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检索条件"机构=信息功能材料国家重点实验室中国科学院上海微系统与信息技术研究所"
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太赫兹量子级联激光器及其应用
太赫兹量子级联激光器及其应用
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第八届全国光学前沿问题讨论会
作者: 曹俊诚 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
太赫兹(THz)波适合于信息领域的高空间和时间分辨率成像与信号处理、大容量与高保密的数据传输、射电天文探测、大气与环境监测、实时与安全的生物与医学诊断等。THz辐射源与探测器是THz频段应用的关键器件。在众多THz辐射的产生方式中... 详细信息
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不同面积顶电极本征Josephson结的电流电压特性
不同面积顶电极本征Josephson结的电流电压特性
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第十届超导学术交流会
作者: 王兴 尤立星 杨晓燕 信息功能材料国家重点实验室 中国科学院上海微系统与信息技术研究所上海 200050 中国科学院研究生院北京 100190 信息功能材料国家重点实验室 中国科学院上海微系统与信息技术研究所上海 200050
采用单面工艺制备了mesa结构的本征Josephson结,用四引线法测试了本征结的电流电压特性,比较和分析了不同面积顶电极测试时本征结中产生的热效应的差异.实验结果表明相同偏置电流下小面积顶电极作为电流支路引起的负阻变化更明显.通过... 详细信息
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注硅改性SIMOX材料的总剂量效应研究
注硅改性SIMOX材料的总剂量效应研究
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第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会
作者: 张帅 张正选 毕大炜 陈明 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 中国科学院研究生院
采用Si注入到埋氧化层中并退火制备了总剂量加固的全耗尽SIMOX材料,对得到的样品在辐照前后的pseudo-MOSFET特性曲线进行了研究。结果表明注Si减小了辐照时NMOSFET阈值电压的漂移。截面高分辨TEM分析表明注Si的BOX层中形成了硅纳米晶体... 详细信息
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注硅工艺对埋氧层中陷阱电荷的影响
注硅工艺对埋氧层中陷阱电荷的影响
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第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会
作者: 王茹 张正选 俞文杰 田浩 毕大炜 张帅 陈明 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 中国科学院研究生院
采用Si+注入技术对部分耗尽的SIMOX材料进行改性加固,分别用改性加固材料和未改性加固的材料流片制作环栅MOSFET器件,对器件进行辐照试验,得到I-V特性曲线。运用中带电压法对I-V特性曲线进行参数提取,进行电荷分离,得到埋氧层中的氧化... 详细信息
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浮栅存储器的总剂量辐射效应研究进展
浮栅存储器的总剂量辐射效应研究进展
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第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会
作者: 刘张李 张正选 毕大炜 张帅 田浩 俞文杰 陈明 王茹 中国科学院研究生院中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
本文对浮栅存储器的总剂量辐射效应进行详细分析和讨论,主要内容包括浮栅存储器控制电路和存储单元的总剂量辐射效应。指出:总剂量辐射效应对浮栅存储器的影响主要是在隧道氧化层、栅之间的绝缘层中产生电荷,引起浮栅上电荷的变化。
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二维硅柱子光子晶体中的负折射及亚波长成像
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徐州工程学院学报(自然科学版) 2009年 第1期24卷 71-75页
作者: 孙建 沈义峰 吕海萍 殷春浩 中国矿业大学理学院 江苏徐州221008 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
在空气中放置三角格子硅柱子,构造了一种二维晶格结构.通过等频图分析及FDTD模拟,证明该晶格结构存在一个有效折射率为-1的频率.利用该晶格结构,设计了一个能形成一个非近场的像的超透镜.进一步的研究证明由该晶格结构构成的超透镜还具... 详细信息
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InP基In_(0.53)Ga_(0.47)As光电探测器的量子效率优化(英文)
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红外与毫米波学报 2008年 第2期27卷 81-85页
作者: 田招兵 顾溢 张永刚 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
建立了不同结构的InP基PIN型In0.53Ga0.47As探测器光响应的物理模型.通过引入收集效率函数,模拟计算了探测器量子效率和光响应.采用该模型分别研究了正面进光和背面进光情况下典型的In0.53Ga0.047As/InP PIN探测器的结构参数对器件量子... 详细信息
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氢离子注入法提高InAsP/InP应变多量子阱发光特性(英文)
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红外与毫米波学报 2008年 第4期27卷 317-320页
作者: 曹萌 吴惠桢 劳燕峰 曹春芳 刘成 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
采用气态源分子束外延系统生长了InAsP/InP应变多量子阱,研究了H+注入对量子阱光致发光谱的影响以及高温快速退火对离子注入后的量子阱发光谱的影响。发现采用较低H+注入能量(剂量)时,量子阱发光强度得到增强;随着H+注入能量(剂量)的增... 详细信息
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带有阶梯缓变集电区的InP/InGaAs/InP DHBT材料研究
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固体电子学研究与进展 2008年 第1期28卷 138-141,148页
作者: 艾立鹍 徐安怀 孙浩 朱福英 齐鸣 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
设计并生长了一种新的InP/InGaAs/InP DHBT结构材料,采用在基区和集电区之间插入两层不同禁带宽度的InGaAsP四元系材料的阶梯缓变集电结结构,以解决InP/InGaAs/InP DHBT集电结导带尖峰的电子阻挡效应问题。采用气态源分子束外延(GSMBE)... 详细信息
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波长扩展InGaAs探测器的量子效率优化
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半导体光电 2008年 第6期29卷 851-854,972页
作者: 田招兵 顾溢 张晓钧 张永刚 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室 上海200050
通过建立双异质结型InGaAs探测器光响应的理论模型,分别对正面和背面进光时InP基波长扩展In0.8Ga0.2As/In0.79Al0.21AsPIN探测器结构参数与光响应特性的关系进行了研究,模拟结果与采用GSMBE方法研制器件的实测数据吻合较好。此外,还提... 详细信息
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