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文字说明：

T=题名（书名、题名），A=作者（责任者），K=主题词，P=出版物名称，PU=出版社名称，O=机构（作者单位、学位授予单位、专利申请人），L=中图分类号，C=学科分类号，U=全部字段，Y=年（出版发行年、学位年度、标准发布年）

检索规则说明：

AND代表“并且”；OR代表“或者”；NOT代表“不包含”；(注意必须大写,运算符两边需空一格)

检索范例：

范例一：(K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 AND Y=1982-2016
范例二：P=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT K=Visual AND Y=2011-2016

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7,582 篇 专利
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- 1,993 篇 电子科学与技术（可...
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- 658 篇 信息与通信工程
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- 477 篇 光学工程
- 464 篇 电气工程
- 403 篇 计算机科学与技术...
- 376 篇 控制科学与工程
- 235 篇 化学工程与技术
- 181 篇 软件工程
- 170 篇 航空宇航科学与技...
- 73 篇 动力工程及工程热...
- 50 篇 生物工程
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- 38 篇 生物医学工程（可授...
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- 174 篇 管理科学与工程(可...
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58 篇 艺术学
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55 篇 农学
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26 篇 经济学
- 25 篇 应用经济学
16 篇 教育学
7 篇 法学
6 篇 文学
1 篇 历史学

主题

95 篇 锂离子电池
86 篇 无线传感器网络
78 篇 相变存储器
71 篇 微机电系统
70 篇 太赫兹
68 篇 量子级联激光器
50 篇 微流控芯片
47 篇 soi
42 篇 镁合金
42 篇 传感器
42 篇 mems
40 篇 微电子机械系统
40 篇 电化学性能
38 篇 储氢合金
38 篇 分子束外延
37 篇 正交频分复用
36 篇 石墨烯
35 篇 离子注入
35 篇 无线传感网
34 篇 毫米波

机构

10,647 篇 中国科学院上海微...
746 篇 中国科学院大学
553 篇 中国科学院研究生...
370 篇 中国科学院上海微...
316 篇 中科院上海微系统...
285 篇 上海科技大学
242 篇 上海无线通信研究...
174 篇 上海微小卫星工程...
147 篇 上海大学
140 篇 中国科学院上海微...
126 篇 上海交通大学
118 篇 中国科学院上海微...
110 篇 上海新傲科技股份...
101 篇 中国科学院上海微...
93 篇 上海微系统与信息...
93 篇 上海新安纳电子科...
85 篇 中国电子技术标准...
76 篇 浙江大学
61 篇 复旦大学
60 篇 无锡物联网产业研...

作者

1,138 篇 宋志棠
601 篇 赵建龙
574 篇 王曦
551 篇 王跃林
440 篇 谢晓明
416 篇 封松林
394 篇 李昕欣
374 篇 欧欣
319 篇 刘波
285 篇 孙晓玮
265 篇 卜智勇
253 篇 张苗
236 篇 陈静
229 篇 尤立星
229 篇 金庆辉
228 篇 刘卫丽
226 篇 熊斌
211 篇 王永良
210 篇 张永刚
204 篇 曹俊诚

语言

13,238 篇 中文
16 篇 英文
6 篇 日文

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排序：

一种动态场景下的视觉定位方法及装置

一种动态场景下的视觉定位方法及装置

引用

作者：姜昊辰张晓林李嘉茂刘衍青朱冬晨彭镜铨 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明涉及机器人导航定位技术领域，具体是一种动态场景下的视觉定位方法及装置，所述方法包括：获取当前帧图像，提取所述当前帧图像的特征点；将所述当前帧图像输入预设深度学习网络进行语义分割，得到目标语义图像；根据所述目标语... 详细信息

标准号: CN111724439B

本发明涉及机器人导航定位技术领域，具体是一种动态场景下的视觉定位方法及装置，所述方法包括：获取当前帧图像，提取所述当前帧图像的特征点；将所述当前帧图像输入预设深度学习网络进行语义分割，得到目标语义图像；根据所述目标语义图像确定所述当前帧图像的运动掩模区域；获取所述当前帧图像的深度信息；基于所述目标语义图像和所述深度信息进行运动一致性检测，确定所述当前帧图像的静态特征点集合；根据所述静态特征点集合确定当前状态位姿信息。本发明通过语义分割结果和深度信息进行运动一致性检测，确定图像的静态特征点集合，能够有效提高在动态环境中对位姿估计的精确性和鲁棒性。

关键词：帧图像静态特征目标语义深度信息运动一致性语义分割图像集合定位技术领域机器人导航动态场景动态环境集合确定视觉定位图像确定运动掩模鲁棒性特征点状态位检测对位预设网络学习

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弯曲波导结构及偏振分束旋转器

弯曲波导结构及偏振分束旋转器

引用

作者：赵瑛璇仇超甘甫烷武爱民盛振李伟 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明提供一种弯曲波导结构、制备方法及基于所述弯曲波导结构的偏振分束旋转器，弯曲波导结构包括：衬底；第一波导，弯曲设置于衬底上，包括第一耦合区；第二波导，弯曲设置于衬底上，第二波导包括与第一耦合区耦合的第二耦合区，第... 详细信息

标准号: CN108227075B

本发明提供一种弯曲波导结构、制备方法及基于所述弯曲波导结构的偏振分束旋转器，弯曲波导结构包括：衬底；第一波导，弯曲设置于衬底上，包括第一耦合区；第二波导，弯曲设置于衬底上，第二波导包括与第一耦合区耦合的第二耦合区，第二波导与第一波导之间具有预设间距，第二耦合区包括下部波导及位于下部波导上方的上部波导，下部波导与上部波导的截面宽度不同。通过上述方案，本发明提供的弯曲波导结构，通过改进外部波导的结构，在整体波导结构中引入了非对称结构的设计，使得外部波导的耦合区的两端以及上下均具有不同的尺寸，该非对称性设计具有增大带宽的作用，解决了现有波导结构的对波长敏感问题，进一步拓宽了弯曲波导结构的实际应用。

关键词：波导弯曲波导耦合区衬底波导结构弯曲设置非对称结构非对称性敏感问题偏振分束旋转器耦合的波长外部预设制备带宽引入改进应用

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一种用于拉曼激光器的碳化硅光子器件制备方法

一种用于拉曼激光器的碳化硅光子器件制备方法

引用

作者：欧欣杨秉承伊艾伦周李平 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明涉及一种用于拉曼激光器的碳化硅光子器件制备方法，本发明方法可获得侧壁光滑、垂直度高的碳化硅直波导和微环谐振器，从而使得光被束缚在回音壁式微腔中，产生回音壁式拉曼激光。

标准号: CN117518714A

关键词：回音壁碳化硅拉曼激光器微环谐振器光子器件垂直度直波导侧壁光滑制备激光束缚

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目标对象的位置区域确定方法、装置、电子设备及存储介质

目标对象的位置区域确定方法、装置、电子设备及存储介质

引用

作者：谷宇章邱守猛袁泽强阮有志杨洪业张晓林 200050 上海市长宁区长宁路865号

本申请涉及目标对象的位置区域确定方法、装置、电子设备及存储介质，该方法通过获取图像序列；获取目标对象在图像序列的当前帧图像中的当前位置区域，并基于当前位置区域确定搜索区域；从当前位置区域确定第一特征信息；第一特征信息... 详细信息

标准号: CN111161314B

本申请涉及目标对象的位置区域确定方法、装置、电子设备及存储介质，该方法通过获取图像序列；获取目标对象在图像序列的当前帧图像中的当前位置区域，并基于当前位置区域确定搜索区域；从当前位置区域确定第一特征信息；第一特征信息包括当前位置区域的语义信息；从搜索区域确定第二特征信息；第二特征信息包括搜索区域的语义信息；基于第一特征信息和第二特征信息确定相似程度值集合；从相似程度值集合确定目标相似程度值；基于目标相似程度值和当前位置区域的尺寸确定目标对象在下一帧图像中的位置区域。如此，通过学习到更高级的语义信息，可以提高对目标对象位置区域跟踪确定的准确度，可以提高目标对象的跟踪精度和鲁棒性。

关键词：位置区域特征信息相似程度目标对象搜索区域语义信息帧图像目标对象位置尺寸确定存储介质电子设备获取目标获取图像集合确定区域跟踪图像序列准确度鲁棒性集合跟踪申请学习

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一种氟化钙单晶材料的表面处理方法

一种氟化钙单晶材料的表面处理方法

引用

作者：游天桂宋秋冬伊艾伦欧欣杨义 200050 上海市长宁区长宁路865号

本申请公开了一种氟化钙单晶材料的表面处理方法，包括对待处理氟化钙单晶材料进行化学机械抛光；在化学机械抛光过程中采用的化学抛光液包括二氧化硅抛光液；对抛光后的氟化钙单晶材料进行多步清洗，并干燥，得到目标氟化钙单晶材料。... 详细信息

标准号: CN117512777A

本申请公开了一种氟化钙单晶材料的表面处理方法，包括对待处理氟化钙单晶材料进行化学机械抛光；在化学机械抛光过程中采用的化学抛光液包括二氧化硅抛光液；对抛光后的氟化钙单晶材料进行多步清洗，并干燥，得到目标氟化钙单晶材料。本申请采用二氧化硅抛光液进行化学机械抛光，并配合多步清洗，对氟化钙单晶材料进行表面处理，能够实现对氟化钙单晶材料的表面的超高精度处理，大大降低氟化钙单晶材料表面的粗糙度和颗粒度，避免在加工过程中对氟化钙单晶材料表面造成脆性破裂和划痕等表面或亚表面损伤，提升氟化钙单晶材料的面型精度和表面质量。

关键词：氟化钙单晶二氧化硅抛光液化学机械抛光清洗化学机械抛光过程脆性化学抛光液亚表面损伤粗糙度颗粒度抛光划痕面型申请破裂配合

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一种悬空石墨烯的制备方法

一种悬空石墨烯的制备方法

引用

作者：陈志蓥丁惠凤李彩艳孙浩高秀丽 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明涉及一种悬空石墨烯的制备方法，包括在衬底上旋涂剥离胶和光刻胶，经过曝光显影去除光刻胶和多余的剥离胶，将石墨烯和光刻胶的结合体转移到剥离胶上，经过曝光显影出现图形，刻蚀暴露的部分石墨烯，再一次旋涂光刻胶，再经过曝... 详细信息

标准号: CN117699786A

本发明涉及一种悬空石墨烯的制备方法，包括在衬底上旋涂剥离胶和光刻胶，经过曝光显影去除光刻胶和多余的剥离胶，将石墨烯和光刻胶的结合体转移到剥离胶上，经过曝光显影出现图形，刻蚀暴露的部分石墨烯，再一次旋涂光刻胶，再经过曝光显影去除多余光刻胶，在露出石墨烯的区域蒸发或溅射一层金属，然后去除光刻胶，最后去除剥离胶，即得。本发明可以精准实现不同形状不同尺寸的石墨烯悬空结构的制备，也可以应用于任意衬底，具有良好的推广应用前景。

关键词：光刻胶石墨烯剥离胶去除曝光显影衬底制备悬空结构结合体溅射刻蚀上旋旋涂蒸发悬空金属暴露应用

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基于分布式压力传感器提取步态参数的方法及装置

基于分布式压力传感器提取步态参数的方法及装置

引用

作者：孙立敏杨程宇张月 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明提供一种基于分布式压力传感器提取步态参数的方法及装置，方法包括：将若干个传感器沿预定方向依次排布，传感器包括若干个呈阵列排布的感应点，各感应点对应不同的位置坐标；被试者沿预定方向依次踩在各传感器上通过，获取各传... 详细信息

标准号: CN118078266A

本发明提供一种基于分布式压力传感器提取步态参数的方法及装置，方法包括：将若干个传感器沿预定方向依次排布，传感器包括若干个呈阵列排布的感应点，各感应点对应不同的位置坐标；被试者沿预定方向依次踩在各传感器上通过，获取各传感器中各感应点的压力数据；基于各传感器中与脚部接触的感应点的数量及其位置坐标确定脚跟在各传感器的位置，基于各传感器中各感应点的数据变化确定脚部进入和离开各传感器的时刻；基于本源数据计算得到步态参数，本源数据包括脚跟位置、脚部进入时间和脚部离开时间，步态参数包括空间步态参数、时间步态参数和时空步态参数。通过本发明解决了现有步态参数提取方案存在成本高、算法工作量大的问题。

关键词：传感器步态参数感应点脚部预定方向分布式压力传感器位置坐标确定脚跟位置数据包括数据变化数据计算位置坐标压力数据阵列排布排布算法工作量脚跟时空

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一种不等比例横向垂直三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法

一种不等比例横向垂直三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法

引用

作者：朱子健赵瑛璇甘甫烷 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明涉及一种不等比例横向垂直三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法，所述电光调制器在光传播方向上设有单个周期波导，所述波导中央设置有脊波导，所述脊波导在光传播方向上设有第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2)；所述第一轻... 详细信息

标准号: CN118295156A

本发明涉及一种不等比例横向垂直三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法，所述电光调制器在光传播方向上设有单个周期波导，所述波导中央设置有脊波导，所述脊波导在光传播方向上设有第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2)；所述第一轻掺杂区(1)的横向PN结与第二轻掺杂区(2)的垂直PN结在第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2)的交界面形成一个三维PN结；所述第一轻掺杂区(1)和第二轻掺杂区(2)在光传播方向上占脊波导的比例不相同。本发明通过构造横向PN结‑垂直PN结的不等比例三维掺杂结构，实现了高效调制的硅基耗尽型调制器，这种调制器在低压下具有高带宽的优势，可实现低功耗大规模数据传输，具有良好的市场应用前景。

关键词：轻掺杂区光传播方向脊波导三维电光调制器横向PN结垂直调制器耗尽型波导大规模数据传输比例横向单个周期高效调制市场应用中央设置掺杂硅低功耗高带宽交界面硅基制备掺杂

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一种器件的制备方法及结构

一种器件的制备方法及结构

引用

作者：伊艾伦欧欣蔡佳辰王成立 200050 上海市长宁区长宁路865号

本申请涉及微电子器件领域，尤其涉及一种器件的制备方法及结构。方法包括：对第一碳化硅衬底进行离子注入，得到第一待键合结构；对第二碳化硅衬底进行修整处理；将第一待键合结构和第二碳化硅衬底进行键合，得到第一键合结构；基于第... 详细信息

标准号: CN116774469B

本申请涉及微电子器件领域，尤其涉及一种器件的制备方法及结构。方法包括：对第一碳化硅衬底进行离子注入，得到第一待键合结构；对第二碳化硅衬底进行修整处理；将第一待键合结构和第二碳化硅衬底进行键合，得到第一键合结构；基于第一键合结构进行碳化硅剥离，得到碳化硅外延基底；在碳化硅外延基底上制备碳化硅外延层，得到第二待键合结构；将第二待键合结构的碳化硅外延层和第三碳化硅衬底基于介质层进行键合，得到第二键合结构；将第二键合结构中的碳化硅外延基底去除，得到复合衬底；在复合衬底的待刻蚀区域制备调制器件结构，得到器件。本申请可以基于载流子色散的机制，实现碳化硅的高效光调制的解决方案。

关键词：键合结构碳化硅衬底碳化硅外延基底制备碳化硅外延层键合载流子复合微电子器件调制器件刻蚀区域修整处理光调制介质层去除色散申请离子剥离

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一种柔性薄型单晶硅太阳电池的制备方法

一种柔性薄型单晶硅太阳电池的制备方法

引用

作者：刘文柱刘正新 200050 上海市长宁区长宁路865号

本发明涉及一种柔性薄型单晶硅太阳电池的制备方法，其包括如下步骤：S1，提供单晶硅片；S2，对单晶硅片进行制绒，以在单晶硅片的至少一面制作具有金字塔形貌的绒面减反射结构；S3，对单晶硅片的边缘部分进行圆滑处理，该边缘部分为到... 详细信息

标准号: CN117673195A

本发明涉及一种柔性薄型单晶硅太阳电池的制备方法，其包括如下步骤：S1，提供单晶硅片；S2，对单晶硅片进行制绒，以在单晶硅片的至少一面制作具有金字塔形貌的绒面减反射结构；S3，对单晶硅片的边缘部分进行圆滑处理，该边缘部分为到单晶硅片的边缘的距离不大于5mm的边缘区域；S4，对单晶硅片进行清洗；S5，利用圆滑处理并清洗的单晶硅片制作柔性薄型太阳电池。根据本发明的柔性薄型单晶硅太阳电池的制备方法，消除造成硅片碎裂的应力集中产生区，使薄型单晶硅片具有柔性的结构特征，显著提高单晶硅片的柔性，工艺简单，具有广泛的应用前景和实用价值。

关键词：单晶硅片柔性薄型单晶硅太阳电池圆滑处理制备清洗金字塔形貌边缘区域应力集中碎裂减反射薄型硅片绒面制绒制作应用

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