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文献类型

  • 34 篇 期刊文献
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  • 37 篇 电子文献
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学科分类号

  • 35 篇 工学
    • 29 篇 材料科学与工程(可...
    • 23 篇 电子科学与技术(可...
    • 3 篇 机械工程
    • 3 篇 信息与通信工程
    • 1 篇 光学工程
    • 1 篇 化学工程与技术
  • 8 篇 理学
    • 7 篇 物理学
    • 1 篇 化学

主题

  • 6 篇 碳纳米管
  • 6 篇 soi
  • 4 篇 离子注入
  • 4 篇 离子束辅助沉积
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  • 3 篇 集成光学
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  • 2 篇 simox
  • 2 篇 退火
  • 2 篇 离子束增强沉积
  • 2 篇 富硅氧化硅
  • 2 篇 渗硼
  • 2 篇 丝网印刷法
  • 2 篇 场发射阴极
  • 2 篇 结构
  • 1 篇 氮离子
  • 1 篇 阴极阵列
  • 1 篇 ceo2薄膜
  • 1 篇 ldmos

机构

  • 22 篇 中国科学院上海微...
  • 7 篇 华东师范大学
  • 3 篇 中国科学院半导体...
  • 3 篇 中国科学院上海微...
  • 3 篇 中国科学院上海微...
  • 3 篇 中国科学院上海微...
  • 2 篇 中国科学院上海微...
  • 2 篇 清华大学
  • 2 篇 西南交通大学
  • 2 篇 中国科学院上海微...
  • 2 篇 中国科学院电子学...
  • 1 篇 阿拉巴马州大学
  • 1 篇 中国科学院上海微...
  • 1 篇 美国阿拉巴马大学
  • 1 篇 中国科学院研究生...
  • 1 篇 香港中文大学
  • 1 篇 上海市中山医院
  • 1 篇 中国科学院上海微...
  • 1 篇 中国科学院上海微...
  • 1 篇 北京工业大学

作者

  • 18 篇 王曦
  • 12 篇 柳襄怀
  • 8 篇 张峰
  • 7 篇 郑志宏
  • 7 篇 冯涛
  • 7 篇 陈猛
  • 6 篇 邹世昌
  • 6 篇 俞跃辉
  • 6 篇 徐静芳
  • 6 篇 林志浪
  • 5 篇 宋朝瑞
  • 5 篇 李琼
  • 4 篇 于伟东
  • 4 篇 程新利
  • 4 篇 刘相华
  • 4 篇 张昌盛
  • 4 篇 张继华
  • 4 篇 肖海波
  • 4 篇 王永进
  • 3 篇 陈志君

语言

  • 37 篇 中文
检索条件"机构=中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室"
37 条 记 录,以下是11-20 订阅
排序:
Investigation of Thermal Property of Novel DSOI MOSFETs Fabricated with Local SIMOX Technique
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Journal of Semiconductors 2003年 第2期24卷 117-121页
作者: 林羲 何平 田立林 李志坚 董业民 陈猛 王曦 清华大学微电子学研究所 北京100084 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
DSOI,bulk Si and SOI MOSFETs are fabricated on the same die successfully using local oxygen implantation *** thermal properties of the three kinds of devices are described and compared from simulation and *** simulat... 详细信息
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SIMOX硅片埋氧层垂直方向热导率的测量
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Journal of Semiconductors 2003年 第10期24卷 1063-1066页
作者: 何平 刘理天 田立林 李志坚 董业明 陈猛 王曦 清华大学微电子学研究所 北京100084 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
提出了一种简单、有效而且准确的测量SOI硅片埋氧层垂直方向热导率的方法 ,并采用这种方法测量了用SIMOX工艺制作的SOI硅片的埋氧层垂直方向的热导率 .测量结果显示至少在 5 5nm以上的尺度上对于SIMOX硅片的埋氧层垂直方向经典的热导率... 详细信息
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三色碳纳米管场发射灯的研制
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Journal of Semiconductors 2003年 第B05期24卷 161-165页
作者: 冯涛 李琼 张继华 于伟东 柳襄怀 王曦 徐静芳 邹世昌 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室,上海200050 华东师范大学电子科学与技术系,上海200062
报道了以粉末状碳纳米管为原料用丝网印刷法制备图形化的碳纳米管阴极的技术。采用热处理和氢等离子体表面处理方法提高了丝网印刷法制备的碳纳米管阴极的场发射性能,处理后阴极的阈值场强从4V/μm降到~1V/μm,场发射电流密度在4... 详细信息
来源: 评论
具有复合埋层的新型SIMON材料的制备
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Journal of Semiconductors 2004年 第7期25卷 814-818页
作者: 易万兵 陈猛 张恩霞 刘相华 陈静 董业民 金波 刘忠立 王曦 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 香港中文大学电子工程系 中国科学院半导体研究所 北京10008
采用氮氧共注入方法制备了新型的 SIMON(separation by implanted oxygen and nitrogen) SOI材料 .采用不同的制备方法分别制作出样品并进行了结构测试和分析 ,发现 SIMON材料的结构和质量对注入条件和退火工艺非常敏感 .并对各种氮氧... 详细信息
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功能碳薄膜化学键成分的椭偏光谱研究
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功能材料 2003年 第5期34卷 582-584页
作者: 莫党 李芳 陈第虎 郭扬铭 魏爱香 中山大学理工学院光电材料与技术国家重点实验室 广东广州510275 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室
 用磁过滤真空离子溅射系统,改变加在单晶Si(100)衬底上的衬底偏压,制备不同sp3C键与sp2C键比例的碳薄膜样品。测量了2.0~5.0eV光子能量范围内各个碳薄膜样品的椭偏光谱。发现该谱与碳薄膜中的sp键比例有明显的关系。我们提出一种较... 详细信息
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涂布法制备碳纳米管场发射阴极及其性能的研究
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发光学报 2002年 第4期23卷 406-408页
作者: 冯涛 柳襄怀 王曦 李琼 徐静芳 诸玉坤 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束开放研究实验室 上海200050 华东师范大学电子科学与技术系 上海200062
碳纳米管(CNT)作为场发射阴极(FEC)具有很好的性能。报导了利用粉末状碳纳米管制作CNT-FEC的方法,包括涂布方法、纯化方法和表面处理方法。主要关心的FEC性能为电子发射均匀性、电流密度和寿命。
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氢氧复合注入对SOI-SIMOX埋层结构影响的研究
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功能材料与器件学报 2003年 第1期9卷 17-20页
作者: 易万兵 陈猛 陈静 王湘 刘相华 王曦 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
实验研究了氢、氧复合注入对注氧隔离技术制备 SOI(Silicon On Insulator)材料埋层结构的影 响.用截面透射电子显微镜和二次离子质谱技术分析了退火前后材料的微结构变化.研究表明, 氢离子的注入有利于注氧隔离制备的 SOI材料埋层的增宽... 详细信息
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A Novel LDMOS Structure in Thin Film Patterned-SOI Technology with a Silicon Window Beneath p Well
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Journal of Semiconductors 2004年 第12期25卷 1580-1585页
作者: 程新红 杨文伟 宋朝瑞 俞跃辉 沈达升 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束实验室 上海200050 阿拉巴马州大学电气与计算机工程系
A novel patterned-SOI LDMOS structure with a silicon window beneath the p well is *** performance is simulated *** comparison to SOI counterpart,the off-state and the on-state breakdown voltage can increase by 57% and... 详细信息
来源: 评论
PIII技术在制备c-BN硬化层中的应用
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稀有金属 2004年 第4期28卷 690-694页
作者: 王钧石 柳襄怀 王曦 西南交通大学材料科学与工程学院 四川成都610031 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
采用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术 (PIII)在渗硼后的 5 0Mn钢试样上制备出了厚度为 0 .15~ 0 .2mm的立方氮化硼 (c BN)表面硬化层。经X射线电子能谱 (XPS)和X射线衍射分析 (XRD) ,发现硬化层中的组织有立方氮化硼 (c BN)、六... 详细信息
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立方氮化硼表面硬化层的制备及性能
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机械工程材料 2003年 第2期27卷 31-33页
作者: 王钧石 柳襄怀 王曦 陈元儒 西南交通大学材料科学与工程学院 四川成都610031 中国科学院上海微系统与信息技术研究所离子束重点实验室 上海200050
用渗硼和新型的等离子体浸没式氮离子注入技术(PⅢ)对Cr12MoV钢进行复合处理,制备出了含有立方氮化硼的表面硬化层。经X光电子能谱和X射线衍射分析发现硬化层中的组织主要是立方氮化硼(c BN)、六方氮化硼(h BN)、FeB和Fe2B。在与单独渗... 详细信息
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