技术研制了基于LabVIEW的测试软件。使用图形控件实现了实时线性度计算和漂移曲线的计算及绘制。该系统简化了悬浮转子微陀螺的测试过程,减少了人工操作,提高了检测效率,并且可以在测试过程中监测到实时数据,具有直观、准确的特点,成为悬浮转子微陀螺性能测试的高效工具。

关键词：微陀螺测试系统虚拟仪器电容检测

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Y/Ni催化剂中FeS的添加对SWNTs制备的影响

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材料科学与工程学报 2006年第2期24卷 215-217,214页

作者：刘小康覃文张亚非上海交通大学DNA计算机交叉团队微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200030

Y/Ni是电弧放电法制备单壁碳纳米管(SWNTs)时常用的催化剂。本文研究了FeS在Y/Ni催化剂中的添加对SWNTs制备的影响。结果发现FeS的添加不仅能增加网状产物的百分比,还能使网状产物中SWNTs的含量明显增多。这表明Y/Ni中FeS的添加能使更... 详细信息

Y/Ni是电弧放电法制备单壁碳纳米管(SWNTs)时常用的催化剂。本文研究了FeS在Y/Ni催化剂中的添加对SWNTs制备的影响。结果发现FeS的添加不仅能增加网状产物的百分比,还能使网状产物中SWNTs的含量明显增多。这表明Y/Ni中FeS的添加能使更多的石墨转化为SWNTs。导致这一结果的原因可能有两个:(1)硫可能会扩大反应腔体中适合SWNTs生长的空间;(2)硫作为交联剂能促进碳元素的石墨化。

关键词： SWNTs 制备电弧放电法硫化物

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NiTi形状记忆合金薄膜的制备及形变特性

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功能材料与器件学报 2006年第3期12卷 229-232页

作者：袁振宇徐东刘毓舒蔡炳初上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030 上海交通大学材料科学与工程学院上海200030

研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成了微驱动器,观察并分析了该器件的形变特性。结果表明:原位加热溅射可以获得具有织构的晶化薄膜;用该薄膜... 详细信息

研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成了微驱动器,观察并分析了该器件的形变特性。结果表明:原位加热溅射可以获得具有织构的晶化薄膜;用该薄膜制备的驱动器回复率为0.76%。

关键词： NiTi薄膜形状记忆合金织构微驱动器

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纳米薄膜的光学参数及厚度提取方法研究

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光电子技术 2006年第1期26卷 26-29页

作者：金文豪徐东杨莺歌张亚非上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层T iO2、A u纳米薄膜和双层T iO2/A u纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种... 详细信息

采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层T iO2、A u纳米薄膜和双层T iO2/A u纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种拟合方法是以非线性约束优化理论为基础的,具有透射光谱易测量、计算精度高等特点。

关键词：薄膜光学光学常数非线性约束优化算法

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微纳工艺中防粘连自组装薄膜技术的研究

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微细加工技术 2006年第6期 36-39页

作者：顾盼刘景全孙洪文陈迪上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

研究在硅基表面形成1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷防粘自组装膜的方法和特性。成功地在硅基表面形成了防粘连自组装薄膜,从浸润角、表面能、薄膜成分和表面粗糙度几个角度对该薄膜进行了分析,证实薄膜可将硅基表面能降低47.35%,可满足半导... 详细信息

研究在硅基表面形成1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷防粘自组装膜的方法和特性。成功地在硅基表面形成了防粘连自组装薄膜,从浸润角、表面能、薄膜成分和表面粗糙度几个角度对该薄膜进行了分析,证实薄膜可将硅基表面能降低47.35%,可满足半导体工艺中的微纳器件加工工艺的防粘连涂层的需要。

关键词： 1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷自组装膜微机电系统防粘连膜

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锌/碳纳米管复合电沉积薄膜性能研究

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电镀与涂饰 2006年第11期25卷 13-16页

作者：吴惠箐丁桂甫王裕超汪红上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

通过复合电沉积技术制备了纳米叠层锌/碳纳米管和光亮锌/碳纳米管2种复合薄膜,薄膜的拉曼光谱验证了锌与碳纳米管的共沉积。薄膜表面的场发射扫描电子显微镜观测显示碳纳米管表面的金属包覆层连续且均匀,预示着良好的界面结合。在2种薄... 详细信息

通过复合电沉积技术制备了纳米叠层锌/碳纳米管和光亮锌/碳纳米管2种复合薄膜,薄膜的拉曼光谱验证了锌与碳纳米管的共沉积。薄膜表面的场发射扫描电子显微镜观测显示碳纳米管表面的金属包覆层连续且均匀,预示着良好的界面结合。在2种薄膜的断口和裂纹处分别发现了被拔出基体和桥联的碳纳米管,证实了碳管对基体具有有效的增强作用。

关键词：碳纳米管金属基复合材料复合电沉积薄膜

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