检索结果-内蒙古大学图书馆

传感技术学报 2010年第5期23卷 665-669页

作者：周镇威杨卓青蔡豪刚丁桂甫上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 哥伦比亚大学机械工程系纽约100276902

针对带有凸条平板的MEMS结构压膜阻尼效应,利用基本Reynolds方程和特定的第一类边界条件,给出一种压膜阻尼系数的解析分析方法。在带有凸条平板的MEMS微开关设计与制作的基础上,利用引入该压膜阻尼系数的Simulink模型仿真分析了微开关... 详细信息

针对带有凸条平板的MEMS结构压膜阻尼效应,利用基本Reynolds方程和特定的第一类边界条件,给出一种压膜阻尼系数的解析分析方法。在带有凸条平板的MEMS微开关设计与制作的基础上,利用引入该压膜阻尼系数的Simulink模型仿真分析了微开关的动态响应特性,得到的阈值加速度与其落锤测试结果是一致的,从而验证了所提出的带有凸条平板压膜阻尼效应理论分析的正确性。

关键词：微机电系统压膜阻尼带凸条平板解析解

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毫米波缝隙天线的三维非硅微加工制造技术

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微纳电子技术 2010年第4期47卷 242-248页

作者：陆闻静宿智娟丁桂甫上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240

讨论了面向毫米波缝隙天线集成制造应用的三维非硅微加工技术方案,重点解决多种材料兼容、多层复杂微结构集成和大悬空高度等独特难题。针对天线器件中金属和介质材料的结合,提出了加法工艺、减法工艺以及一种通用型图形化微加工工艺,... 详细信息

讨论了面向毫米波缝隙天线集成制造应用的三维非硅微加工技术方案,重点解决多种材料兼容、多层复杂微结构集成和大悬空高度等独特难题。针对天线器件中金属和介质材料的结合,提出了加法工艺、减法工艺以及一种通用型图形化微加工工艺,其中通用型图形化工艺为各种非硅薄膜材料在MEMS体系中的灵活运用创造了条件;为了实现多层复杂微结构的加工,提出工艺整合和工艺兼容性设计,针对天线器件中的悬空结构对牺牲层工艺进行了研究;最后以一种单向宽带毫米波平面缝隙天线为例,阐述其具体工艺流程,验证了上述工艺的可行性。

关键词：毫米波天线缝隙天线三维非硅微加工技术通用型图形化工艺集成制造

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基于FPGA的数字GPS多径实验平台

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微电子学与计算机 2010年第7期27卷 250-252页

作者：王祺皓陈佳品李振波薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200240

多径问题是影响GPS信号接收的主要干扰问题.通过研究GPS接收机的基本原理和实现方式,利用Xilinx公司的xc3s1000型号FPGA,设计一个仿真实验平台.针对多径处理的需要,使用Verilog HDL语言设计了运用反馈移位寄存器产生的C/A码序列及起始... 详细信息

多径问题是影响GPS信号接收的主要干扰问题.通过研究GPS接收机的基本原理和实现方式,利用Xilinx公司的xc3s1000型号FPGA,设计一个仿真实验平台.针对多径处理的需要,使用Verilog HDL语言设计了运用反馈移位寄存器产生的C/A码序列及起始位置脉冲,移相、衰减、混合、AGC(自动增益控制)模块和码环积分相关器,解决了几个关键技术与问题,实现了数据的传送与存储.

关键词：多径 GPS接收机 AGC 相关器 FPGA

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新型聚酰亚胺图形化工艺制备视网膜电极

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微纳电子技术 2010年第2期47卷 105-109页

作者：徐旻陈迪周然陈翔朱军刘景全上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

介绍了一种新型的、基于Cu牺牲层的聚酰亚胺图形化方法制备视网膜电极的MEMS工艺,并对其电化学性能进行了表征。该工艺创新性地以Cu作为衬底聚酰亚胺图形化的牺牲层,以PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为剥离层,以聚酰亚胺作为封装材料,以惰性金... 详细信息

介绍了一种新型的、基于Cu牺牲层的聚酰亚胺图形化方法制备视网膜电极的MEMS工艺,并对其电化学性能进行了表征。该工艺创新性地以Cu作为衬底聚酰亚胺图形化的牺牲层,以PDMS(聚二甲基硅氧烷)作为剥离层,以聚酰亚胺作为封装材料,以惰性金属作为电极保护层材料,通过电铸、牺牲层和抛光打磨工艺,制备出可以自释放的柔性视网膜电极;随后,对器件进行封装,并对器件的表面形貌和电学性能进行了表征。视网膜电极器件厚度50μm,电路线宽50μm,阻抗104～105Ω。通过该工艺制得的人造视网膜电极具有柔软无伤害、生物相容以及低成本的优点。

关键词： MEMS 生物电极牺牲层聚酰亚胺光刻

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基于GP4020的GPS接收平台的设计及实现

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微电子学与计算机 2010年第6期27卷 212-215页

作者：陈凯陈佳品李振波薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200240

介绍了一种基于GP4020的GPS信号处理平台的具体实现.该平台采用GP2015芯片作为GPS接收机的射频前端,使用ZARLINK公司推出的GP4020芯片进行GPS信号的基带处理,该芯片内嵌ARM7核作为微处理器,在上位机显示处理结果.具体包括了接收机外围... 详细信息

介绍了一种基于GP4020的GPS信号处理平台的具体实现.该平台采用GP2015芯片作为GPS接收机的射频前端,使用ZARLINK公司推出的GP4020芯片进行GPS信号的基带处理,该芯片内嵌ARM7核作为微处理器,在上位机显示处理结果.具体包括了接收机外围扩展电路的设计以及软件开发环境的建立和软件开发过程.该平台可用以测试不同的GPS算法,扩展性强,应用前景广泛.

关键词： GPS接收机 G94020 ARM 基带信号处理

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碳纳米管非对称接触结构制作及电学性能研究

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微纳电子技术 2010年第5期47卷 273-276页

作者：胡林陈长鑫张亚非上海交通大学微纳科学技术研究院微米纳米加工技术国家级重点实验室薄膜和微细技术教育部重点实验室

实验研究了多根或单根单壁碳纳米管与非对称金属电极接触结构的制作方法。先用介电泳方法(DEP)将碳纳米管定向排列在Au电极对之间,再用电子束光刻(EBL)在碳纳米管的一端加工Al电极,获得多根碳纳米管与金铝电极的非对称接触结构。先用EBL... 详细信息

实验研究了多根或单根单壁碳纳米管与非对称金属电极接触结构的制作方法。先用介电泳方法(DEP)将碳纳米管定向排列在Au电极对之间,再用电子束光刻(EBL)在碳纳米管的一端加工Al电极,获得多根碳纳米管与金铝电极的非对称接触结构。先用EBL在Au电极对一端覆盖Al电极,再用DEP排列碳纳米管,实现单根碳管与金铝电极的非对称接触结构。非对称结构器件的电学测试研究表明,器件的I-V曲线不再对称,呈现出整流特性。

关键词：单壁碳纳米管介电泳电子束光刻非对称整流

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表面等离子体透射增强提高光刻分辨率的模拟

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微纳电子技术 2010年第4期47卷 253-256页

作者：朱明轩李海华王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形... 详细信息

讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形底角角度变化对透射率和分辨率的影响。当角度在57°～64°之间变化时,得出三角形脊部有透射增强现象产生,最大透射振幅是入射光的4.2倍,分辨率为(30±5)nm。因为凹槽部分透射光强度很小,因此具有很好的分辨率。通过对比周期和非周期边界条件模拟,三角形脊的形状是产生透射增强现象的原因。

关键词：表面等离子体激元纳米光刻 FDTD方法光刻分辨率光栅

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纳米压印中残余胶刻蚀工艺研究

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半导体技术 2010年第4期35卷 357-360页

作者：黄康李海华王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米技术国家重点实验室薄膜与微细加工技术教育部重点实验室上海200240

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会... 详细信息

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会有少许下降;而在刻蚀气体中加入少量SF_6且压强及流量较大时,各部分的刻蚀速率一致性较好。由此得到了一个优化后的刻蚀条件,反应气体:O_2+SF_6,气体流量分别为40 cm^3/min和5 cm^3/min,压强9.31 Pa,RF功率20 W,此时刻胶速率可稳定在0.8μm/min左右,且均匀性较好。

关键词：纳米压印反应离子刻蚀去胶速率正交试验

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微型压电振动能量采集器的研究进展

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机械设计与研究 2010年第4期26卷 61-64,70页

作者：唐刚刘景全马华安柳和生上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240 南昌工程学院机械动力系南昌330099 南昌大学机电工程学院南昌330031

微型压电振动能量采集器具有结构简单、能量密度高、寿命长等优点,使其在无线传感器网络自供电方面具有较广阔的应用前景。着重介绍压电振动能量采集器的关键技术及围绕其关键技术国内外在压电振动能量采集器方面的研究现状和最新进展,... 详细信息

微型压电振动能量采集器具有结构简单、能量密度高、寿命长等优点,使其在无线传感器网络自供电方面具有较广阔的应用前景。着重介绍压电振动能量采集器的关键技术及围绕其关键技术国内外在压电振动能量采集器方面的研究现状和最新进展,以及未来的发展趋势。

关键词：压电振动能量采集器微机电系统

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新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究

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微纳电子技术 2010年第3期47卷 179-182,192页

作者：李中杰林宏姜学松王庆康印杰上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 化学化工学院高分子材料研究所上海200240

为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完... 详细信息

为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完成。实验得到光刻胶掩膜膜厚为1.21μm,结构尺寸深246nm,周期937.5nm。实验结果表明,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶依然表现出高可靠性和高图形转移分辨率,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗粘修饰的工艺步骤。

关键词：紫外纳米压印微/纳米尺寸图形硅片衬底修饰抗粘连层图案复制

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