检索结果-内蒙古大学图书馆

中国光学学会2006年学术大会

作者：戴旭涵赵小林丁桂甫汪红蔡炳初薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院

微光机电系统（MOEMS）技术的出现让人们看到了光学系统微型化的现实可行性。虽然硅为基础的MOEMS技术借助IC工业的技术积累而占据一定优势,但是,更多的器件需要基于非硅材料制造,并且材料的特性往往起决定性作用,非硅基表面微加工技术...

微光机电系统（MOEMS）技术的出现让人们看到了光学系统微型化的现实可行性。虽然硅为基础的MOEMS技术借助IC工业的技术积累而占据一定优势,但是,更多的器件需要基于非硅材料制造,并且材料的特性往往起决定性作用,非硅基表面微加工技术与表面硅微加工技术具有很多相似之处,是一类借助于非硅基薄膜材料微细加工技术,通过叠层方式实现多层非硅三维微结构成型的加工技术,它为新型功能器件和微系统创新研究提供了更多的材料选择,能够显著拓展MOEMS技术的发展空间。

关键词：

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金属基微型光纤定位夹及其在光电子器件封装耦合中的应用

金属基微型光纤定位夹及其在光电子器件封装耦合中的应用

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中国光学学会2006年学术大会

目前,在光电子器件的封装耦合中,广泛运用了被动定位对准(passive alignment)技术,采用硅V型槽实现光纤与光纤、光纤与管芯的低成本、高精度对准。但如何在对准后将光纤固定在V型槽内仍然存在问题。

关键词：金属基光电子器件定位夹

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射频螺线管微电感的设计和仿真

射频螺线管微电感的设计和仿真

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第八届中国微米/纳米技术学术年会

作者：方东明赵小林王西宁周勇上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

为了获得高性能MEMS螺线管微电感,本文考虑了几何结构参数对微电感性能的影响,用HFSS软件对特定结构的微电感进行仿真,仿真结果与实验研制的测量结果基本相符.测试结果表明微电感在较宽的工作频率范围内具有高Q值,可以应用在无线通讯领域.

关键词：螺线管微电感 HFSS 品质因素射频微机电系统

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应用于集成光电子领域的先进散热器关键技术的研究

应用于集成光电子领域的先进散热器关键技术的研究

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第十届全国热管会议

作者：戴旭涵赵小林丁桂甫蔡炳初薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200030

本文将单晶硅片的湿法刻蚀工艺与微电铸掩膜制备技术及刻蚀液体系的研制相结合，为工业规模生产微通道散热器及微热管提供了一种实用的先进高技术工艺，所研制的样品，其肋片厚度、间隙均小于50微米，结构深宽比大于10;在硅硼玻璃上所... 详细信息

本文将单晶硅片的湿法刻蚀工艺与微电铸掩膜制备技术及刻蚀液体系的研制相结合，为工业规模生产微通道散热器及微热管提供了一种实用的先进高技术工艺，所研制的样品，其肋片厚度、间隙均小于50微米，结构深宽比大于10;在硅硼玻璃上所加工的沟槽底部粗糙度＜0.5um，深度>220um;散热片与导水板的键合强度最高能够承受6个大气压的高压水流。可以为国内这方面的器件研究提供可靠的加工技术服务。

关键词：热管散热器微通道湿法刻蚀微电铸掩膜集成光电子

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适于MEMS器件的低应力Ni-W纳米晶薄膜的制备

适于MEMS器件的低应力Ni-W纳米晶薄膜的制备

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2006上海电子互联技术及材料国际论坛

作者：汪红丁桂甫赵小林姚锦元朱军王志民上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

以高强度、高耐腐蚀性Ni-W合金为研究对象,探讨了柠檬酸胺-HEDP体系中,各种电沉积工艺参数以及热处理条件对Ni-W合金薄膜应力的影响规律及其在微喷嘴模具上的应用.研究结果表明,在优化的工艺条件下,可获得应力为230 MPa、硬度高达988 H... 详细信息

以高强度、高耐腐蚀性Ni-W合金为研究对象,探讨了柠檬酸胺-HEDP体系中,各种电沉积工艺参数以及热处理条件对Ni-W合金薄膜应力的影响规律及其在微喷嘴模具上的应用.研究结果表明,在优化的工艺条件下,可获得应力为230 MPa、硬度高达988 HV、无裂纹的纳米晶Ni-W薄膜材料,为其在MEMS微器件、微模具制备上的应用提供了有效途径。

关键词： MEMS器件 NiW纳米晶薄膜微机电系统电沉积工艺热处理

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压电型微悬臂梁制备中RIE刻蚀硅工艺的研究

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微细加工技术 2006年第5期 47-50,54页

作者：董璐方华斌刘景全徐东徐峥谊蔡炳初上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 Honeywell公司上海传感器实验室上海200030

介绍了一种压电型微悬臂梁的制作工艺流程,重点研究了其中硅的反应离子刻蚀(RIE)工艺,分析了工艺参数对刻蚀速率、均匀性和选择比的影响,提出通过适当调整气体流量、射频功率和工作气压,以加快刻蚀速率,改善均匀性,提高选择比。研究表明... 详细信息

介绍了一种压电型微悬臂梁的制作工艺流程,重点研究了其中硅的反应离子刻蚀(RIE)工艺,分析了工艺参数对刻蚀速率、均匀性和选择比的影响,提出通过适当调整气体流量、射频功率和工作气压,以加快刻蚀速率,改善均匀性,提高选择比。研究表明,在SF6流量为20 mL/min,射频功率为20 W,工作气压为8.00 Pa的工艺条件下,硅刻蚀速率可以提高到401 nm/min,75 mm(3 in.)基片范围内的均匀性为±3.85%,硅和光刻胶的刻蚀选择比达到7.80。为制备压电悬臂梁或其它含功能薄膜的微结构提供了良好的参考。

关键词：压电型微悬臂梁反应离子刻蚀刻蚀速度均匀性选择比

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LB技术制备金纳米粒子单层膜

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微纳电子技术 2006年第2期43卷 85-88+106页

作者：曲鹏王英张亚非上海200030 上海交通大学DNA计算机交叉团队上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室

利用LB技术在Si(100)基片上制作了金纳米粒子单层膜,采用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层膜的表面形貌进行表征。实验结果表明,将表面压控制在22mN/m～26mN/m进行拉膜,可以得到大面积金纳米粒子的均匀致密单层膜。研究结... 详细信息

利用LB技术在Si(100)基片上制作了金纳米粒子单层膜,采用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层膜的表面形貌进行表征。实验结果表明,将表面压控制在22mN/m～26mN/m进行拉膜,可以得到大面积金纳米粒子的均匀致密单层膜。研究结果对于采用金纳米粒子单层膜构建DNA传感器和单电子器件方面具有重要的应用价值。

关键词：金纳米粒子 LB技术扫描电子显微镜原子力显微镜

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新兴的纳米结构亚波长光学器件及其发展

新兴的纳米结构亚波长光学器件及其发展

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2006年国防光学及光电子学学术研讨会暨中国兵工学会光学专业委员会成立25周年年会

作者：刘汉玉王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室和薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

介绍了新颖的纳米结构亚波长光学器件的特点,从器件的基本功能特性和工作机理两个方面详细讨论了其应用状况,并阐述了纳米制造技术对亚波长光学器件发展的重要推动作用及这一领域今后的研究热点。

关键词：亚波长光学器件纳米制造纳米结构

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一种用于测试坡莫合金薄膜机械性能的拉伸模型

一种用于测试坡莫合金薄膜机械性能的拉伸模型

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第八届中国微米/纳米技术学术年会

作者：李雪萍丁桂甫安藤妙子式田光宏佐藤一雄上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 名古屋大学微纳系统工程系名古屋日本上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 名古屋大学微纳系统工程系名古屋日本

坡莫合金(Ni80Fe20)薄膜是微机电系统常用的磁性材料之一.本文介绍了一种用于测试其机械性能的单轴拉伸试验模型.此模型的特点是微小试件两端固定、且与加载机构集成在基片上,从而可减少操作工作量、提高对准精度.整个机构以微细加工方... 详细信息

坡莫合金(Ni80Fe20)薄膜是微机电系统常用的磁性材料之一.本文介绍了一种用于测试其机械性能的单轴拉伸试验模型.此模型的特点是微小试件两端固定、且与加载机构集成在基片上,从而可减少操作工作量、提高对准精度.整个机构以微细加工方法制成:坡莫合金拉伸试件以光刻和电镀技术成型,其余的加载机构以湿法蚀刻制成.实验表明:使用此机构可以简单且高精度地对薄膜试件进行拉伸试验,获得多项力学性能参数,从而为MEMS器件设计和分析提供可靠的理论基础.

关键词：微机电系统机械性能坡莫合金拉伸试验磁性材料

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位错型微机械可变光衰减器的研究

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光学学报 2005年第5期25卷 717-718页

作者：谢晓强戴旭涵赵小林丁桂甫蔡炳初上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

介绍了一种基于微机械技术实现的可变光衰减器,通过微电磁驱动器改变输入输出光纤之间的径向偏移量来调整衰减量。基于波导传输理论分析确定了器件的结构参量,并通过集成电路微细加工工艺实现了器件的制作和封装。测试结果表明,该可变... 详细信息

介绍了一种基于微机械技术实现的可变光衰减器,通过微电磁驱动器改变输入输出光纤之间的径向偏移量来调整衰减量。基于波导传输理论分析确定了器件的结构参量,并通过集成电路微细加工工艺实现了器件的制作和封装。测试结果表明,该可变光衰减器的插入损耗小于1dB,动态范围约35dB,工作电压小于5V,偏振相关损耗小于0.1dB,体积为20mm×15mm×8mm,有望为全光网提供一种低成本,高性能的光通信器件。

关键词：光学器件全光网可变光衰减器微机械电磁驱动

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