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作者

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语言

  • 1,894 篇 中文
检索条件"机构=中国科学院上海微系统与信息技术研究所微系统技术实验室"
1894 条 记 录,以下是1751-1760 订阅
排序:
A Novel LDMOS Structure in Thin Film Patterned-SOI Technology with a Silicon Window Beneath p Well
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Journal of Semiconductors 2004年 第12期25卷 1580-1585页
作者: 程新红 杨文伟 宋朝瑞 俞跃辉 沈达升 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束实验室 上海200050 阿拉巴马州大学电气与计算机工程系
A novel patterned-SOI LDMOS structure with a silicon window beneath the p well is *** performance is simulated *** comparison to SOI counterpart,the off-state and the on-state breakdown voltage can increase by 57% and... 详细信息
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纳机电探针阵列与压阻式传感器集成技术研究
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传感器技术 2004年 第1期23卷 73-76页
作者: 杨尊先 程保罗 李昕欣 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术国家重点实验室 上海200050 浙江大学信息与电子工程学系 浙江杭州310027
给出了纳机电探针阵列与压阻式传感器集成一维阵列器件结构及工作原理;通过理论计算得到该结构的一些主要的特性参数,计算结果与ANSYS模拟结果相符合;并运用微纳机械加工技术制造出该器件。该器件将加热电阻器、压阻式传感器和硅基针尖... 详细信息
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在SOI材料上制备高质量的氧化铪薄膜
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功能材料 2004年 第6期35卷 736-738页
作者: 邢玉梅 陶凯 俞跃辉 郑志宏 杨文伟 宋朝瑞 沈达身 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 美国阿拉巴马大学电子与计算机工程系
 用电子束蒸发氧化铪靶的方法,在SOI(绝缘体上硅)材料上制备了氧化铪薄膜,随后在氮气中进行快速退火(600℃,300s)。借助掠角X射线衍射(GAXRD)、X射线光电子能谱(XPS)、高分辨透射电镜(HRTEM)技术分析了样品的微观结构,研究了样品在退... 详细信息
来源: 评论
电子封装中氮化硅/硅酮双层薄膜的水汽防护研究
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腐蚀科学与防护技术 2004年 第5期16卷 287-290页
作者: 黄卫东 王旭洪 王莉 盛玫 徐立强 Frank Stubhan 罗乐 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感器技术国家重点实验室 上海新代车辆技术有限公司 上海200050 上海新代车辆技术有限公司
测量了在FR4基板上用引线键合和顶充胶封装的湿度传感器在无防护、氮化硅薄膜防护、硅酮涂层防护、硅酮涂层加氮化硅薄膜防护四种情况下及在不同温湿度环境下的水汽扩散曲线。应用有限元分析和FICK扩散方程模拟了实验曲线 ,得到了水汽... 详细信息
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PIII技术在制备c-BN硬化层中的应用
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稀有金属 2004年 第4期28卷 690-694页
作者: 王钧石 柳襄怀 王曦 西南交通大学材料科学与工程学院 四川成都610031 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
采用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术 (PIII)在渗硼后的 5 0Mn钢试样上制备出了厚度为 0 .15~ 0 .2mm的立方氮化硼 (c BN)表面硬化层。经X射线电子能谱 (XPS)和X射线衍射分析 (XRD) ,发现硬化层中的组织有立方氮化硼 (c BN)、六... 详细信息
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基于二维分布阵列波导光栅的光波分复用器/解复用器
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光电子.激光 2004年 第9期15卷 1031-1034,1041页
作者: 杨建义 江晓清 贾科淼 李锡华 王明华 吴亚明 王跃林 浙江大学信息与电子工程学系 杭州310027 中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室 上海200050
基于二维分布衍射光栅与平面波导概念,提出了基于二维分布阵列波导光栅的光波分复用器/解复用器。光波分复用器/解复用器利用二维衍射光栅的波长变化下光波的衍射路径由两个方向的色散值矢量合成决定这一特性,同时适当地控制其自由谱范... 详细信息
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传感技术联合国家重点实验室的MEMS及传感器工作
传感技术联合国家重点实验室的MEMS及传感器工作
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第一届长三角地区传感技术学术交流会
作者: 王跃林 王渭源 李昕欣 焦继伟 陆德仁 熊斌 罗乐 吴亚明 李铁 杨建义 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家联合重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所
1 引言进入上世纪八十年代,随着微电子技术的飞速发展,使得起着人“大脑”作用的计算机功能越来越强,而起着人“五官”作用的传感器却没有大的进展,形成了聪明的“大脑”指挥笨拙的“五官”局面,传感器的矛盾显得越来越突出,因此,传感... 详细信息
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先进体硅机械加工技术——从微米到纳米
先进体硅机械加工技术——从微米到纳米
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第一届长三角地区传感技术学术交流会
作者: 李昕欣 王跃林 李铁 杨恒 焦继伟 传感技术国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 传感技术国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所
介绍了多种自主研发的先进体硅机械加工技术。在湿法各向异性腐蚀技术方面,开发了一种“掩模-无掩模三维腐蚀技术”,只进行一次光刻,就可以用顺序的腐蚀过程实现多层微机械结构,用该技术可以制备多种先进MEMS器件。介绍用ICP-DRIE深刻... 详细信息
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离子注入制备掺Er富硅氧化硅材料光致发光
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功能材料与器件学报 2004年 第2期10卷 151-154页
作者: 张昌盛 肖海波 王永进 陈志君 程新利 张峰 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
利用离子注入方法制备了掺Er富硅氧化硅材料,用XRD,TEM方法研究材料微观结构,并测量了样品的光致发光(PL),研究了发光强度随测量温度的变化。试验表明:在1173K以上退火,注入硅集聚,形成φ(2-4)nm的纳米晶硅(nc-Si),纳米晶硅外面包裹非晶... 详细信息
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电子束蒸发沉积制备高度晶体取向的CeO_2薄膜
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科技通讯(上海 2004年 第1期10卷 24-28页
作者: 金波 李炜 郑志宏 王曦 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 离子束重点实验室上海200050
为了得到CeO2为埋层的新型SOI(SiliconOnInsulator)材料,采用电子束蒸发沉积及后期退火处理的方法制备得到了高度(111)、(311)晶体取向的CeO2薄膜,为进一步外延制备SOI材料打下了良好的基础。同时,从热力学角度就退火对CeO2薄膜晶体取... 详细信息
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