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检索条件"机构=中国科学院上海微系统信息与技术研究所信息功能材料国家重点实验室"
684 条 记 录,以下是441-450 订阅
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新结构InGaP/GaAs/InGaP DHBT生长及特性研究
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固体电子学研究与进展 2010年 第1期30卷 23-26,68页
作者: 艾立鹍 徐安怀 孙浩 朱福英 齐鸣 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
设计并生长了一种新的InGaP/GaAs/InGaP DHBT结构材料,采用在基区和集电区之间插入n+-InGaP插入层结构,以解决InGaP/GaAs/InGaP DHBT集电结导带尖峰的电子阻挡效应问题。采用气态源分子束外延(GSMBE)技术,通过优化生长条件,获得了高质... 详细信息
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基于RSJ模型的SBC器件数值模拟研究
基于RSJ模型的SBC器件数值模拟研究
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第十一届全国超导学术研讨会暨超导发现100周年纪念大会
作者: 王会武 王永良 董慧 张懿 谢晓明 Joint Research Laboratory on Superconductivity and Bioelectronics Collaboration between CAS-Shanghai and FZJ Joint Research Laboratory on Superconductivity and Bioelectronics Collaboration between CAS-Shanghai and FZJ Peter Grünberg Institute (PGI-8)Forschungszentrum Jülich (FZJ)Jülich 52425Germany 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室上海 200050
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InAs/GaAs量子点激光器结温研究
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半导体光电 2010年 第6期31卷 866-869页
作者: 高山 李世国 陈朋 杨海东 徐承福 曹春芳 龚谦 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
对利用气源分子束外延(GSMBE)技术生长的InAs/GaAs量子点激光器的工作结温进行了研究,结温的测试是基于量子点激光器的温度升高会导致Fabry-Perot(F-P)腔的腔模移动。在20℃脉冲工作模式下,当脉冲注入电流的占空比从1%变化到准连续波(95... 详细信息
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分子束外延PbTe薄膜中的红外光电导探测器
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红外与激光工程 2010年 第1期39卷 22-25页
作者: 何展 魏晓东 蔡春锋 斯剑霄 吴惠桢 张永刚 方维政 戴宁 浙江大学物理系现代光学仪器国家重点实验室 浙江杭州310027 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室 上海200083
中红外探测器在诸多领域具有重要的应用,目前,我国在PbTe、PbSe中红外探测器方面研制较少,通过分子束外延技术、以CdZnTe(111)为衬底生长PbTe外延薄膜,XRD表征表明:PbTe外延薄膜是单晶薄膜,且与衬底具有相同(111)取向,光吸收光谱测量得... 详细信息
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InP基RTD特性的数值模拟研究
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固体电子学研究与进展 2010年 第3期30卷 317-322,332页
作者: 王伟 孙浩 孙晓玮 徐安怀 齐鸣 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 上海200050 中国科学院研究生院 北京100039 信息功能材料国家重点实验室 上海200050
采用基于非平衡格林函数法(Non-equilibrium Green’s function,NEGF)量子输运模拟器WinGreen对InP基共振隧穿二极管(RTD)的输运特性进行了计算模拟,分析了Ga0.47In0.53As/AlAs以及富In组份势阱双势垒结构几何参数、散射参数、发射区和... 详细信息
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反转胶lift-Off工艺制备堆栈电感
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功能材料与器件学报 2010年 第2期16卷 109-113页
作者: 何大伟 程新红 王中健 徐大朋 宋朝瑞 俞跃辉 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 信息功能材料国家重点实验室上海200050
本文采用反转胶lift-off工艺,对比分析了金属淀积方式、光刻胶的选择及光刻胶烘干时间对金属剥离效果的影响,制备出最小线宽4μm,最小间距4μm,厚度为1μm,线宽误差小于0.5μm的金属线条,并最终实现具有三层金属的堆栈电感,经光学显微... 详细信息
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气源分子束外延生长的InAs/InP(100)量子点激光器
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半导体技术 2010年 第9期35卷 871-873页
作者: 杨海东 李世国 陈朋 高山 徐承福 龚谦 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
利用气源分子束外延(GSMBE)技术,在InP(100)衬底上生长InAs量子点激光器。有源区包含5层InAs量子点,每层量子点的平均尺寸是2.9 nm和76 nm,面密度在1010cm-2左右,势垒层为InGaAsP。温下量子点的光致发光中心波长在1.55μm,发光峰半高... 详细信息
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采用金-金键合工艺制备垂直结构氮化镓发光二极管(英文)
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功能材料与器件学报 2010年 第3期16卷 276-280页
作者: 欧欣 陈静 武爱民 孙家胤 信息功能材料国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所 上海200050
本文在采用键合工艺制备以硅为衬底的氮化镓发光二极管的工艺过程中分别尝试采用金-金,金-硅,铝-铝,铝-硅键合对。研究发现金-金键合对得到了100%的键合面积。键合工艺结束后,采用KrF激光分离氮化镓发光二极管的器件层和原蓝宝石衬底。... 详细信息
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Pseudo-MOS晶体管和nMOS晶体管评估SOI材料抗总剂量辐射能力的比较
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功能材料与器件学报 2010年 第3期16卷 271-275页
作者: 毕大炜 张正选 张帅 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
本文用辐射加固和未加固的SIMOX(注氧隔离)SOI(绝缘体上硅)材料制作了Pseudo-MOS晶体管和nMOS晶体管,并进行了X射线总剂量辐射实验。结果表明加固工艺能有效提高SIMOXSOI材料的抗总剂量辐射能力,同时也表明Pseudo-MOS晶体管能有效的替代... 详细信息
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高温DC SQUID探针显微镜在半导体样品检测中的应用
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低温与超导 2010年 第11期38卷 13-16,20页
作者: 孔祥燕 中谷悦起 系崎秀夫 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050 大阪大学基础工学研究科
扫描SQUID探针显微镜成像技术在半导体样品检测中得到了广泛应用。利用有限元分析方法对作为fluxguide的探针结构和SQUID的尺寸等参数对于系统空间分辨率和检测灵敏度的影响进行了仿真分析,并研究了探针周围的屏蔽效果。利用建立的SQUI... 详细信息
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