检索结果-内蒙古大学图书馆

光学学报 2010年第5期30卷 1451-1454页

作者：李以贵杉山进上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240 日本立命馆大学微系统研究中心日本滋贺525-8577

为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的... 详细信息

为了将平面金属膜紧密耦合到纳米光栅形成的表面等离子体共振传感器,以提高灵敏度,以及利用亚微米光栅调整共振反射波长,需要制备亚微米结构光栅。介绍了一种基于X光光刻的亚微米结构光栅的制造技术。该结构光栅是利用日本立命馆大学的同步辐射光源进行同步辐射光光刻,在有机玻璃(PMMA)板上直接得到亚微米光栅。用此纳米加工技术获得的光栅线宽为250 nm,周期为500 nm,深宽比为8的PMMA亚微米结构光栅。还优化了曝光近接间隔、曝光剂量和显影时间等同步辐射光刻参数。

关键词：光栅同步辐射光刻亚微米光栅高深宽比纳米制造

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柔顺双稳态机构的研究现状与进展

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传感器与微系统 2010年第7期29卷 1-3,7页

作者：王娟吴义伯张丛春丁桂甫上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

由于柔顺机构和双稳态机构分别所具有的独特优势,已使柔顺双稳态机构成为目前国内外研究的新热点。综合论述了基于MEMS技术的柔顺双稳态机构的最新研究成果,根据柔顺双稳态机构的驱动机制,系统介绍了机械锁定型、电热锁定型、磁致锁定... 详细信息

由于柔顺机构和双稳态机构分别所具有的独特优势,已使柔顺双稳态机构成为目前国内外研究的新热点。综合论述了基于MEMS技术的柔顺双稳态机构的最新研究成果,根据柔顺双稳态机构的驱动机制,系统介绍了机械锁定型、电热锁定型、磁致锁定型、多耦合场锁定型等柔顺双稳态机构,针对其原理、性能及应用等各个方面进行了综合比较。最后展望了柔顺双稳态机构的研究前景和可能遇到的问题与挑战。

关键词：柔顺机构双稳态锁定机构微机电系统

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对流—扩散传质对微电铸镀层均匀性的影响

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传感器与微系统 2010年第8期29卷 41-43,47页

作者：陈晖李光杨汪红王艳丁桂甫赵小林上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

利用有限元分析软件FLUENT对MEMS微电铸镀层均匀性进行了分析。对当物质传输成为金属沉积的控制步骤时,进行对流—扩散传质过程数值模拟,研究不同深宽比微结构中对流—扩散对传质的影响。模拟结果表明:当对流—扩散传质成为控制步骤时,... 详细信息

利用有限元分析软件FLUENT对MEMS微电铸镀层均匀性进行了分析。对当物质传输成为金属沉积的控制步骤时,进行对流—扩散传质过程数值模拟,研究不同深宽比微结构中对流—扩散对传质的影响。模拟结果表明:当对流—扩散传质成为控制步骤时,渗透流影响镀层基本形貌,回流会引起镀层形貌的微小起伏。

关键词：微电铸对流-扩散传质渗透流回流

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玻璃衬底上RF磁控溅射CIGS薄膜的研究

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微纳电子技术 2010年第11期47卷 674-679页

作者：钱群张丛春杨春生丁桂甫侯捷上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

采用射频磁控溅射的工艺,在玻璃衬底上制备得到了铜铟镓硒(CIGS)薄膜。讨论了衬底温度、溅射气压、退火与否对CIGS薄膜与衬底结合力、显微形貌、晶化程度及电阻率的影响。通过能谱(EDS)测试证明了溅射的CIGS薄膜Ga组分比符合高效吸收层... 详细信息

采用射频磁控溅射的工艺,在玻璃衬底上制备得到了铜铟镓硒(CIGS)薄膜。讨论了衬底温度、溅射气压、退火与否对CIGS薄膜与衬底结合力、显微形貌、晶化程度及电阻率的影响。通过能谱(EDS)测试证明了溅射的CIGS薄膜Ga组分比符合高效吸收层的要求,通过X射线衍射(XRD)与扫描电子显微镜(SEM)测试,证明了衬底加热溅射、溅射后450℃空气退火可以有效提高CIGS薄膜与衬底的结合并提高晶化程度。通过四探针法电阻率测试证明了低气压条件下溅射、溅射后退火可以有效降低CIGS的电阻率,通过透射光谱分析证明了CIGS薄膜对可见光有高吸收效率,适合作为太阳电池的高效吸收层。

关键词：太阳电池射频磁控溅射铜铟镓硒(CIGS) 晶化电阻率

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Si／TiNi双层结构SMA电热驱动器的仿真和制造

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微纳电子技术 2010年第2期47卷 93-98页

作者：王亚攀吴义伯张小波张丛春杨春生上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

使用射频磁控溅射法,在Si片上沉积了TiNi形状记忆合金薄膜,分别采用能谱色散光谱仪(EDS)和差示扫描热量分析(DSC)方法测试了薄膜的成分和相变特征温度,并通过给形状记忆合金(SMA)薄膜加热及冷却,观察薄膜的形变恢复情况,定性测试了SMA... 详细信息

使用射频磁控溅射法,在Si片上沉积了TiNi形状记忆合金薄膜,分别采用能谱色散光谱仪(EDS)和差示扫描热量分析(DSC)方法测试了薄膜的成分和相变特征温度,并通过给形状记忆合金(SMA)薄膜加热及冷却,观察薄膜的形变恢复情况,定性测试了SMA的形状记忆特性。在此基础上,设计并制造了一种SMA薄膜/Si膜复合膜悬臂梁结构的微驱动器。在室温下,SMA电热驱动器的悬臂梁是平直的;由于TiNi合金具有相变和形状记忆特性,当TiNi电极加上电压后,悬臂梁会产生弯曲。测试结果表明,在2.0V电压下,驱动器悬臂梁端部的驱动位移可达到70.5μm,功耗为20mW。

关键词：电热驱动器双层结构 TiNi基形状记忆合金薄膜 ANSYS仿真 Si微细加工技术

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基于准分子激光工艺制作X射线光掩膜

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半导体技术 2010年第4期35卷 349-351页

作者：陈少军李以贵上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200240

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的... 详细信息

LIGA工艺是一项能够应用于制造三维微机械结构的微细加工技术,但制作掩膜版工艺复杂、成本高。为了解决商用的微光学系统制造成本问题,在Au薄膜上用准分子激光直写的方法制作掩膜,这样既能够很快得到雏形,同时也能够降低制作的掩膜版的成本。分析讨论了基于电子束制作掩膜版和基于准分子激光制作掩膜版两种方法,得出了准分子激光制作的掩膜在成本和时间上都有优势的结论。将通过准分子激光技术制作的掩膜置于X射线下,在PMMA基板上可以加工很好的三维微结构。通过依次直接激光烧蚀金薄膜可以加工具有一系列微球状结构的吸收体图形,再将此图形转写到PMMA基板上,可以得到的最低像素为25μm。

关键词：准分子激光掩膜版投影 LIGA掩膜版 PMMA基板

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纳米压印中残余胶刻蚀工艺研究

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半导体技术 2010年第4期35卷 357-360页

作者：黄康李海华王庆康上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米技术国家重点实验室薄膜与微细加工技术教育部重点实验室上海200240

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会... 详细信息

压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会有少许下降;而在刻蚀气体中加入少量SF_6且压强及流量较大时,各部分的刻蚀速率一致性较好。由此得到了一个优化后的刻蚀条件,反应气体:O_2+SF_6,气体流量分别为40 cm^3/min和5 cm^3/min,压强9.31 Pa,RF功率20 W,此时刻胶速率可稳定在0.8μm/min左右,且均匀性较好。

关键词：纳米压印反应离子刻蚀去胶速率正交试验

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MEMS流体陀螺的研究进展

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现代电子技术 2010年第10期33卷 172-174页

作者：秦奎张卫平陈文元上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

随着微机电技术(MEMS)的快速发展,惯性器件微陀螺得到了广泛的发展和应用,其中微流体陀螺具有体积小、重量轻、成本低和抗高冲击等独特优点。根据陀螺原理的不同介绍了几种微流体陀螺,包括气体对流微陀螺、射流微陀螺、ECF流体微陀螺和... 详细信息

随着微机电技术(MEMS)的快速发展,惯性器件微陀螺得到了广泛的发展和应用,其中微流体陀螺具有体积小、重量轻、成本低和抗高冲击等独特优点。根据陀螺原理的不同介绍了几种微流体陀螺,包括气体对流微陀螺、射流微陀螺、ECF流体微陀螺和超流体陀螺,气体对流陀螺和射流微陀螺属于常用的典型流体陀螺,而ECF流体陀螺和超流体陀螺属于新型的流体陀螺,分别分析了它们的原理和应用情况,并对它们的应用前景进行了展望,微流体陀螺将在惯性导航和自动控制等方面发挥越来越重要的作用。

关键词： MEMS技术惯性器件微流体陀螺惯性导航

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基于ARM和FPGA的微加速度计数据采集系统设计

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现代电子技术 2010年第2期33卷 25-27,30页

作者：秦奎张卫平陈文元上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室上海200240 上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

基于常用的MEMS惯性器件微型加速度计,介绍一种采用ARM和FPGA架构来采集加速度数值的设计方案,微加速度计的模拟输出信号经A/D芯片转换后由FPGA进行处理和缓存,然后ARM接收FPGA的输出数据并对数据进行显示和存储,对如何用FPGA实现该数... 详细信息

基于常用的MEMS惯性器件微型加速度计,介绍一种采用ARM和FPGA架构来采集加速度数值的设计方案,微加速度计的模拟输出信号经A/D芯片转换后由FPGA进行处理和缓存,然后ARM接收FPGA的输出数据并对数据进行显示和存储,对如何用FPGA实现该数据采集系统的传输控制和数据缓存,以及FPGA与A/D转换芯片和ARM的接口设计给出了说明,实现了加速度数值的采集、传输、显示和存储,该方法配置灵活、通用性强,可以较好地移植到相关器件的数据采集系统中。

关键词：数据采集微加速度计 FPGA ARM TLC0820

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静电悬浮微陀螺多路同步DDS信号发生器设计

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现代电子技术 2010年第18期33卷 110-113页

作者：覃贞妮刘武陈文元崔峰张卫平上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室上海200240 上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200240

信号发生器是静电悬浮微陀螺系统的重要组成部分,通常采用差动电容调制解调检测方法来得到转子的微位移,而转子微位移信号的幅值解调需要稳定的多路同步信号。采用ARM7 LPC2148为控制器和多片DDS芯片AD9850在硬件和软件上实现多路同步DD... 详细信息

信号发生器是静电悬浮微陀螺系统的重要组成部分,通常采用差动电容调制解调检测方法来得到转子的微位移,而转子微位移信号的幅值解调需要稳定的多路同步信号。采用ARM7 LPC2148为控制器和多片DDS芯片AD9850在硬件和软件上实现多路同步DDS信号发生器,并分别采用并行和串行2种方式加载芯片控制字,均可生成多路频率相位可调的信号发生器,具有频率稳定性好,频率准确度高及频率分辨率高,相位差精准的特点。

关键词：信号发生器 DDS 同步并行加载串行加载

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