检索结果-内蒙古大学图书馆

发光学报 2025年第2期46卷 273-284页

作者：何航宇冯志鹏庄国亮叶方浩刘斯扬王明邹贺潮胡居广李贵君深圳大学物理与光电工程学院光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室广东深圳518060

色转换显示技术是利用发光材料的光致发光特性,将高能量的蓝光激发光通过色转换层得到红光和绿光,从而获得全彩色显示效果。金属卤化物钙钛矿作为一种新兴的发光材料,具有荧光量子产率高、色纯度高、制造成本低等特性,是实现下一代超高... 详细信息

色转换显示技术是利用发光材料的光致发光特性,将高能量的蓝光激发光通过色转换层得到红光和绿光,从而获得全彩色显示效果。金属卤化物钙钛矿作为一种新兴的发光材料,具有荧光量子产率高、色纯度高、制造成本低等特性,是实现下一代超高清广色域显示技术的关键材料。目前,绿光钙钛矿发光材料在荧光量子转换效率、半峰宽和稳定性方面已经取得了不错的进展并实现了商业化应用,而红光钙钛矿发光材料的发展仍然面临诸多科学技术问题,尚待解决。鉴于此,本文从不同红光钙钛矿材料的实现途径出发,系统总结了近年来不同类型红光钙钛矿发光材料在发光特性、稳定性和图案化技术上的研究进展,展望并讨论了红光钙钛矿产业化需要解决的关键技术难题。希望本综述能为研究人员开发应用于色转化显示技术的红光钙钛矿发光材料提供借鉴。

关键词：色转换显示红光钙钛矿发光特性制备方法

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光刻技术与光刻胶材料的进展与未来趋势

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中国激光 2025年

作者：许路奎范子雄王璐玮郭勇朱殷铷高欣慰严伟屈军乐深圳大学物理与光电工程学院光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室射频异质异构集成全国重点实验室(深圳大学)

光刻技术凭借其高精度和高质量的加工特性，能够在硅片或其他基材上精确实现复杂的结构，形成微米乃至纳米级别的精细结构。这种能力不仅极大地促进了集成电路的集成度提升，使单个芯片上可以容纳更多的晶体管，从而显著增强了芯片的计... 详细信息

光刻技术凭借其高精度和高质量的加工特性，能够在硅片或其他基材上精确实现复杂的结构，形成微米乃至纳米级别的精细结构。这种能力不仅极大地促进了集成电路的集成度提升，使单个芯片上可以容纳更多的晶体管，从而显著增强了芯片的计算能力和功能多样性，同时也大幅降低了大规模生产的成本，使得高性能电子设备变得更加普及和经济。作为现代微电子工业和半导体制造领域不可或缺的核心工艺，光刻技术的应用范围广泛，涵盖了从消费电子、通信设备到医疗仪器和汽车电子等多个行业。本文围绕光刻技术与其核心材料—光刻胶进行综述，探讨传统光刻技术与各新型光刻技术的发展历程与特点，以及光刻胶的特性与发展趋势，最后对光刻技术的未来进行展望。

关键词：光刻技术光刻胶高分辨率新型材料

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基于二维光谱干涉的太赫兹时域光谱单次探测技术

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中国激光 2025年

作者：何文钊陈星宇林庆钢蔡懿曾选科徐世祥光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室深圳市微纳光子信息技术重点实验室深圳大学物理与光电工程学院中国计量大学光学与电子科技学院

单次太赫兹时域光谱探测技术可以对某些不可逆或低重复率事件的进行有效探测。本文通过结合二维光谱干涉和自参考共线光谱干涉方案提出了一种新型太赫兹时域光谱单次探测技术。该技术在此前的共线自参考光谱干涉方案基础上，对入射的探... 详细信息

单次太赫兹时域光谱探测技术可以对某些不可逆或低重复率事件的进行有效探测。本文通过结合二维光谱干涉和自参考共线光谱干涉方案提出了一种新型太赫兹时域光谱单次探测技术。该技术在此前的共线自参考光谱干涉方案基础上，对入射的探测光偏振方向及探测晶体角度进行优化，有效提升了探测的光学调制度。通过引入二维光谱干涉替代一维光谱干涉，增大了单次探测的信息容量，进而实现信噪比的提升。实验结果表明，二维光谱干涉的引入使得探测信噪比相比于共线自参考光谱干涉方案提高了近2.2倍，测得信噪比高达166.7:1。该技术能克服传统的电光取样的“过旋”问题，为单次或低重复频率的强太赫兹场及其应用提供了一种有效探测手段。

关键词：太赫兹时域光谱电光取样单次测量干涉光谱

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光刻技术与光刻胶材料的进展与未来趋势（特邀）

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中国激光 2025年第07期 9-50页

光刻技术凭借其高精度和高质量的加工特性，能够在硅片或其他基材上精确实现复杂的结构，形成微米乃至纳米级别的精细结构。这种能力不仅极大地促进了集成电路集成度的提升，使单个芯片可以容纳更多的晶体管，从而显著增强芯片的计算能... 详细信息

光刻技术凭借其高精度和高质量的加工特性，能够在硅片或其他基材上精确实现复杂的结构，形成微米乃至纳米级别的精细结构。这种能力不仅极大地促进了集成电路集成度的提升，使单个芯片可以容纳更多的晶体管，从而显著增强芯片的计算能力和功能多样性，而且大幅降低了大规模生产的成本，使得高性能电子设备变得更加普及和经济。作为现代微电子工业和半导体制造领域不可或缺的核心工艺，光刻技术应用广泛，涵盖了从消费电子、通信设备到医疗仪器和汽车电子等多个行业。本文围绕光刻技术及其核心材料——光刻胶进行综述，探讨传统光刻技术与各新型光刻技术的发展历程与特点，以及光刻胶的特性与发展趋势，最后对光刻技术的未来进行了展望。

关键词：光刻技术光刻胶高分辨率新型材料

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微通道板参数对像增强器性能的影响研究

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激光与光电子学进展 2025年第3期62卷 307-313页

作者：徐煜玮易增宙黄峻堃付文勇张敬金光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室深圳大学物理与光电工程学院北方夜视技术股份有限公司南阳理工学院

为了研究微通道板（MCP）像增强器的性能，用电磁仿真软件CST Studio Suite模拟分析了MCP像增强器参数的改变对其增益和空间分辨率的影响。仿真结果表明：MCP的工作电压对MCP增益的影响最大，工作电压的增大会使MCP增益呈指数形式增大... 详细信息

为了研究微通道板（MCP）像增强器的性能，用电磁仿真软件CST Studio Suite模拟分析了MCP像增强器参数的改变对其增益和空间分辨率的影响。仿真结果表明：MCP的工作电压对MCP增益的影响最大，工作电压的增大会使MCP增益呈指数形式增大；荧光屏电压和斜切角的变化对空间分辨率的影响较大，荧光屏电压增大会使空间分辨率显著提高，但是斜切角的增大会使空间分辨率明显降低。在工作电压为890 V、荧光屏电压为6000 V、斜切角大小为5°、出射端电极深度为0.021 mm时，MCP像增强器的增益和空间分辨率可以达到一个相对理想的理论仿真结果。该仿真结果为设计性能更好的MCP像增强器提供了良好的参考。

关键词：光电子微通道板像增强器增益空间分辨率

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基于二维光谱干涉的太赫兹时域光谱单次探测技术

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中国激光 2025年第07期 221-228页

作者：何文钊陈星宇林庆钢蔡懿曾选科徐世祥深圳大学物理与光电工程学院光电子器件与系统教育部/广东省重点实验室深圳市微纳光子信息技术重点实验室中国计量大学光学与电子科技学院

单次太赫兹时域光谱探测技术可以对某些不可逆或低重复率事件进行有效探测。通过结合二维光谱干涉和共线自参考光谱干涉方案，提出了一种新型太赫兹时域光谱单次探测技术。该技术在此前的共线自参考光谱干涉方案基础上，对入射的探测光... 详细信息

单次太赫兹时域光谱探测技术可以对某些不可逆或低重复率事件进行有效探测。通过结合二维光谱干涉和共线自参考光谱干涉方案，提出了一种新型太赫兹时域光谱单次探测技术。该技术在此前的共线自参考光谱干涉方案基础上，对入射的探测光偏振方向及探测晶体角度进行了优化，有效提升了探测的光学调制度。通过引入二维光谱干涉替代一维光谱干涉，增大了单次探测的信息容量，实现了信噪比的提升。实验结果表明，二维光谱干涉的引入使得探测信噪比相比于共线自参考光谱干涉方案提高了近2.2倍，测得信噪比高达166.7∶1。该技术能克服传统电光取样的“过旋”问题，为低重复频率的强太赫兹场及其应用提供了一种有效的探测手段。

关键词：太赫兹时域光谱电光取样单次测量干涉光谱

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硬X射线微分相衬成像的噪声特性分析

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物理学报 2014年第16期63卷 443-449页

作者：黄建衡杜杨雷耀虎刘鑫郭金川牛憨笨深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室广东省光电子器件与系统重点实验室深圳518060 深圳大学光电工程学院光电子器件与系统教育部重点实验室广东省光电子器件与系统重点实验室深圳518060

量子噪声引起光强随机波动是影响X射线相衬图像质量的一个重要因素.提出了一种针对硬X射线微分相衬成像噪声特性的分析方法,通过数值模拟获得了量子噪声对成像结果的作用规律.模拟结果表明,折射像和散射像的噪声均方差与叠栅条纹对比度... 详细信息

量子噪声引起光强随机波动是影响X射线相衬图像质量的一个重要因素.提出了一种针对硬X射线微分相衬成像噪声特性的分析方法,通过数值模拟获得了量子噪声对成像结果的作用规律.模拟结果表明,折射像和散射像的噪声均方差与叠栅条纹对比度成反比关系,叠栅条纹对比度越大,统计所得的均方差值越小.在保证X射线探测效率的前提下,提高叠栅条纹对比度将有利于获得高质量的相衬图像,并为有效减少X射线曝光剂量提供条件.

关键词： X射线光学光栅相衬成像量子噪声叠栅条纹对比度

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双光子阵列点激发同时多维荧光信息的处理

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物理学报 2006年第12期55卷 6701-6707页

作者：林子扬付哲刘立新胡涛屈军乐郭宝平牛憨笨深圳大学光电子学研究所光电子器件与系统教育部重点实验室广东省光电子器件与系统重点实验室深圳518060

五维同时荧光信息显微成像方法是一种新的荧光信息获取技术,它采用了双光子阵列点激发方式.这一方法可同时获取激发阵列点每点荧光的位置信息、荧光光谱信息和荧光寿命信息,弥补了现有荧光检测技术的不同功能信息不具有同时性的缺陷.给... 详细信息

五维同时荧光信息显微成像方法是一种新的荧光信息获取技术,它采用了双光子阵列点激发方式.这一方法可同时获取激发阵列点每点荧光的位置信息、荧光光谱信息和荧光寿命信息,弥补了现有荧光检测技术的不同功能信息不具有同时性的缺陷.给出了从这种技术的复合信息中提取复合光谱几何强度结构图像、不同光谱几何强度结构图像、不同光谱寿命图像的方法.提出了一种激发荧光强度修正系数矩阵方法,消除阵列点激发光强不均匀对激发荧光强弱产生的不利影响,取得明显效果.实验对实际样品做了数据采集和处理,给出图像结果,表明处理的效果良好.对存在的问题也作了讨论.

关键词：荧光信息处理双光子荧光光谱荧光寿命

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高重复频率触发模式皮秒扫描相机

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光子学报 2005年第3期34卷 442-444页

作者：郭宝平 B.Cunin 牛憨笨深圳大学光电子学研究所广东省光电子器件与系统重点实验室光电子器件与系统教育部重点实验室

讨论了高重复频率扫描电路的研制,利用此扫描电路研制了扫描相机,使用掺钛兰宝石激光器进行了时间分辨率的标定,使用半导体激光器作为光源进行了脉冲宽度的测试最高工作频率为1MHz,时间分辨率为1.

关键词：高重复频率扫描相机 MOS晶体管扫描电路

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铝基板上沉积氮化铝薄膜的制备及特性分析

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材料热处理学报 2008年第4期29卷 157-160页

作者：刘文杨清斗李华平王质武深圳大学光电子学研究所；广东省光电子器件与系统重点实验室；光电子器件与系统教育部重点实验室广东深圳518060

采用直流反应磁控溅射方法,在铝基板上制备了AlN薄膜。利用X射线衍射仪、带能量色散谱仪的扫描电子显微镜、阻抗特性测试仪、椭圆偏振光谱仪、大荷载划痕仪等对薄膜特性进行测试,分析了不同溅射工艺条件对生长薄膜的影响。结果表明,获... 详细信息

采用直流反应磁控溅射方法,在铝基板上制备了AlN薄膜。利用X射线衍射仪、带能量色散谱仪的扫描电子显微镜、阻抗特性测试仪、椭圆偏振光谱仪、大荷载划痕仪等对薄膜特性进行测试,分析了不同溅射工艺条件对生长薄膜的影响。结果表明,获得了化学计量比一致、结合力良好、击穿场强达112V/μm的(100)多晶择优取向AlN薄膜。

关键词：氮化铝反应磁控溅射 X射线衍射化学计量比击穿场强结合力

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