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检索条件"机构=中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料重点实验室"
767 条 记 录,以下是761-770 订阅
排序:
基于脉冲I-V测试方法的半导体激光器热特性测量
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飞通光电子技术 2002年 第4期2卷 186-189页
作者: 南矿军 张永刚 何友军 李爱珍 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
报道了一种在脉冲驱动条件下基于半导体激光器I—V特性测量进行半导体激光器热特性表征的实验方法。结果表明,基于分析在不同脉冲驱动条件下1.3μm InAsP/InGaAsP脊型波导应变补偿多量子阱激光器芯片的I—V特性,可以方便地得到该激光器... 详细信息
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SOI器件中浮体效应的研究进展
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功能材料与器件学报 2002年 第3期8卷 297-302页
作者: 朱鸣 林成鲁 邢昆山 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050 中国兵器工业第二一四研究所 蚌埠233042
SOI(SiliconOnInsulator)器件中氧化埋层的隔离作用带来的浮体效应,将显著地影响器件的性能。本文阐述了浮体效应产生的原因以及它对SOI器件和电路的影响,并从体接触和工艺角度两个方面介绍了目前国际上比较优异的抑制浮体效应的几种典... 详细信息
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负有效质量亚毫米波振荡器的电流振荡模式
负有效质量亚毫米波振荡器的电流振荡模式
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 曹俊诚 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室(上海)
理论上研究了在直流偏置下量子阱负有效质量p+pp+二极管中时空电流振荡模式以及电流自振荡频率特性.计算中考虑了杂质散射、声学声子散射、极化光学声子散射以及非极化光学声子散射.计算表明,外加偏压和掺杂浓度强烈影响电流自振荡的模... 详细信息
来源: 评论
宽范围脉冲测量条件下半导体激光器的特性及热阻测量
宽范围脉冲测量条件下半导体激光器的特性及热阻测量
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 张永刚 南矿军 何友军 李爱珍 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室(上海)
本文介绍了基于宽范围脉冲测量条件下的半导体激光器热阻测量方案以及具有宽范围和大电流驱动能力、能覆盖从可见光至中红外波段的半导体激光器测量表征系统,并给出了具体测量实例.
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(NH<,4>)<,2>S钝化对InGaAsSb PIN探测器暗电流特性的影响
(NH<,4>)<,2>S钝化对InGaAsSb PIN探测器暗电流特性的影响
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 张雄 李爱珍 林春 郑燕兰 许刚毅 信息功能材料国家重点实验室 中国科学院上海微系统与信息技术研究所(上海)
本文研究了(NH)S钝化处理对MBE生长的InGaAsSb PIN探测器暗电流密度的影响,报道了一路改进的新的中性(NH)S钝化方法,器件的暗电流密度在0.5V的偏压下降了一个数量级.
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GaN MOCVD生长中低温缓冲层生长速率对外延层质量的影响
GaN MOCVD生长中低温缓冲层生长速率对外延层质量的影响
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 于广辉 千叶大学电子光情报基础技术研究中心(日本) 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室(上海)
本文通过对于生长过程的在位监测,以及生长后的外延片的结晶和表面测量,研究了在MOCVD生长中,研究了低温缓冲层生长速率对于外延层质量的影响.
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1.3μm垂直腔面发射激光器的进展
1.3μm垂直腔面发射激光器的进展
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第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议
作者: 吴惠桢 雷华平 陈意桥 齐鸣 李爱珍 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室(上海市)
论文综述了1.3μm垂直腔面发射激光器的研究现状,设计了适合与1.3μm垂直腔面发射激光器的多层膜反射镜,并用光荧光光谱分析了由GSMBE生长的、可用与1.3μm垂直腔面发射激光器有源层的InAsP/InGaAsP应变补偿量子阱结构的发光特性.
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