检索结果-内蒙古大学图书馆

采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,在100KHz-40MHz范围内研究了FeNi/Cu/FeNi多层膜中的巨磁阻抗效应特性。当磁场Hext施加在薄膜的长方向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,然后随磁场的增加而下降到负的巨磁阻抗效应。在频率为5MHz时,巨磁阻抗效应在磁场Hext=800A/m时达到最大值25．2％;在磁场Hext=9600A／m时,巨磁阻抗效应为-7．3％。巨磁阻抗效应的最大值及负的巨磁阻抗效应与多层膜中磁各向异性轴的取向及发散有关。另外,当磁场施加在薄膜的短方向时,薄膜表现出负的巨磁阻抗效应,在频率5MHz、磁场Hext=9600A/m时,巨磁阻抗效应可达-19．3％。

关键词：巨磁阻抗效应夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜 MEMS技术.

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PZT厚膜拾振器微图形化工艺研究

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微细加工技术 2005年第4期 48-51页

作者：方华斌刘景全徐峥谊王莉陈迪蔡炳初刘悦上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 美国Honeywell公司上海传感器实验室上海200030

采用sol-gel方法制备了PZT铁电厚膜,构成了SiO2/Si/SiO2/Ti/Pt/PZT/Ti/Pt形式的拾振器敏感元结构。基于半导体光刻技术,通过干法刻蚀电极和化学湿法刻蚀PZT厚膜等技术,成功地实现了敏感元的微图形化,解决了Pt/Ti下电极刻蚀难、制作的PZ... 详细信息

采用sol-gel方法制备了PZT铁电厚膜,构成了SiO2/Si/SiO2/Ti/Pt/PZT/Ti/Pt形式的拾振器敏感元结构。基于半导体光刻技术,通过干法刻蚀电极和化学湿法刻蚀PZT厚膜等技术,成功地实现了敏感元的微图形化,解决了Pt/Ti下电极刻蚀难、制作的PZT膜形貌不好和上电极容易起壳等问题,为基于PZT厚膜的高性能拾振器的研制打下了良好的基础。

关键词：拾振器 PZT厚膜 Pt/Ti电极湿法化学刻蚀干法刻蚀

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Pd^(2+)离子对TiO_2光催化薄膜化学稳定性的影响

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稀有金属材料与工程 2004年第12期33卷 1347-1350页

作者：徐爱兰惠春许小兵上海交通大学微纳米科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用 Sol-Gel 工艺在普通玻璃表面制备出均匀、透明的添加 0.3%~0.5%贵金属 Pd2+的 TiO2-SiO2 复合薄膜。通过对薄膜的 XRD,SEM 表征及薄膜耐酸、碱化学稳定性的检测,结果表明,在 TiO2-SiO2 薄膜中添加 Pd2+,增强了 TiO2 薄膜的光催化活... 详细信息

采用 Sol-Gel 工艺在普通玻璃表面制备出均匀、透明的添加 0.3%~0.5%贵金属 Pd2+的 TiO2-SiO2 复合薄膜。通过对薄膜的 XRD,SEM 表征及薄膜耐酸、碱化学稳定性的检测,结果表明,在 TiO2-SiO2 薄膜中添加 Pd2+,增强了 TiO2 薄膜的光催化活性,由于 Pd2+所起到阻滞剂的作用,使晶粒尺寸减小,表面呈多孔合理结构,改善了TiO2 薄膜的显微结构,使薄膜的化学稳定性得到明显的提高。

关键词： TiO2光催化复合薄膜化学稳定性

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液相法制备纳米粒子的粒径控制研究

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功能材料 2004年第z1期35卷 2699-2703页

作者：张效岩王英张亚非上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030 上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

液相法是目前制备纳米粒子的重要方法之一.本文简要地阐述了液相法制备纳米粒子时粒径控制的机理,并在液相法过程特征的基础上,重点分析了影响粒径分布和形状控制的几个最主要因素,详细解释了化学计量学方法在控制纳米粒子粒度及其分布... 详细信息

液相法是目前制备纳米粒子的重要方法之一.本文简要地阐述了液相法制备纳米粒子时粒径控制的机理,并在液相法过程特征的基础上,重点分析了影响粒径分布和形状控制的几个最主要因素,详细解释了化学计量学方法在控制纳米粒子粒度及其分布方面的应用.

关键词：纳米粒子液相法粒径控制化学计量学

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PMMA的反应离子深刻蚀

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真空科学与技术学报 2004年第2期24卷 157-160页

作者：张丛春杨春生丁桂甫黄龙旺薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院上海200030

对PMMA进行反应离子深刻蚀以获得高深度比微结构。研究了纯氧刻蚀气体中加入CHF3 对刻蚀速率、图形形貌等的影响。纯氧刻蚀PMMA ,钻蚀现象严重。加入CHF3 后 ,刻蚀速率随CHF3 含量增加而下降。加入适量CHF3 ,可以在侧壁形成钝化层 ,保... 详细信息

对PMMA进行反应离子深刻蚀以获得高深度比微结构。研究了纯氧刻蚀气体中加入CHF3 对刻蚀速率、图形形貌等的影响。纯氧刻蚀PMMA ,钻蚀现象严重。加入CHF3 后 ,刻蚀速率随CHF3 含量增加而下降。加入适量CHF3 ,可以在侧壁形成钝化层 ,保护侧壁不受钻蚀。当CHF3 含量为 4 0 % ,刻蚀功率 30W ,工作气压为 4Pa时 ,即使刻蚀深度达到 4 0 0 μm ,侧壁仍然陡直 ,刻蚀深宽比大于 10。

关键词： PMMA 反应离子刻蚀比微结构刻蚀气体钻蚀 HGA技术

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磁悬浮转子微陀螺的设计技术

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光学精密工程 2004年第z1期12卷 1-5页

作者：张卫平陈文元吴校生赵小林崔峰黄晓刚刘武上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

磁悬浮转子微陀螺利用电磁涡流实现微转子的悬浮支撑和高速旋转,是一种精度可达惯性级的新颖MEMS(Micro Electronic Mechanical System)陀螺.讨论和研究了这种新颖微陀螺的悬浮支撑、高速转动、位置检测及加矩稳定的原理,并给出了相应... 详细信息

磁悬浮转子微陀螺利用电磁涡流实现微转子的悬浮支撑和高速旋转,是一种精度可达惯性级的新颖MEMS(Micro Electronic Mechanical System)陀螺.讨论和研究了这种新颖微陀螺的悬浮支撑、高速转动、位置检测及加矩稳定的原理,并给出了相应的微转子、定子悬浮线圈、旋转线圈、稳定线圈、传感电极的设计原则和方法.设计了一个转子直径2 200μm、厚度25 μm,定子线圈线宽10μm、厚度5μm,悬浮励磁频率10 MHz、旋转励磁频率2 MHz的微陀螺,解决了三维非硅准LiGA技术加工微陀螺中的引线、绝缘、摩擦柱成型问题,并进行了相关的陀螺悬浮旋转试验,该陀螺在空气环境下能够以1000 r/min旋转,悬浮高度200μm,说明这种陀螺的原理和设计方法是可行的.

关键词：磁悬浮转子微陀螺 MEMS 设计准LiGA技术试验

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