检索结果-内蒙古大学图书馆

电沉积纳米锌层的研究

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电化学 2004年第1期10卷 107-111页

作者：曹莹沈天慧姚锦元丁桂甫薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院上海200030

　采用XRD研究和场发射电镜(FEG＿TEM)电沉积锌镀层纳米改性,分别观察并分析纳米镀锌层的结晶形态及其晶粒尺寸,根据镀层极化曲线和中性盐雾试验测定,结果表明,纳米镀锌层的抗腐蚀性能优于其它镀层.

关键词：电沉积纳米锌层结晶形态晶粒尺寸抗腐蚀性能家用轿车表面装饰技术镀锌钢板

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碳基场发射冷阴极材料的研究

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材料导报 2004年第5期18卷 12-15页

作者：钱开友林仰魁徐东蔡炳初孙卓薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳米科学技术研究院上海200030 华东师范大学纳米功能材料与器件应用研究中心上海200062

场发射冷阴极材料作为真空微电子器件的核心部件,在真空微电子场发射的研究与应用中占有极其重要的地位。目前碳基材料金刚石、类金刚石和碳纳米管在场发射冷阴级的研究中居统治地位。阐述了以上3种材料的制备工艺,发射特性,提出了改进... 详细信息

场发射冷阴极材料作为真空微电子器件的核心部件,在真空微电子场发射的研究与应用中占有极其重要的地位。目前碳基材料金刚石、类金刚石和碳纳米管在场发射冷阴级的研究中居统治地位。阐述了以上3种材料的制备工艺,发射特性,提出了改进其发射性能的措施,并对它们目前存在的问题及其应用前景进行了展望。

关键词：碳基材料场发射冷阴极真空微电子器件类金刚石碳纳米管发射传感器场发射平板显示器微波毫米波器件

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薄膜厚度对多层膜巨磁阻抗效应的影响研究

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功能材料与器件学报 2004年第2期10卷 165-170页

作者：周勇丁文陈吉安高孝裕王明军张亚民上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了FesiB/cu/FesiB多层膜,在100kHz～40MHz范围内研究了FesiB薄膜厚度对FesiB/Cu/FesiB多层膜巨磁阻抗效应的影响。当磁场施加在薄膜的纵向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,... 详细信息

采用磁控溅射方法在玻璃基片上制备了FesiB/cu/FesiB多层膜,在100kHz～40MHz范围内研究了FesiB薄膜厚度对FesiB/Cu/FesiB多层膜巨磁阻抗效应的影响。当磁场施加在薄膜的纵向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,然后随磁场的增加而下降到负的巨磁阻抗效应。当FesiB薄膜的厚度为1.8μm时,在频率3.2MHz、磁场2.4kA/m时,多层膜巨磁阻抗效应达最大值13.5％;在磁场为9.6kA/m时,巨磁阻抗效应为-9.2％。然而,当FesiB薄膜的厚度为1μm时,多层膜的巨磁阻抗效应在频率40MHz、磁场1.6kA/m时达最大值5.8％。另外,当磁场施加在薄膜的横向时,薄膜表现出负的巨磁阻抗效应。对于膜厚为1.8μm的FeSiB薄膜,在频率5.2MHz、磁场9.6kA/m时,巨磁阻抗效应为-12％。可见巨磁阻抗效应的最大值及负的巨磁阻抗效应与多层膜中磁各向异性轴的取向及FeSiB薄膜的厚度有关。

关键词：巨磁阻抗效应非晶FeSiB薄膜 FeSiB/Cu/FeSiB多层膜薄膜厚度

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用于MEMS器件的真空密封技术

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微细加工技术 2004年第4期 64-68,78页

作者：林仰魁钱开友徐东蔡炳初上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

介绍MEMS器件中常用的键合技术和适用于真空密封与器件性能要求的特殊结构设计,以及提高和保持器件高真空环境的方法。合适的真空密封技术不仅能够保证和提高MEMS器件的性能,同时可以简化工艺步骤,降低器件成本。

关键词： MEMS 传感器键合技术真空密封

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磁性纳米粒子的制备及应用

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磁性材料及器件 2004年第6期35卷 14-17页

作者：张效岩王英张亚非上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

概述了国内外磁性纳米粒子的研究近况。介绍了具有广泛应用前景的磁性纳米粒子的常用制备方法,以及粒子不同于常规材料的独特效应及优异的磁学性能,并结合其特性介绍了这一新材料在磁记录材料、磁性液体、生物医学、传感器、催化、永磁... 详细信息

概述了国内外磁性纳米粒子的研究近况。介绍了具有广泛应用前景的磁性纳米粒子的常用制备方法,以及粒子不同于常规材料的独特效应及优异的磁学性能,并结合其特性介绍了这一新材料在磁记录材料、磁性液体、生物医学、传感器、催化、永磁材料、颜料、雷达波吸波材料以及其他领域的应用。

关键词：磁性纳米粒子特性制备应用

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磁控溅射制备Co_(1-x)Pt_x:C复合纳米颗粒薄膜的研究

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微细加工技术 2004年第4期 31-35页

作者：张效岩覃文上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

采用组合靶,利用磁控共溅射技术制备了Co1-xPtx∶C复合纳米颗粒薄膜,并从实验和理论上对不同Pt浓度CoPt∶C薄膜的组分、微结构、磁性能、组分和微结构与磁性能之间的关系以及薄膜的应用进行了初步研究。发现CoPt粒子取向和磁性能与CoPt... 详细信息

采用组合靶,利用磁控共溅射技术制备了Co1-xPtx∶C复合纳米颗粒薄膜,并从实验和理论上对不同Pt浓度CoPt∶C薄膜的组分、微结构、磁性能、组分和微结构与磁性能之间的关系以及薄膜的应用进行了初步研究。发现CoPt粒子取向和磁性能与CoPt∶C薄膜中的Pt浓度有密切关系,在较高Pt浓度的CoPt∶C薄膜中观察到垂直各向异性现象。通过改变Pt浓度,可以获得粒子粒径小于10nm、矫顽力可控、垂直磁晶各向异性较高的薄膜。晶格结构和晶粒之间的作用力可认为是影响CoPt∶C薄膜磁性能的主要因素。

关键词： CoPt:C薄膜浓度磁性能磁控溅射

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FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜巨磁阻抗效应研究

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磁性材料及器件 2004年第1期35卷 8-11页

作者：周勇丁文陈吉安杨春生高孝裕王明军张亚民上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米/纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

研究了非晶FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜在100kHz～40MHz范围内的巨磁阻抗效应。当磁场和交流电流沿薄膜的纵向时,磁阻抗比随磁场的增大而增强,在磁场约1600A/m下达到最大值,然后随磁场的增大而下降到负值。在频率3MHz、磁场1600A/m时磁阻抗... 详细信息

研究了非晶FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜在100kHz～40MHz范围内的巨磁阻抗效应。当磁场和交流电流沿薄膜的纵向时,磁阻抗比随磁场的增大而增强,在磁场约1600A/m下达到最大值,然后随磁场的增大而下降到负值。在频率3MHz、磁场1600A/m时磁阻抗比达到最大值17.2%。磁阻抗比的最大值及负的磁阻抗比与夹心薄膜中磁各向异性轴的取向有关。另外,当磁场施加在薄膜的横向时,薄膜表现出负的磁阻抗效应,在频率3MHz、磁场5600A/m时,磁阻抗比达-13.4%。

关键词： FeSiB/Cu/FeSiB夹心薄膜巨磁阻抗效应磁各向异性

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正交法对DEM技术中模压工艺的优化研究

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微细加工技术 2004年第3期 45-49页

作者：孙洪文刘景全陈迪顾盼上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

DEM(Deepetching,Electroforming,Microreplication)技术是一种三维微细加工技术,由深刻蚀、微电铸和微复制三种工艺组成。其中微复制常采用模压工艺,而模压工艺具有许多参数,为了确定主要影响因素和最佳工艺条件,首次用正交实验方法对... 详细信息

DEM(Deepetching,Electroforming,Microreplication)技术是一种三维微细加工技术,由深刻蚀、微电铸和微复制三种工艺组成。其中微复制常采用模压工艺,而模压工艺具有许多参数,为了确定主要影响因素和最佳工艺条件,首次用正交实验方法对模压工艺进行优化。用镍模具对聚碳酸酯(PC)进行模压,得到影响因素主次为:模压温度>施加压力>加力速度>加力时间,优化参数为:模压温度180℃,压力3000N,加压速度0 2mm/min,力维持时间120s。用得到的优化参数进行实验得到了最佳的实验结果,由此证明了此方法的可行性。

关键词： DEM技术模压微复制正交实验

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磁悬浮转子微陀螺的微细加工工艺研究

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微细加工技术 2004年第1期 68-72页

作者：吴校生陈文元赵小林张卫平何淼上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室上海200030

介绍了磁悬浮转子微陀螺的工作原理及有关的微细加工工艺。磁悬浮转子微陀螺的平面线圈是采用光刻、电镀及溅射等微细加工方法来实现的,微转子的加工有冲压、蒸铝沉积等方法,其中冲压能得到质量较好的微转子;上壳体采用体硅腐蚀来制作... 详细信息

介绍了磁悬浮转子微陀螺的工作原理及有关的微细加工工艺。磁悬浮转子微陀螺的平面线圈是采用光刻、电镀及溅射等微细加工方法来实现的,微转子的加工有冲压、蒸铝沉积等方法,其中冲压能得到质量较好的微转子;上壳体采用体硅腐蚀来制作。初步的实验表明该方案是行之有效的。

关键词：磁悬浮转子微陀螺微细加工工艺平面线圈体硅腐蚀

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液相法制备纳米粒子的粒径控制研究

液相法制备纳米粒子的粒径控制研究

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第五届中国功能材料及其应用学术会议

作者：张效岩王英张亚非上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室

液相法是目前制备纳米粒子的重要方法之一.本文简要地阐述了液相法制备纳米粒子时粒径控制的机理,并在液相法过程特征的基础上,重点分析了影响粒径分布和形状控制的几个最主要因素,详细解释了化学计量学方法在控制纳米拉子粒度及其分布... 详细信息

液相法是目前制备纳米粒子的重要方法之一.本文简要地阐述了液相法制备纳米粒子时粒径控制的机理,并在液相法过程特征的基础上,重点分析了影响粒径分布和形状控制的几个最主要因素,详细解释了化学计量学方法在控制纳米拉子粒度及其分布方面的应用.

关键词：纳米粒子液相法粒径控制化学计量学

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