检索结果-内蒙古大学图书馆

上海交通大学学报 2010年第4期44卷 584-587,592页

作者：赵刚赵江张亚非上海交通大学微纳米科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

介绍利用高温高压(HPHT)合成高质量金刚石单晶和化学气相沉积法(CVD)制备金刚石薄膜的设备、方法、工艺参数以及热丝CVD和微波等离子体CVD的优缺点;P型和N型金刚石掺杂研制现状.重点介绍N型金刚石掺杂的困难,氮、锂、钠、磷、硫等杂质... 详细信息

介绍利用高温高压(HPHT)合成高质量金刚石单晶和化学气相沉积法(CVD)制备金刚石薄膜的设备、方法、工艺参数以及热丝CVD和微波等离子体CVD的优缺点;P型和N型金刚石掺杂研制现状.重点介绍N型金刚石掺杂的困难,氮、锂、钠、磷、硫等杂质的掺杂效果,共掺杂对于金刚石薄膜的影响,以及近年来P型和N型掺杂取得的成果.

关键词：金刚石高温高压化学气相沉积掺杂

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应用X射线光刻的微针阵列及掩模板补偿

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光学精密工程 2010年第2期18卷 420-425页

作者：陈少军李以贵杉山进上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 日本立命馆大学微系统研究中心

提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状。实验显示,最终的结构形状... 详细信息

提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)微针的微细加工工艺,该工艺基于PCT技术,结合X射线以及光刻掩模制作三维微结构。通过移动LIGA掩模板曝光来加工微立体PMMA结构,其加工形状取决于X光光刻掩模板吸收体的形状。实验显示,最终的结构形状并非完全与掩模板上吸收体的形状一致。如果不对X光光刻掩模板的吸收体形状进行补偿,即会使被加工的微结构侧面变形,从而影响微针的性能。分析了微针阵列侧面变形的原因,认为这种变形是由于显影时间与曝光量之间的非线性关系导致结构形状与曝光量分布不完全一致造成的。利用PCT方法制作的PMMA微针其长度为100～750μm,直径为30～150μm,针尖的直径最小可达100nm。通过对LIGA掩模板上的吸收体图形进行适当的补偿,使吸收体图形从中空的双直角三角形变为中空的半椭圆图形,增强了带沟道的微注射针阵列的强度。

关键词： X射线光刻聚甲基丙烯酸甲酯三维微结构掩模吸收体

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用同步辐射光刻直接在有机玻璃板上制备高深宽比亚微米光栅

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光学学报 2010年第5期30卷 1451-1454页

作者：李以贵杉山进上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 日本立命馆大学微系统研究中心日本滋贺525-8577

为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的... 详细信息

为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的同步辐射光源进行同步辐射光光刻,在有机玻璃(PMMA)板上直接得到亚微米光栅。用此纳米加工技术获得的光栅线宽为250 nm,周期为500 nm,深宽比为8的PMMA亚微米结构光栅。还优化了曝光近接间隔、曝光剂量和显影时间等同步辐射光刻参数。

关键词：光栅同步辐射光刻亚微米光栅高深宽比纳米制造

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微型压电能量采集器的仿真、制造与测试

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压电与声光 2010年第6期32卷 981-984页

作者：孙健李以贵刘景全杨春生何丹农上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细加工技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 纳米技术及应用国家工程研究中心上海200241

理论分析得到微悬臂梁式压电能量采集器的设计准则。采用一种新颖的制造工艺,将高性能压电陶瓷锆钛酸铅(PZT)块材与硅片在540℃高温下键合1 h后,减薄并切割成形成压电悬臂梁。使用ANSYS软件进行仿真,得到了器件的固有频率、尖端位移和... 详细信息

理论分析得到微悬臂梁式压电能量采集器的设计准则。采用一种新颖的制造工艺,将高性能压电陶瓷锆钛酸铅(PZT)块材与硅片在540℃高温下键合1 h后,减薄并切割成形成压电悬臂梁。使用ANSYS软件进行仿真,得到了器件的固有频率、尖端位移和电压输出的频率响应。设计一套振动能量采集器测试装置,并对器件进行测试。测试结果表明,所制得的器件固有频率为2 580 Hz,在10 m/s2的正弦加速度激励下,其输出峰-峰值电压达1.58 V,测试结果与仿真分析基本吻合。

关键词：悬臂梁压电能量采集器键合固有频率

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基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜

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半导体技术 2010年第4期35卷 349-351页

作者：陈少军李以贵上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的... 详细信息

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的成本。分析讨论了基于电子束制作掩膜版和基于准分子激光制作掩膜版两种方法,得出了准分子激光制作的掩膜在成本和时间上都有优势的结论。将通过准分子激光技术制作的掩膜置于X射线下,在PMMA基板上可以加工很好的三维微结构。通过依次直接激光烧蚀金薄膜可以加工具有一系列微球状结构的吸收体图形,再将此图形转写到PMMA基板上,可以得到的最低像素为25μm。

关键词：准分子激光掩膜版投影 LIGA掩膜版 PMMA基板

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浮动电极型单向声表面波驱动器的设计与制造(英文)

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光学精密工程 2009年第6期17卷 1300-1305页

作者：张俊峰李以贵惠春上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细加工技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 上海交通大学生命科学技术研究院上海200240

考虑声表面波驱动器直接驱动工作物体,能量损失小,传动误差小,且尺寸小,噪声低,抗电磁干扰等特点,基于MEMS技术并采用在Li NbO3基底上加工微型电极的方式制作了一种声表面波微驱动器。为了更加有效地控制驱动方向,提出了一种新型叉指结... 详细信息

考虑声表面波驱动器直接驱动工作物体,能量损失小,传动误差小,且尺寸小,噪声低,抗电磁干扰等特点,基于MEMS技术并采用在Li NbO3基底上加工微型电极的方式制作了一种声表面波微驱动器。为了更加有效地控制驱动方向,提出了一种新型叉指结构,即浮动电极型单向换能器,然后利用ANSYS软件,对声表面波换能器进行了优化设计和分析,制作出了孔径尺寸为5mm,电极厚度为0.8μm,指宽为6.7μm,周期为80μm的浮动电极型单向换能器。该声表面波驱动器比以往的驱动器具有更高的谐振频率(接近50MHz)和更有效的方向可控性,从而有助于微光学控制系统的进一步微型化和可控化。

关键词：声表面波驱动器微机电系统浮动电极型单向换能器

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基于高深宽比Si干法刻蚀参数优化

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微纳电子技术 2009年第12期46卷 750-754页

作者：陈少军李以贵上海交通大学微纳米科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

为满足体硅MEMS制造工艺进一步发展的需要,对电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺参数进行了深入分析,着重分析了平板功率对Si干法刻蚀的影响。通过对Si干法刻蚀的主要工艺参数进行正交试验,得出了一组较为理想的刻蚀工艺参数:刻蚀气体SF6和... 详细信息

为满足体硅MEMS制造工艺进一步发展的需要,对电感耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺参数进行了深入分析,着重分析了平板功率对Si干法刻蚀的影响。通过对Si干法刻蚀的主要工艺参数进行正交试验,得出了一组较为理想的刻蚀工艺参数:刻蚀气体SF6和保护气体C4F8的流量均为13cm3·min-1,在一个周期内通入刻蚀气体SF6的时间为4s,通入钝化气体C4F8的时间为3s;线圈功率为400W,平板功率为110W。利用这组优化的工艺参数进行Si的干法刻蚀,所得到的微结构的深宽比将大于20∶1,同时侧壁垂直度能够很好地控制在90°±1°。

关键词：微机电系统电感耦合等离子体(ICP)刻蚀平板功率正交试验深宽比

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基于微悬臂梁的压电振动能量采集器的分析与制造

基于微悬臂梁的压电振动能量采集器的分析与制造

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第六届华东三省一市真空学术交流会

作者：孙健李以贵杨春生刘景全何丹农上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细加工技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室纳米技术及应用国家工程研究中心

随着低功耗无线传感器件和微机械电子系统的发展,电池技术的微型化正成为它们进入实用化、产业化的一大障碍。其中一个解决方案是微压电振动能量采集器。首先给出压电式振动能量采集器的工作原理、物理模型和设计原则。用有限元分析软... 详细信息

随着低功耗无线传感器件和微机械电子系统的发展,电池技术的微型化正成为它们进入实用化、产业化的一大障碍。其中一个解决方案是微压电振动能量采集器。首先给出压电式振动能量采集器的工作原理、物理模型和设计原则。用有限元分析软件对理论进行验证,两者吻合较好。采用一种新颖的制造工艺,利用环氧树脂做为中间粘结层的键合工艺将高性能块材PZT与硅片结合,使用1BHF:2HCL:4NHCL:4HO刻蚀液对PZT进行刻蚀减薄,制作了基于微悬臂梁的压电振动能量采集器。

关键词：环氧树脂键合刻蚀悬臂梁

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镍/碳纳米管复合薄膜的制备及其性能的研究

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微细加工技术 2008年第2期 61-64页

作者：吴嘉浩刘萍徐东张亚非上海交通大学微纳米科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

结合电泳沉积碳纳米管和电镀金属镍的方法,在导电基片上成功制备了镍/碳纳米管复合薄膜。观察了薄膜的形貌和成份,测试了所制备的镍/碳纳米管复合薄膜的表面电阻和场发射特性,并与传统的电泳方法制备的碳纳米管薄膜进行了比较。实验结... 详细信息

结合电泳沉积碳纳米管和电镀金属镍的方法,在导电基片上成功制备了镍/碳纳米管复合薄膜。观察了薄膜的形貌和成份,测试了所制备的镍/碳纳米管复合薄膜的表面电阻和场发射特性,并与传统的电泳方法制备的碳纳米管薄膜进行了比较。实验结果表明,镍/碳纳米管复合薄膜表面碳纳米管大范围排布有序、密度可控;与传统电泳方法制备得到的碳纳米管薄膜相比,镍-碳纳米管复合薄膜具有更小的表面电阻和更好的场发射性能。镍层在薄膜中起到了固定碳纳米管、改善碳纳米管与基底以及碳纳米管与碳纳米管之间电接触的作用;由于镍在薄膜中含量较少(小于10%),薄膜整体仍体现出碳纳米管的优异性能。

关键词：碳纳米管(CNT) 复合薄膜镍电泳电镀

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用X光光刻法制备亚波长抗反射结构

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微细加工技术 2008年第1期 14-16,34页

作者：李以贵杉山进上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 日本立命馆大学微系统系

为了提高太阳电池的转换效果,降低反射光栅的偏振敏感性,开发了一种新的抗反射结构的微细加工技术。首先用X光光刻在PMMA光刻胶上得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长纳米结构,即抗反射结构。设计... 详细信息

为了提高太阳电池的转换效果,降低反射光栅的偏振敏感性,开发了一种新的抗反射结构的微细加工技术。首先用X光光刻在PMMA光刻胶上得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长纳米结构,即抗反射结构。设计了适用于可见光波段的二维亚波长抗反射光栅,用X光光刻制作工艺在硅衬底上进行了实验制备。用此纳米加工技术获得了线宽为150 nm、高度约为450 nm(即深宽比为3.0)的PMMA减反射结构。同时还优化了曝光近接间隔、曝光剂量、显影时间等X光光刻参数。

关键词： X光光刻抗反射结构高深宽比纳米制造

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