检索结果-内蒙古大学图书馆

MEMS中永磁材料的微细加工技术研究进展

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传感器与微系统 2011年第5期30卷 1-4,7页

作者：陶凯丁桂甫杨卓青王佩红吴义伯汪红王艳上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240 安徽大学物理与材料科学学院安徽合肥230039

概述了永磁材料在微机电系统(MEMS)中集成制造方法的研究进展,总结了当前用于制造永磁薄膜的电沉积、溅射、脉冲激光沉积(PLD)和粘结磁体微图形化等4种主要加工技术的优缺点和研究现状,并对未来的发展方向提出了一些观点。

关键词：微机电系统永磁材料永磁薄膜微细加工

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NiTi形状记忆合金薄膜的制备及形变特性

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功能材料与器件学报 2006年第3期12卷 229-232页

作者：袁振宇徐东刘毓舒蔡炳初上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030 上海交通大学材料科学与工程学院上海200030

研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成了微驱动器,观察并分析了该器件的形变特性。结果表明:原位加热溅射可以获得具有织构的晶化薄膜;用该薄膜... 详细信息

研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成了微驱动器,观察并分析了该器件的形变特性。结果表明:原位加热溅射可以获得具有织构的晶化薄膜;用该薄膜制备的驱动器回复率为0.76%。

关键词： NiTi薄膜形状记忆合金织构微驱动器

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汽车用钢板纳米晶镀锌层在氯化钠溶液中的腐蚀机理

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电镀与涂饰 2011年第1期30卷 10-13页

作者：苏永其刘瑞姚锦元汪红蒋为桥丁桂甫上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细加工技术教育部重点实验室微米/纳米加工国家重点实验室上海200240 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所国际实验室江苏苏州215125

将汽车用钢板置于碱性镀锌液中电镀，制备了纳米晶镀锌层。采用场发射扫描电子显微镜（FE—SEM）观察镀锌层在3．5％NaCl溶液中腐蚀前后的表面形貌，以能谱仪（EDS）研究腐蚀产物组成，运用塔菲尔（Tafel）曲线和电化学阻抗谱（EIS）考... 详细信息

将汽车用钢板置于碱性镀锌液中电镀，制备了纳米晶镀锌层。采用场发射扫描电子显微镜（FE—SEM）观察镀锌层在3．5％NaCl溶液中腐蚀前后的表面形貌，以能谱仪（EDS）研究腐蚀产物组成，运用塔菲尔（Tafel）曲线和电化学阻抗谱（EIS）考察纳米晶镀锌层的电化学腐蚀行为。结果表明，镀锌层由直径为80～100nm的针状结构的纳米晶组成；在3．5％NaCl溶液中，经24h和48h腐蚀后，腐蚀电流密度明显增大：经过48h腐蚀后，有腐蚀团聚物出现；随着腐蚀时间的延长，腐蚀产物的电阻减小而电容增大。

关键词：镀锌纳米晶镀层钢板腐蚀机理腐蚀电流密度电化学阻抗谱

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MEMS铂薄膜温度传感器的电阻温度系数研究

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传感技术学报 2020年第6期33卷 825-829页

作者：侯晓伟刘莉娜吕阳郑良广张丛春宁波中车时代传感技术有限公司中国中车传感测量技术研发中心浙江宁波315021 湖南汽车工程职业学院车辆工程学院湖南株洲412000 上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细加工技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家重点实验室上海200240

采用MEMS工艺在硅衬底上制备了铂电阻薄膜温度传感器,在500℃、600℃、700℃和800℃四个温度点下对铂电阻样品进行了热处理,对样品在退火前后的电阻值进行了测试和对比分析。对800℃的退火样品的阻温特性进行了多次测量,其在零摄氏度的... 详细信息

采用MEMS工艺在硅衬底上制备了铂电阻薄膜温度传感器,在500℃、600℃、700℃和800℃四个温度点下对铂电阻样品进行了热处理,对样品在退火前后的电阻值进行了测试和对比分析。对800℃的退火样品的阻温特性进行了多次测量,其在零摄氏度的电阻温度系数可达3150×10^-6/K。另外还对退火后的铂电阻样品阻温特性进行了多次升温降温测试,其升温曲线和降温曲线基本重合,表明退火处理可以明显的改善铂薄膜温度传感器的稳定性和重复性。

关键词：铂电阻温度传感器微机电系统热处理电阻温度系数

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静电悬浮转子微陀螺及其关键技术

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中国惯性技术学报 2005年第6期13卷 61-67页

作者：崔峰苏宇锋张卫平吴校生陈文元赵小林上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家重点实验室上海200030

静电悬浮转子微陀螺具有比振动式微陀螺精度高的潜在优点,并可同时测量二轴角速度和三轴线加速度。介绍了静电悬浮转子微陀螺的研究现状。对该静电悬浮转子微陀螺/加速度计的工作原理、特点进行了分析,并对实现高精度静电悬浮转子微陀螺... 详细信息

静电悬浮转子微陀螺具有比振动式微陀螺精度高的潜在优点,并可同时测量二轴角速度和三轴线加速度。介绍了静电悬浮转子微陀螺的研究现状。对该静电悬浮转子微陀螺/加速度计的工作原理、特点进行了分析,并对实现高精度静电悬浮转子微陀螺/加速度计的关键技术如静电稳定悬浮、微位移检测控制、静电恒速旋转驱动、微机械加工和真空封装技术等进行了探讨。指出这一新颖MEMS陀螺是高精度多轴集成微惯性传感器技术发展的一个重要方向,具有广阔的应用前景和较大的发展潜力。

关键词：微机电系统微陀螺微加速度计转子静电悬浮

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UV-LIGA双层微齿轮加工工艺研究

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微细加工技术 2005年第4期 69-75页

作者：张晔陈迪潘欣欣方华斌朱军刘景全上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

利用SU-8光刻胶UV-LIGA技术制备了双层微齿轮,齿轮单层的厚度可达450μm。制备中分别采用了三种工艺路线:两次电铸、溅射种子层一次电铸和直接一次电铸,均成功地制备出了双层微齿轮,并讨论了三种工艺路线各自的适用范围,即两次电铸工艺... 详细信息

利用SU-8光刻胶UV-LIGA技术制备了双层微齿轮,齿轮单层的厚度可达450μm。制备中分别采用了三种工艺路线:两次电铸、溅射种子层一次电铸和直接一次电铸,均成功地制备出了双层微齿轮,并讨论了三种工艺路线各自的适用范围,即两次电铸工艺路线适用于对机械强度要求不高的各类多层微结构器件,一次电铸工艺路线适用于对机械强度要求较高的结构,其中溅射种子层工艺适用于深宽比较小的多层微结构模具,而直接电铸工艺适用于深宽比较大且层间直径相差较小的多层微结构器件。

关键词： UV-LIGA技术 SU-8胶双层微齿轮

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金纳米粒子作掩模的硅纳米柱阵列的加工

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微细加工技术 2007年第1期 24-27+31页

作者：赵保军王英张亚非上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海210030 上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室

利用自组装的方法在硅基片表面形成一层均匀的金纳米粒子掩模,分析了偶联剂对自组装的影响,以金纳米粒子作掩模进行反应离子刻蚀,研究了刻蚀时间对硅纳米柱阵列的影响,提供了一种简单、便宜并且有效的在硅基底上大面积形成纳米柱阵列的... 详细信息

利用自组装的方法在硅基片表面形成一层均匀的金纳米粒子掩模,分析了偶联剂对自组装的影响,以金纳米粒子作掩模进行反应离子刻蚀,研究了刻蚀时间对硅纳米柱阵列的影响,提供了一种简单、便宜并且有效的在硅基底上大面积形成纳米柱阵列的纳米加工方法。实验中发现,超过一定刻蚀时间时,有过刻蚀现象发生,在120 s刻蚀时间下,得到了直径小于20 nm,深宽比高达10∶1以上规则、致密、大面积分布的硅纳米柱或硅纳米锥状结构。

关键词：自组装金纳米粒子纳米柱阵列反应离子刻蚀

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纳米薄膜的光学参数及厚度提取方法研究

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光电子技术 2006年第1期26卷 26-29页

作者：金文豪徐东杨莺歌张亚非上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层T iO2、A u纳米薄膜和双层T iO2/A u纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种... 详细信息

采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层T iO2、A u纳米薄膜和双层T iO2/A u纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种拟合方法是以非线性约束优化理论为基础的,具有透射光谱易测量、计算精度高等特点。

关键词：薄膜光学光学常数非线性约束优化算法

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SU-8胶模去除技术

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微细加工技术 2007年第1期 1-6页

作者：崔峰靖向萌赵小林丁桂甫张卫平陈文元上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细加工技术教育部重点实验室上海200030

对各种去胶技术的原理、优缺点及其适用场合进行了综述,并结合本实验室的电铸Ni结构去胶试验,对强碱熔盐浴氧化、强酸氧化等经济有效的去胶方法进行了有益发展。最后介绍了SU-8辅助去胶技术,如辅助剥离牺牲层技术、辅助电铸结构抵抗去... 详细信息

对各种去胶技术的原理、优缺点及其适用场合进行了综述,并结合本实验室的电铸Ni结构去胶试验,对强碱熔盐浴氧化、强酸氧化等经济有效的去胶方法进行了有益发展。最后介绍了SU-8辅助去胶技术,如辅助剥离牺牲层技术、辅助电铸结构抵抗去胶剥落的桩基形成技术。提出了一种与多层互连电路微制造兼容的金属桩基形成技术,并采用强酸氧化去胶方法在制作有互联电路及薄膜电极的基片上成功地集成了200μm厚的Ni结构。

关键词：微机电系统 SU-8 去胶高深宽比桩基

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微纳工艺中防粘连自组装薄膜技术的研究

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微细加工技术 2006年第6期 36-39页

作者：顾盼刘景全孙洪文陈迪上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

研究在硅基表面形成1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷防粘自组装膜的方法和特性。成功地在硅基表面形成了防粘连自组装薄膜,从浸润角、表面能、薄膜成分和表面粗糙度几个角度对该薄膜进行了分析,证实薄膜可将硅基表面能降低47.35%,可满足半导... 详细信息

研究在硅基表面形成1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷防粘自组装膜的方法和特性。成功地在硅基表面形成了防粘连自组装薄膜,从浸润角、表面能、薄膜成分和表面粗糙度几个角度对该薄膜进行了分析,证实薄膜可将硅基表面能降低47.35%,可满足半导体工艺中的微纳器件加工工艺的防粘连涂层的需要。

关键词： 1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷自组装膜微机电系统防粘连膜

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