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  • 568 篇 中文
检索条件"机构=中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室"
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HfO_(2)基铁电材料准静态负电容机理
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北京工业大学学报 2025年 第3期51卷 269-276页
作者: 尹志岗 董昊 程勇 吴金良 张志伟 张兴旺 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室 北京100083 中国科学院大学材料与光电研究中心 北京100049
HfO_(2)基铁电薄膜的负电容现象提供了解决微纳电子器件功耗问题的可行策略,但其物理图像却一直饱受争议。基于Landau-Devonshire和Landau-Khalatnikov方程,对铁电HfO_(2)/介质双层体系开展了理论模拟。结果表明:根植于零场吉布斯自由... 详细信息
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氧化物全光控突触研究进展
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发光学报 2025年 第2期46卷 245-259页
作者: 单海 应宏微 程培红 胡令祥 王敬蕊 叶志镇 诸葛飞 宁波大学材料科学与化学工程学院 浙江宁波315211 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 浙江宁波315201 宁波工程学院电子与信息工程学院 浙江宁波315211 浙江大学材料科学与工程学院 硅及先进半导体材料全国重点实验室浙江杭州310027 浙江大学温州研究院 浙江温州325006 中国科学院脑科学与智能技术卓越创新中心 上海200031 中国科学院大学材料科学与光电技术学院 北京100029
类脑神经形态计算有望克服传统冯·诺依曼计算架构瓶颈,实现低功耗、高效信息处理,进而推动人工智能技术的发展。人工突触是构建神经形态系统的关键硬件,其中光电突触结合了电子学和光子学优势,具有光学感知、信息计算和存储等多种... 详细信息
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自组装半导体量子点的电子学性质研究进展
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金属学报 2005年 第5期41卷 463-470页
作者: 孙捷 金鹏 王占国 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室 北京100083
自组装半导体量子点是人工设计、生长的一种具有量子尺寸效应、量子干涉效应、表面效应、量子隧穿和Coulumb阻塞效应以及非线性光学效应的新型功能材料.由于其具有晶体缺陷少、材料制备工艺相对简单等优点而在未来纳米电子器件的研制中... 详细信息
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含有AlGaAs插入层的InAs/GaAs三色量子点红外探测器
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物理学报 2016年 第10期65卷 325-329页
作者: 刘珂 马文全 黄建亮 张艳华 曹玉莲 黄文军 赵成城 中国科学院半导体研究所 半导体材料科学重点实验室北京100083
本文报道了采用分子束外延技术制备的三色In As/Ga As量子点红外探测器.器件采用nin型结构,吸收区结构是在In Ga As量子阱中生长含有Al Ga As插入层的In As量子点,器件在77 K下的红外光电流谱有三个峰值:6.3,10.2和11μm.文中分析了它... 详细信息
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离子注入法制备GaN∶Er薄膜的Raman光谱分析
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光谱学与光谱分析 2013年 第3期33卷 699-703页
作者: 陶东言 刘超 尹春海 曾一平 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室 北京100083
对离子注入法制备的u-,n-和p-GaN∶Er三种类型的薄膜样品进行了Raman光谱分析。Er+注入GaN样品后新出现了293,362和670cm-1等波数的Raman峰,其中293cm-1处的Raman峰被指认为无序激活的Raman散射(DARS),362cm-1和670cm-1处的Raman峰可能... 详细信息
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有机电致发光器件的瞬态电响应特性
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发光学报 2015年 第6期36卷 699-704页
作者: 牛立涛 关敏 楚新波 曾一平 李弋洋 张杨 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室 北京100083
详细研究了有机发光二极管(OLED)在脉冲电压下的瞬态电流响应特性。瞬态响应电流由3部分组成:正向电流峰(IP)、稳态电流(IS)及反向电流峰(IN)。研究发现IS为器件工作时通过器件的电流,而IN与IP则分别对应OLED器件电极/有机界面附近的空... 详细信息
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AlGaN合金中局域态和极化电场的竞争机制
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发光学报 2014年 第7期35卷 761-766页
作者: 毛德丰 金鹏 李维 刘贵鹏 王维颖 王占国 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室低维半导体材料与器件北京市重点实验室 北京100083
通过MOVPE方法生长了不同Al组分的3块AlxGa1-xN样品,利用稳态光谱和时间分辨光谱对其样品的光学特性进行了分析。鉴于影响氮化物发光性质的极化电场或局域态的单一机制不能充分解释我们的实验现象,提出了局域态-内部极化电场竞争的机制... 详细信息
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基于二维材料的Ⅲ族氮化物外延
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化学学报 2017年 第3期75卷 271-279页
作者: 谭晓宇 杨少延 李辉杰 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室 北京100083
Ⅲ族氮化物合金因其宽广的可调能隙和优良的光电性能,在照明、电力电子、通讯、能源等领域有巨大优势,促使其材料制备技术不断发展.如何解决Ⅲ族氮化物异质外延过程中晶格及热胀失配对材料质量的影响,是当前的研究重点.近年来,二维材料... 详细信息
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离子能量和沉积温度对离子束沉积碳膜表面形貌的影响
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物理学报 2001年 第7期50卷 1324-1327页
作者: 廖梅勇 秦复光 柴春林 刘志凯 杨少延 姚振钰 王占国 中国科学院半导体研究所半导体材料科学实验室 北京100083
利用质量分离的低能离子束沉积技术 ,得到了非晶碳膜 .用离子能量为 5 0— 2 0 0eV ,衬底温度从温到80 0℃ .在沉积的能量范围内 ,衬底为温时薄膜为类金刚石 ,表面非常光滑 ;而 6 0 0℃下薄膜主要是石墨成分 ,表面粗糙 .沉积能量... 详细信息
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分子束外延生长的n型Al掺杂ZnS_(1-x)Te_x深中心研究
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物理学报 1998年 第2期47卷 286-293页
作者: 卢励吾 张砚华 中国科学院半导体研究所半导体材料科学开放研究实验室
应用电容电压、光致荧光和深能级瞬态谱技术研究了分子束外延生长的n型Al掺杂ZnS1-xTex外延层深中心.Al掺杂ZnS0977Te0023的光致荧光强度明显低于不掺杂的ZnS0977Te0023,这表明一... 详细信息
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