检索结果-内蒙古大学图书馆

微电子学与计算机 2010年第7期27卷 250-252页

作者：王祺皓陈佳品李振波薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200240

多径问题是影响GPS信号接收的主要干扰问题.通过研究GPS接收机的基本原理和实现方式,利用Xilinx公司的xc3s1000型号FPGA,设计一个仿真实验平台.针对多径处理的需要,使用Verilog HDL语言设计了运用反馈移位寄存器产生的C/A码序列及起始... 详细信息

多径问题是影响GPS信号接收的主要干扰问题.通过研究GPS接收机的基本原理和实现方式,利用Xilinx公司的xc3s1000型号FPGA,设计一个仿真实验平台.针对多径处理的需要,使用Verilog HDL语言设计了运用反馈移位寄存器产生的C/A码序列及起始位置脉冲,移相、衰减、混合、AGC(自动增益控制)模块和码环积分相关器,解决了几个关键技术与问题,实现了数据的传送与存储.

关键词：多径 GPS接收机 AGC 相关器 FPGA

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新型聚酰亚胺图形化工艺制备视网膜电极

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微纳电子技术 2010年第2期47卷 105-109页

作者：徐旻陈迪周然陈翔朱军刘景全上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

介绍了一种新型的、基于Cu牺牲层的聚酰亚胺图形化方法制备视网膜电极的MEMS工艺,并对其电化学性能进行了表征。该工艺创新性地以Cu作为衬底聚酰亚胺图形化的牺牲层,以PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为剥离层,以聚酰亚胺作为封装材料,以惰性金... 详细信息

介绍了一种新型的、基于Cu牺牲层的聚酰亚胺图形化方法制备视网膜电极的MEMS工艺,并对其电化学性能进行了表征。该工艺创新性地以Cu作为衬底聚酰亚胺图形化的牺牲层,以PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为剥离层,以聚酰亚胺作为封装材料,以惰性金属作为电极保护层材料,通过电铸、牺牲层和抛光打磨工艺,制备出可以自释放的柔性视网膜电极;随后,对器件进行封装,并对器件的表面形貌和电学性能进行了表征。视网膜电极器件厚度50μm,电路线宽50μm,阻抗104～105Ω。通过该工艺制得的人造视网膜电极具有柔软无伤害、生物相容以及低成本的优点。

关键词： MEMS 生物电极牺牲层聚酰亚胺光刻

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基于GP4020的GPS接收平台的设计及实现

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微电子学与计算机 2010年第6期27卷 212-215页

作者：陈凯陈佳品李振波薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200240

介绍了一种基于GP4020的GPS信号处理平台的具体实现.该平台采用GP2015芯片作为GPS接收机的射频前端,使用ZARLINK公司推出的GP4020芯片进行GPS信号的基带处理,该芯片内嵌ARM7核作为微处理器,在上位机显示处理结果.具体包括了接收机外围... 详细信息

介绍了一种基于GP4020的GPS信号处理平台的具体实现.该平台采用GP2015芯片作为GPS接收机的射频前端,使用ZARLINK公司推出的GP4020芯片进行GPS信号的基带处理,该芯片内嵌ARM7核作为微处理器,在上位机显示处理结果.具体包括了接收机外围扩展电路的设计以及软件开发环境的建立和软件开发过程.该平台可用以测试不同的GPS算法,扩展性强,应用前景广泛.

关键词： GPS接收机 G94020 ARM 基带信号处理

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碳纳米管非对称接触结构制作及电学性能研究

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微纳电子技术 2010年第5期47卷 273-276页

作者：胡林陈长鑫张亚非上海交通大学微纳科学技术研究院微米纳米加工技术国家级重点实验室薄膜和微细技术教育部重点实验室

实验研究了多根或单根单壁碳纳米管与非对称金属电极接触结构的制作方法。先用介电泳方法(DEP)将碳纳米管定向排列在Au电极对之间,再用电子束光刻(EBL)在碳纳米管的一端加工Al电极,获得多根碳纳米管与金铝电极的非对称接触结构。先用EBL... 详细信息

实验研究了多根或单根单壁碳纳米管与非对称金属电极接触结构的制作方法。先用介电泳方法(DEP)将碳纳米管定向排列在Au电极对之间,再用电子束光刻(EBL)在碳纳米管的一端加工Al电极,获得多根碳纳米管与金铝电极的非对称接触结构。先用EBL在Au电极对一端覆盖Al电极,再用DEP排列碳纳米管,实现单根碳管与金铝电极的非对称接触结构。非对称结构器件的电学测试研究表明,器件的I-V曲线不再对称,呈现出整流特性。

关键词：单壁碳纳米管介电泳电子束光刻非对称整流

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玻璃衬底上RF磁控溅射CIGS薄膜的研究

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微纳电子技术 2010年第11期47卷 674-679页

作者：钱群张丛春杨春生丁桂甫侯捷上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

采用射频磁控溅射的工艺,在玻璃衬底上制备得到了铜铟镓硒(CIGS)薄膜。讨论了衬底温度、溅射气压、退火与否对CIGS薄膜与衬底结合力、显微形貌、晶化程度及电阻率的影响。通过能谱(EDS)测试证明了溅射的CIGS薄膜Ga组分比符合高效吸收层... 详细信息

采用射频磁控溅射的工艺,在玻璃衬底上制备得到了铜铟镓硒(CIGS)薄膜。讨论了衬底温度、溅射气压、退火与否对CIGS薄膜与衬底结合力、显微形貌、晶化程度及电阻率的影响。通过能谱(EDS)测试证明了溅射的CIGS薄膜Ga组分比符合高效吸收层的要求,通过X射线衍射(XRD)与扫描电子显微镜(SEM)测试,证明了衬底加热溅射、溅射后450℃空气退火可以有效提高CIGS薄膜与衬底的结合并提高晶化程度。通过四探针法电阻率测试证明了低气压条件下溅射、溅射后退火可以有效降低CIGS的电阻率,通过透射光谱分析证明了CIGS薄膜对可见光有高吸收效率,适合作为太阳电池的高效吸收层。

关键词：太阳电池射频磁控溅射铜铟镓硒(CIGS) 晶化电阻率

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Si／TiNi双层结构SMA电热驱动器的仿真和制造

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微纳电子技术 2010年第2期47卷 93-98页

作者：王亚攀吴义伯张小波张丛春杨春生上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

使用射频磁控溅射法,在Si片上沉积了TiNi形状记忆合金薄膜,分别采用能谱色散光谱仪(EDS)和差示扫描热量分析(DSC)方法测试了薄膜的成分和相变特征温度,并通过给形状记忆合金(SMA)薄膜加热及冷却,观察薄膜的形变恢复情况,定性测试了SMA... 详细信息

使用射频磁控溅射法,在Si片上沉积了TiNi形状记忆合金薄膜,分别采用能谱色散光谱仪(EDS)和差示扫描热量分析(DSC)方法测试了薄膜的成分和相变特征温度,并通过给形状记忆合金(SMA)薄膜加热及冷却,观察薄膜的形变恢复情况,定性测试了SMA的形状记忆特性。在此基础上,设计并制造了一种SMA薄膜/Si膜复合膜悬臂梁结构的微驱动器。在室温下,SMA电热驱动器的悬臂梁是平直的;由于TiNi合金具有相变和形状记忆特性,当TiNi电极加上电压后,悬臂梁会产生弯曲。测试结果表明,在2.0V电压下,驱动器悬臂梁端部的驱动位移可达到70.5μm,功耗为20mW。

关键词：电热驱动器双层结构 TiNi基形状记忆合金薄膜 ANSYS仿真 Si微细加工技术

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表面等离子体透射增强提高光刻分辨率的模拟

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微纳电子技术 2010年第4期47卷 253-256页

作者：朱明轩李海华王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形... 详细信息

讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形底角角度变化对透射率和分辨率的影响。当角度在57°～64°之间变化时,得出三角形脊部有透射增强现象产生,最大透射振幅是入射光的4.2倍,分辨率为(30±5)nm。因为凹槽部分透射光强度很小,因此具有很好的分辨率。通过对比周期和非周期边界条件模拟,三角形脊的形状是产生透射增强现象的原因。

关键词：表面等离子体激元纳米光刻 FDTD方法光刻分辨率光栅

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基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜

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半导体技术 2010年第4期35卷 349-351页

作者：陈少军李以贵上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的... 详细信息

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的成本。分析讨论了基于电子束制作掩膜版和基于准分子激光制作掩膜版两种方法,得出了准分子激光制作的掩膜在成本和时间上都有优势的结论。将通过准分子激光技术制作的掩膜置于X射线下,在PMMA基板上可以加工很好的三维微结构。通过依次直接激光烧蚀金薄膜可以加工具有一系列微球状结构的吸收体图形,再将此图形转写到PMMA基板上,可以得到的最低像素为25μm。

关键词：准分子激光掩膜版投影 LIGA掩膜版 PMMA基板

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纳米压印中残余胶刻蚀工艺研究

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半导体技术 2010年第4期35卷 357-360页

作者：黄康李海华王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米技术国家重点实验室薄膜与微细加工技术教育部重点实验室上海200240

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会... 详细信息

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会有少许下降;而在刻蚀气体中加入少量SF_6且压强及流量较大时,各部分的刻蚀速率一致性较好。由此得到了一个优化后的刻蚀条件,反应气体:O_2+SF_6,气体流量分别为40 cm^3/min和5 cm^3/min,压强9.31 Pa,RF功率20 W,此时刻胶速率可稳定在0.8μm/min左右,且均匀性较好。

关键词：纳米压印反应离子刻蚀去胶速率正交试验

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提高微结构表面在镀液中的润湿性

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微纳电子技术 2010年第11期47卷 708-712,717页

作者：李光杨汪红谭姣姣杨卓青姚锦元丁桂甫上海交通大学微纳米科学技术研究院微/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜和微细技术教育部重点实验室上海200240 江南大学信息工程学院江苏无锡214122

为提高微结构在氨基磺酸镍镀液中的润湿性,研究了在该镀液中加入十二烷基硫酸钠(SDS)作为润湿剂和对微结构表面进行氧等离子体改性这两种方法的效果。测试了4种含不同SDS浓度的氨基磺酸镍镀液的极化曲线。运用傅里叶变化红外光谱分析(FT... 详细信息

为提高微结构在氨基磺酸镍镀液中的润湿性,研究了在该镀液中加入十二烷基硫酸钠(SDS)作为润湿剂和对微结构表面进行氧等离子体改性这两种方法的效果。测试了4种含不同SDS浓度的氨基磺酸镍镀液的极化曲线。运用傅里叶变化红外光谱分析(FTIR),对不同改性时间下的光刻胶表面成分进行了表征。提出了一种表征微结构润湿情况的方法。实验证明,添加SDS不影响镍在氨基磺酸镍溶液中的析出电位。FTIR的测试结果表明,通过氧等离子体改性在光刻胶表面引入了亲水的羟基,从而增强了由光刻胶构造的微结构的润湿性。研究发现,深宽比为1、线宽为50μm的微结构阵列经过氧等离子体改性5s后,在15min之内可被含SDS0.5kg/m3的氨基磺酸镍镀液完全浸润。

关键词：光刻胶表面改性接触角润湿性微结构

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