检索结果-内蒙古大学图书馆

物理学报 2013年第6期62卷 238-242页

作者：李方家刘军? 李儒新中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光国家重点实验室上海 201800

研究一种基于非线性透明光学介质中的自衍射和自参考光谱干涉的新方法来进行飞秒激光脉冲测量.实验中,基于此新方法设计一种简单装置,对800 nm中心波长,约40 fs近无啁啾飞秒激光脉冲进行测量,并与自参考光谱相干电场重建法测量结果进行... 详细信息

研究一种基于非线性透明光学介质中的自衍射和自参考光谱干涉的新方法来进行飞秒激光脉冲测量.实验中,基于此新方法设计一种简单装置,对800 nm中心波长,约40 fs近无啁啾飞秒激光脉冲进行测量,并与自参考光谱相干电场重建法测量结果进行比较,得到了一致的结果.此新方法与相应的装置结构简单,可以对深紫外到中红外光谱范围的飞秒脉冲进行测量.

关键词：飞秒激光脉冲自参考光谱干涉自衍射脉冲测量

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激光脉冲宽度对有质动力加速电子的影响

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光学学报 2005年第11期25卷 1506-1509页

作者：张淼余玮林尊琪中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室上海201800 中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800

基于真空中单电子运动模型,编程计算得到了高斯激光脉冲与初始位于激光传播轴上电子的相互作用结果。不同激光参量条件下,得到了电子的能量增益与激光强度、焦斑大小和脉冲宽度关系。结果表明,高斯激光脉冲焦斑较大时,电子没有明显的能... 详细信息

基于真空中单电子运动模型,编程计算得到了高斯激光脉冲与初始位于激光传播轴上电子的相互作用结果。不同激光参量条件下,得到了电子的能量增益与激光强度、焦斑大小和脉冲宽度关系。结果表明,高斯激光脉冲焦斑较大时,电子没有明显的能量增益,高斯激光脉冲焦斑太小时,电子也没有明显的能量增益。电子的能量增益有一个最佳焦斑大小。在相同激光强度下,电子能量增益的最佳焦斑大小随脉冲宽度的增大而增大,但最佳焦斑大小与脉冲宽度的比值基本上是不变的。

关键词：激光光学电子加速有质动力单电子运动模型

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周期量级超短激光脉冲作用下导带电子的光吸收与碰撞电离

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物理学报 2005年第7期54卷 3451-3456页

作者：王晓峰贾天卿徐至展中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800 中国科学院研究生院北京100039

激光照射下光学材料的损伤过程中,导带电子的加热和碰撞电离是非常重要的过程,影响着导带电子的产生、晶格能量的沉积和破坏.分析了Drude模型的局限性,从经典力学出发求解了周期量级激光场中导带电子的运动方程,计算了导带电子的光吸收... 详细信息

激光照射下光学材料的损伤过程中,导带电子的加热和碰撞电离是非常重要的过程,影响着导带电子的产生、晶格能量的沉积和破坏.分析了Drude模型的局限性,从经典力学出发求解了周期量级激光场中导带电子的运动方程,计算了导带电子的光吸收和碰撞电离,分析了激光强度、载波相位等对碰撞电离的影响.

关键词：导带电子碰撞电离光吸收脉冲作用超短激光量级周期损伤过程光学材料激光照射运动方程经典力学激光强度载波相位局限性 e模型激光场晶格求解

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极紫外光刻中的边缘放置误差控制

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中国激光 2024年第7期51卷 64-84页

作者：曹晶杨文河刘泽旭陈韫懿魏鑫林楠中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800 超强激光科学与技术重点实验室(中国科学院) 上海201800

极紫外(EUV)光刻是7 nm及以下技术节点芯片大规模量产的关键技术。随着技术节点的减小、工艺复杂性的增加,芯片的良率面临着巨大挑战。边缘放置误差(EPE)是量化多重曝光技术过程中制造图案保真度的最重要指标。EPE控制已成为多重曝光和... 详细信息

极紫外(EUV)光刻是7 nm及以下技术节点芯片大规模量产的关键技术。随着技术节点的减小、工艺复杂性的增加,芯片的良率面临着巨大挑战。边缘放置误差(EPE)是量化多重曝光技术过程中制造图案保真度的最重要指标。EPE控制已成为多重曝光和EUV融合光刻时代最大的挑战之一。EPE是关键尺寸(CD)误差和套刻误差的结合。在EUV光刻中,光学邻近效应和随机效应是引起光刻误差的重要因素。光学邻近效应校正(OPC)可以使EPE最小化。对于最先进的技术节点,EPE通常由随机效应主导,因此需要对EPE进行建模,尤其是需要对随机效应进行严格的建模,以分析影响EPE的关键参数。选择不同的测量手段对关键参数进行测量并优化EPE是提高芯片良率的重要途径。本文首先综述了EPE在EUV光刻中的重要作用,然后讨论了OPC和随机效应、EPE模型及涉及的关键参数,并介绍了关键参数的测量方法,最后总结和展望了与EPE相关的技术。

关键词：测量极紫外光刻光源套刻光学邻近效应校正对准

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基于等离子体环境涨落的原子结构计算模型

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物理学报 2011年第5期60卷 202-207页

作者：李向东中国科学院上海机密光学机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800

本文将等离子体核聚变反应截面研究中利用等离子体环境涨落进行修正了的Debye-Hückel屏蔽势推广到计算等离子体中辐射离子束缚态的能级结构.通过Tsallis参数q的变化,在等离子体辐射离子束缚态能级结构的计算中加入等离子体参数涨... 详细信息

本文将等离子体核聚变反应截面研究中利用等离子体环境涨落进行修正了的Debye-Hückel屏蔽势推广到计算等离子体中辐射离子束缚态的能级结构.通过Tsallis参数q的变化,在等离子体辐射离子束缚态能级结构的计算中加入等离子体参数涨落的平均效应,即,等离子体动力学.具体给出了利用修正的Debye-Hückel屏蔽势对类氦铝束缚态能级结构的计算结果.结果表明基于这种修正的屏蔽势,自由电子的极化分布具有和线性Debye-Hückel屏蔽势不同的结构.这种通过等离子体涨落分布对屏蔽势函数进行平均方法同样可以推广到除Debye屏蔽模型以外的其他等离子体原子结构的计算模型中.

关键词：等离子体中的原子结构等离子体环境涨落修正了的Debye-Hückel屏蔽势

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飞秒脉冲钛宝石激光器中的低振荡高色散镜对

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中国激光 2018年第10期45卷 127-131页

作者：刘加王胭脂赵睿睿郭可升陈瑞溢齐红基朱美萍王丁易葵冷雨欣邵建达中国科学院上海光学精密机械研究所强激光材料重点实验室上海201800 中国科学院大学北京100049 中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800

基于高反射膜层和Gires-Tournois(G-T)腔,优化设计了一对低振荡高色散镜。该色散镜对的中心波长为800 nm,能够在680～920 nm的带宽范围内提供-200 fs^2的平坦的群延迟色散。基于双离子束溅射工艺,利用Nb_2O_5和SiO_2制备了低振荡高色散... 详细信息

基于高反射膜层和Gires-Tournois(G-T)腔,优化设计了一对低振荡高色散镜。该色散镜对的中心波长为800 nm,能够在680～920 nm的带宽范围内提供-200 fs^2的平坦的群延迟色散。基于双离子束溅射工艺,利用Nb_2O_5和SiO_2制备了低振荡高色散镜对,并将其应用于800 nm钛宝石激光器系统。通过高色散镜对2次,100.8 fs激光脉冲被压缩至19 fs。

关键词：薄膜多层膜设计干涉薄膜脉冲压缩钛宝石激光

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非傍轴光束的小尺度自聚焦研究

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物理学报 2000年第3期49卷 460-462页

作者：文双春范滇元中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家重点实验室上海201800

基于非傍轴传输方程,利用线性扰动理论,得到了小尺度调制增长率的表达式.在此基础上,讨论了非傍轴对小尺度自聚焦的影响.通过对非傍轴和傍轴情形下小尺度调制的增益谱分析,发现非傍轴对小尺度调制的增益谱的影响程度与光束的强度有关,... 详细信息

基于非傍轴传输方程,利用线性扰动理论,得到了小尺度调制增长率的表达式.在此基础上,讨论了非傍轴对小尺度自聚焦的影响.通过对非傍轴和傍轴情形下小尺度调制的增益谱分析,发现非傍轴对小尺度调制的增益谱的影响程度与光束的强度有关,光强越强,影响越大.但总的趋势是非傍轴使小尺度调制增长的截止频率、最快增长频率和最大增长率减小。

关键词：非傍轴光束小尺度自聚焦非线性光学

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飞秒激光脉冲作用下氧化镁的烧蚀及其超快动力学过程

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光子学报 2006年第8期35卷 1126-1129页

作者：徐世珍贾天卿徐至展李晓溪冯东海孙海轶李成斌王晓峰电子科技大学物理电子学院中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800 中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室

研究了双面抛光氧化镁单晶(111)表面800nm飞秒激光单脉冲烧蚀阈值和激光脉宽的依赖关系.利用泵浦-探针技术,测量不同能量和脉宽作用下飞秒激光烧蚀的时间分辨反射率的演化.通过扫描电镜观察其烧蚀形貌,发现大量的沿氧化镁[100]晶向开裂... 详细信息

研究了双面抛光氧化镁单晶(111)表面800nm飞秒激光单脉冲烧蚀阈值和激光脉宽的依赖关系.利用泵浦-探针技术,测量不同能量和脉宽作用下飞秒激光烧蚀的时间分辨反射率的演化.通过扫描电镜观察其烧蚀形貌,发现大量的沿氧化镁[100]晶向开裂的裂纹.讨论了表面裂纹的形成机理,并解释了飞秒激光烧蚀氧化镁的超快动力学过程.

关键词：飞秒激光脉冲烧蚀氧化镁超快动力学

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增益(损耗)介质中高功率激光束的小尺度自聚焦理论研究

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物理学报 2000年第7期49卷 1282-1286页

作者：文双春范滇元中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家重点实验室上海201800

将Bespalov Talanov理论推广到介质有增益 (损耗 )的情形 ,揭示了在介质有增益或损耗从而光强随传输距离变化的情况下小尺度自聚焦的特性 .主要是在一定的输入功率下 ,小尺度调制增长的临界频率、最快增长频率及其对应的最大增益 (B积... 详细信息

将Bespalov Talanov理论推广到介质有增益 (损耗 )的情形 ,揭示了在介质有增益或损耗从而光强随传输距离变化的情况下小尺度自聚焦的特性 .主要是在一定的输入功率下 ,小尺度调制增长的临界频率、最快增长频率及其对应的最大增益 (B积分 )均随介质增益或传输距离的增大而增大 ;对于确定的输出功率 ,随介质增益的提高 ,B积分值变小 ,同时最快增长频率向低频方向移动 .利用局部能量守恒定律唯象地研究了增益和损耗对激光束成丝的影响 ,发现增益使成丝距离延长而损耗使成丝距离缩短 .讨论了介质增益和损耗对高功率激光放大器设计的影响 .尽量使激光器在小输入高增益状态下运行 ,可以从某种程度上抑制因小尺度自聚焦而导致的介质破坏效应 .

关键词：自聚焦激光放大器高功率激光束增益介质

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石英波片偏光干涉谱的研究

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光学学报 2007年第6期27卷 1044-1048页

作者：冯伟伟林礼煌陈立刚中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室上海201800 中国科学院安徽光学精密机械研究所遥感实验室合肥230031

根据石英晶体双折射率的色散特性,对石英波片的偏光干涉谱进行了理论分析和数值模拟,提出了一种石英波片延迟量和厚度的偏光干涉标定法。即由偏光干涉谱,可以得出石英波片在200-2000 nm宽光谱范围内的延迟量;通过对长波段的偏光干涉谱... 详细信息

根据石英晶体双折射率的色散特性,对石英波片的偏光干涉谱进行了理论分析和数值模拟,提出了一种石英波片延迟量和厚度的偏光干涉标定法。即由偏光干涉谱,可以得出石英波片在200-2000 nm宽光谱范围内的延迟量;通过对长波段的偏光干涉谱极值波长的精确判断,可以准确地计算出该石英波片的厚度。利用Lambda900紫外-可见-近红外分光光度计对一片石英波片的偏光干涉谱进行了测量。在波长精度为0.1 nm的情况下,测量的厚度精度为0.1μm。误差分析结果表明,通过提高光谱的最小分辨力及选择较长的光谱波段进行测量计算,可以有效地降低误差。

关键词：光学器件偏光干涉量度学石英波片双折射率色散延迟量厚度测量

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