检索结果-内蒙古大学图书馆

微细加工技术 2008年第4期 62-64页

作者：刘瑞汪红丁桂甫李雪萍杨春生上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

针对微拉伸测试系统支撑梁因塑性变形带来的误差,采用UV-LIGA技术制备出S型支撑弹簧来代替刚性梁,这样即可测量大变形薄膜的力学性能。实验结果表明,用UV-LIGA工艺制备的Ni金属S形弹簧具有良好的均匀性,在较大的变形范围内有很好的线弹性。

关键词：微弹簧电铸 MEMS UV—LIGA

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MEMS微结构电沉积层均匀性的有限元模拟

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微细加工技术 2008年第5期 45-49页

作者：汤俊汪红刘瑞毛胜平李雪萍王志民丁桂甫上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240

利用有限元软件ANSYS对MEMS微电铸Ni工艺进行电场模拟,研究了光刻胶厚度、线宽以及片内辅助电极参数对微结构表面电场分布均匀性的影响。根据模拟结果,利用微电铸试验研究了微结构单元尺寸以及辅助极距离和大小对于微结构层厚度均匀性... 详细信息

利用有限元软件ANSYS对MEMS微电铸Ni工艺进行电场模拟,研究了光刻胶厚度、线宽以及片内辅助电极参数对微结构表面电场分布均匀性的影响。根据模拟结果,利用微电铸试验研究了微结构单元尺寸以及辅助极距离和大小对于微结构层厚度均匀性的影响。模拟和试验结果均表明,微结构单元尺寸是影响其均匀性的主要因素之一,合理添加片内辅助极是提高微结构铸层厚度均匀性的有效方法。而且,有限元分析软件ANSYS可以对微结构的电镀过程进行有效的模拟分析。

关键词：微电铸厚度均匀性 MEMS 有限元

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亚波长结构的抗反射特性三维TLM方法模拟

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光电子技术 2008年第1期28卷 50-54页

作者：刘汉玉王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

传输线矩阵(Transmission line matrix,以下简称TLM)方法,根据场方程和传输线方程之间的相似性,用等效分布传输线网络模拟给定结构,在时间和空间上进行离散化,是一种强有力的三维时域电磁场数值仿真算法。简要介绍三维扩展型结点TLM方... 详细信息

传输线矩阵(Transmission line matrix,以下简称TLM)方法,根据场方程和传输线方程之间的相似性,用等效分布传输线网络模拟给定结构,在时间和空间上进行离散化,是一种强有力的三维时域电磁场数值仿真算法。简要介绍三维扩展型结点TLM方法的模型、激励源和边界条件,并使用该方法对亚波长结构的抗反射特性进行模拟研究,为进一步深入探讨该结构的抗反射特性、进行优化设计提供依据。

关键词：亚波长结构传输线矩阵方法传输线矩阵方法抗反射

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用X光光刻法制备亚波长抗反射结构

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微细加工技术 2008年第1期 14-16,34页

作者：李以贵杉山进上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 日本立命馆大学微系统系

为了提高太阳电池的转换效果,降低反射光栅的偏振敏感性,开发了一种新的抗反射结构的微细加工技术。首先用X光光刻在PMMA光刻胶上得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长纳米结构,即抗反射结构。设计... 详细信息

为了提高太阳电池的转换效果,降低反射光栅的偏振敏感性,开发了一种新的抗反射结构的微细加工技术。首先用X光光刻在PMMA光刻胶上得到相应的亚微米级的线宽图形,再利用显影技术获得了高深宽比的立体亚波长纳米结构,即抗反射结构。设计了适用于可见光波段的二维亚波长抗反射光栅,用X光光刻制作工艺在硅衬底上进行了实验制备。用此纳米加工技术获得了线宽为150 nm、高度约为450 nm(即深宽比为3.0)的PMMA减反射结构。同时还优化了曝光近接间隔、曝光剂量、显影时间等X光光刻参数。

关键词： X光光刻抗反射结构高深宽比纳米制造

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柔性膜式微型电磁驱动器的设计与仿真分析

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微纳电子技术 2008年第6期45卷 356-360页

作者：苏宇锋杨杰伟赵江铭刘武发陈文元郑州大学机电一体化研究所郑州450001 上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家重点实验室上海200030

硅橡胶具有生物兼容性好且制作技术与微细加工工艺兼容的优点,采用硅橡胶作为MEMS驱动器中的振动膜具有较好的应用前景。研究了一种微型电磁驱动器,由内嵌永磁体阵列的柔性硅橡胶(PDMS)振动膜和线圈两层构成,采用电镀工艺制作线圈层;采... 详细信息

硅橡胶具有生物兼容性好且制作技术与微细加工工艺兼容的优点,采用硅橡胶作为MEMS驱动器中的振动膜具有较好的应用前景。研究了一种微型电磁驱动器,由内嵌永磁体阵列的柔性硅橡胶(PDMS)振动膜和线圈两层构成,采用电镀工艺制作线圈层;采用电镀方法制作磁体阵列,由甩胶机旋涂硅橡胶并进行固化,制作内嵌磁体阵列的硅橡胶膜,对磁体磁化后可作为双向驱动器。对该驱动器进行了理论分析与数值模拟,采用有限元分析工具ANSYS对微驱动器的电磁驱动力及其挠度进行分析,二者结果基本一致,振动膜中心最大挠度的分析误差为7.96%,其一阶固有频率的分析误差为16.1%。

关键词：微型驱动器电磁驱动硅橡胶数值模拟电镀

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基于Si掺杂Sb2Te3薄膜的相变存储器研究

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物理学报 2007年第7期56卷 4224-4228页

作者：张祖发张胤冯洁蔡燕飞林殷茵蔡炳初汤庭鳌 Bomy Chen 上海交通大学"薄膜与微细技术"教育部重点实验室"微米/纳米加工技术"国家级重点实验室微纳科学技术研究院上海200030 复旦大学专用集成电路和系统国家重点实验室上海200433 Silicon Storage Technology Inc. Sunnyvale

采用磁控三靶(Si,Sb及Te)共溅射法制备了Si掺杂Sb2Te3薄膜,作为对比,制备了Ge2Sb2Te5和Sb2Te3薄膜,并且采用微加工工艺制备了单元尺寸为10μm×10μm的存储器件原型来研究器件性能.研究表明,Si掺杂提高了Sb2Te3薄膜的晶化温度以及... 详细信息

采用磁控三靶(Si,Sb及Te)共溅射法制备了Si掺杂Sb2Te3薄膜,作为对比,制备了Ge2Sb2Te5和Sb2Te3薄膜,并且采用微加工工艺制备了单元尺寸为10μm×10μm的存储器件原型来研究器件性能.研究表明,Si掺杂提高了Sb2Te3薄膜的晶化温度以及薄膜的晶态和非晶态电阻率,使得其非晶态与晶态电阻率之比达到106,提高了器件的电阻开/关比;同Ge2Sb2Te5薄膜相比,16at%Si掺杂Sb2Te3薄膜具有较低的熔点和更高的晶态电阻率,这有利于降低器件的RESET电流.研究还表明,采用16at%Si掺杂Sb2Te3薄膜作为存储介质的存储器器件原型具有记忆开关特性,可以在脉高3V、脉宽500ns的电脉冲下实现SET操作,在脉高4V、脉宽20ns的电脉冲下实现RESET操作,并能实现反复写/擦,而采用Ge2Sb2Te5薄膜的相同结构的器件不能实现RESET操作.

关键词：相变存储器硫系化合物 Si掺杂Sb2Te3 薄膜 SET/RESET转变

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磁芯螺线管微电感的计算机模拟

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上海交通大学学报 2007年第11期41卷 1867-1870页

作者：郭绍寅周勇周志敏曹莹丁文上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用电磁场理论建立了FeNi磁芯螺线管微电感的物理模型,并对交流载荷下的微电感进行了模拟.通过与磁芯厚度为10、20、30和40μm的微电感的实验结果对比,表明该物理模型能够较准确地模拟磁芯螺线管微电感的主要损耗,进而可计算微电感的... 详细信息

采用电磁场理论建立了FeNi磁芯螺线管微电感的物理模型,并对交流载荷下的微电感进行了模拟.通过与磁芯厚度为10、20、30和40μm的微电感的实验结果对比,表明该物理模型能够较准确地模拟磁芯螺线管微电感的主要损耗,进而可计算微电感的电感量和品质因子.模拟结果与实验符合较好.

关键词：螺线管微电感磁芯物理模型

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适于MEMS器件的低应力Ni-W纳米晶薄膜的制备

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上海交通大学学报 2007年第S2期41卷 12-15页

作者：汪红丁桂甫赵小林姚锦元朱军王志民上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

以高强度、高耐腐蚀性Ni-W合金为研究对象,探讨了柠檬酸胺-HEDP体系中,各种电沉积工艺参数以及热处理条件对Ni-W合金薄膜应力的影响规律及其在微喷嘴模具上的应用.研究结果表明,在优化的工艺条件下,可获得应力为230 MPa、硬度高达988 H... 详细信息

以高强度、高耐腐蚀性Ni-W合金为研究对象,探讨了柠檬酸胺-HEDP体系中,各种电沉积工艺参数以及热处理条件对Ni-W合金薄膜应力的影响规律及其在微喷嘴模具上的应用.研究结果表明,在优化的工艺条件下,可获得应力为230 MPa、硬度高达988 HV、无裂纹的纳米晶Ni-W薄膜材料,为其在MEMS微器件、微模具制备上的应用提供了有效途径.

关键词：内应力 Ni-W纳米晶微机电系统电沉积热处理

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基于加速度采集系统的无线输入设备的研究

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计算机应用研究 2007年第2期24卷 260-263页

作者：黄得志陈文元杨华峰钱莉张卫平上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

研究基于加速度采集系统的无线输入设备,介绍了硬件系统的组成和工作原理,重点讨论了有限状态机FSM和COM组件软件技术的应用,用C++语言给出了FSM的实现框架和COM接口函数的描述,并基于加速度信息采集平台用C#语言开发了一个测试程序,既... 详细信息

研究基于加速度采集系统的无线输入设备,介绍了硬件系统的组成和工作原理,重点讨论了有限状态机FSM和COM组件软件技术的应用,用C++语言给出了FSM的实现框架和COM接口函数的描述,并基于加速度信息采集平台用C#语言开发了一个测试程序,既充分展示了采用FSM和COM技术的优点,同时说明了基于该系统的虚拟键盘鼠标系统实现方案的可行性。

关键词：有限状态机 COM技术微加速度传感器虚拟键盘鼠标系统

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静电驱动可调微机械电容

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Journal of Semiconductors 2007年第9期28卷 1454-1458页

作者：方东明付世周勇赵小林微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院上海200030

利用简单MEMS技术制作了高品质因数的射频可调微机械电容.此电容由静电驱动,利用WYKONT1100光学表面轮廓仪测量在不同外加直流电压下可变电容的表面轮廓和位移等信息.测试结果表明,电容的吸合电压为13.5V,电容可调比为1.31:1,在1GHz下... 详细信息

利用简单MEMS技术制作了高品质因数的射频可调微机械电容.此电容由静电驱动,利用WYKONT1100光学表面轮廓仪测量在不同外加直流电压下可变电容的表面轮廓和位移等信息.测试结果表明,电容的吸合电压为13.5V,电容可调比为1.31:1,在1GHz下品质因数为51.6,电容值为0.79pF.

关键词：可调电容射频微机电系统品质因数

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