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2001年超精细相互作用与核固体物理研讨会

作者：卢殿通北京师范大学低能核物理研究所北京100875 射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京市辐射中心

SOI(Silicon On Insulator)材料是为了满足卫星、导弹、飞船航天电子控制系统的需要而发展起来的一种新型硅材料.采用这种材料制作的SOI-CMOS(Complementary Metal-Oxside-Semiconduator)电路,实现了完全介质隔离,具有无锁定、高速度、... 详细信息

SOI(Silicon On Insulator)材料是为了满足卫星、导弹、飞船航天电子控制系统的需要而发展起来的一种新型硅材料.采用这种材料制作的SOI-CMOS(Complementary Metal-Oxside-Semiconduator)电路,实现了完全介质隔离,具有无锁定、高速度、低功耗和强的抗福射能力等重要优点.因而受到世界各发达国家的高度重视.离子注入SOI材料,是把氧或氮注入硅单晶中形成绝缘埋层二氧化硅或氮化硅:即形成SIMOX(Separation by IMplamted OXygen)或SIMNI(Separation by Implamted Nitrogen)材料,顶层硅仍保持单晶硅的性能.这种材料不但比SOS(Siliconon Sapphire)便宜,而且性能好,完全可以满足制作SOI电路的要求.在集成电路领域,SOI材料是研制高速、高可靠、抗辐照集成电路的最理想的材料,SOI-CMOS电路将广泛应用卫星和导弹的控制系统中.本文介绍了离子注入SOI材料的制备、性能及应用.

关键词：离子注入 SOI材料硅材料

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100型MEVVA源离子注入机

100型MEVVA源离子注入机

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2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议暨中国电工技术学会第十二届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第九届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十一届全国离子源学术交流会、中国机械工程学会焊接分会2008年全国高能束加工技术研讨会、北京电机工程学会第十届粒子加速器学术交流会

作者：吴先映李强张荟星刘安东彭建华射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院(低能核物理研究所)

提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor VaCUUm arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为此设计研制了采用高占空比、大引出面积、凸形高透过率引出电极等技术的100型MEVVA源注入机。本文... 详细信息

提高金属蒸汽真空弧(Metal vapor VaCUUm arc,MEVVA)离子源注入机的注入效率,大幅度降低注入成本是MEVVA源离子注入技术实用化的关键。为此设计研制了采用高占空比、大引出面积、凸形高透过率引出电极等技术的100型MEVVA源注入机。本文介绍了100型MEVVA源注入机的靶室结构和靶盘分布,100型MEVVA离子源的结构特点,测试了100型MEVVA源的主要参数,通过靶盘公转自转、0定位自转与45定位自转的复合注入,得到了相当均匀的大面积注入效果。从而为实现工业规模的金属离子注入提供了注入平台。

关键词：金属蒸汽真空弧离子注入凸形电极注入均匀性

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氩离子注入的聚酰亚胺表面沉积的合金膜的结合力

氩离子注入的聚酰亚胺表面沉积的合金膜的结合力

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2010全国荷电粒子源、粒子束学术会议

作者：张济忠冉杰周宏余北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京 100875 北京师范大学核科学与技术学院北京 100875 清华大学材料科学与工程系北京 100084 清华大学材料科学与工程系北京 100084 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京 100875 北京师范大学核科学与技术学院北京 100875

用2 key的氩离子对聚酰亚胺进行表面注入,注入剂量分别为5×1011、1×1012、和3×1012ions/cm2。氩离子注入后,用原子力显微镜分析聚酰亚胺表面的形貌变化。然后用离子溅射镀膜法,在聚酰亚胺表面均匀地沉积一层Ti-Cr合金膜... 详细信息

用2 key的氩离子对聚酰亚胺进行表面注入,注入剂量分别为5×1011、1×1012、和3×1012ions/cm2。氩离子注入后,用原子力显微镜分析聚酰亚胺表面的形貌变化。然后用离子溅射镀膜法,在聚酰亚胺表面均匀地沉积一层Ti-Cr合金膜,用台阶仪、SEM等进行测试分析。结果表明,该合金膜的厚度为186 nm,膜表面平整,无缺陷。对该合金膜的结合力,采用常规的方法进行测试,其结合力为0.82 kg/cm2。然后将试样加热到120℃,保温144小时后,其结合力为0.80kg/cm2。结合力的测试表明,该合金膜与聚酰亚胺的结合强度比较高,在经过六天的热疲劳试验后,仍然能够保持较高的结合力。

关键词：聚酰亚胺氩离子溅射镀膜合金膜结合力

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张家湾出土龙泉古瓷来源的EDXRF分析

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北京师范大学学报（自然科学版） 2012年第4期48卷 359-362页

作者：李融武王建保程琳李国霞杨大伟张茂林北京师范大学物理学系北京100875 中国防卫科技学院北京101601 射线束与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院北京市辐射中心北京100875 郑州大学物理工程学院郑州450052 河南广播电视大学郑州450008 景德镇陶瓷学院景德镇江西333001

为了解北京张家湾出土龙泉古瓷的来源,用能量色散X射线荧光(EDXRF)测试了10个张家湾出土龙泉古瓷的化学组成,并和浙江南宋时期龙泉大窑青瓷、寺龙口越窑仿官瓷数据一起进行模糊聚类分析,结果表明多数张家湾出土龙泉古瓷可能来自于南宋... 详细信息

为了解北京张家湾出土龙泉古瓷的来源,用能量色散X射线荧光(EDXRF)测试了10个张家湾出土龙泉古瓷的化学组成,并和浙江南宋时期龙泉大窑青瓷、寺龙口越窑仿官瓷数据一起进行模糊聚类分析,结果表明多数张家湾出土龙泉古瓷可能来自于南宋龙泉大窑区,少数张家湾出土龙泉古瓷可能来自于浙江龙泉其他窑区.张家湾出土龙泉古瓷的胎、釉料来源和南宋寺龙口越窑仿官瓷有所不同.

关键词：张家湾出土龙泉古瓷南宋龙泉大窑青瓷南宋寺龙口越窑仿官瓷来源 EDXRF

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Zn离子注入增强二氧化钛纳米管光电效应

Zn离子注入增强二氧化钛纳米管光电效应

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2010全国荷电粒子源、粒子束学术会议

作者：梁宏廖斌吴先映马芙蓉张旭刘安东北京师范大学射线束技术及材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院北京 100875 北京市辐射中心北京 100875

采用阳极氧化法在钛金属表面制备出致密有序的TiO2纳米管阵列,利用MEVVA源离子束技术在其上进行金属Zn离子的掺杂注入。利用电镜观察了离子束轰击对TiO2纳米管阵列结构的影响。研究了掺杂前后TiO2纳米管阵列在紫外光区域和可见光区域的... 详细信息

采用阳极氧化法在钛金属表面制备出致密有序的TiO2纳米管阵列,利用MEVVA源离子束技术在其上进行金属Zn离子的掺杂注入。利用电镜观察了离子束轰击对TiO2纳米管阵列结构的影响。研究了掺杂前后TiO2纳米管阵列在紫外光区域和可见光区域的光电效应。利用全势线性缀加平面波(FP-LAPW)法讨论TiO2纳米管对可见光响应的机理。

关键词： TiO2纳米管 Zn离子注入光电效应

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光与电子的电磁感应相互作用

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世界科技研究与发展 2008年第6期30卷 791-795页

作者：张涛北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室核科学与技术学院(低能核物理研究所)北京市辐射中心北京100875

本文论述了光与电子的电磁感应相互作用和电子云导体模型,说明了电子云形状方位因子的变化规律,讨论了电子与光之间电磁感应造成的能量交换行为,运用电子云导体模型对光与电子之间相互作用的几种情况进行分析。说明光与分子中电子之间... 详细信息

本文论述了光与电子的电磁感应相互作用和电子云导体模型,说明了电子云形状方位因子的变化规律,讨论了电子与光之间电磁感应造成的能量交换行为,运用电子云导体模型对光与电子之间相互作用的几种情况进行分析。说明光与分子中电子之间的电磁感应相互作用确实存在,光与电子间能量交换的根源之一是它们之间的电磁感应相互作用。

关键词：电子云光能量电磁感应

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导管X光透镜在全反射X射线荧光分析中的应用

导管X光透镜在全反射X射线荧光分析中的应用

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第七届全国X射线光谱学术报告会

作者：杨君丁训良北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室，低能核物理研究所，北京市辐射中心，北京，100875

掠射X射线荧光分析技术因具有快速、准确和无损分析的特点，被认为是最精确的用于薄膜厚度、密度和组分测试的工具之一。目前，掠射x射线分析薄膜的方式主要有两种：掠入射X射线荧光(GI-XRF)分析方式和掠出射x射线荧光(GE-XRF)分析方式... 详细信息

掠射X射线荧光分析技术因具有快速、准确和无损分析的特点，被认为是最精确的用于薄膜厚度、密度和组分测试的工具之一。目前，掠射x射线分析薄膜的方式主要有两种：掠入射X射线荧光(GI-XRF)分析方式和掠出射x射线荧光(GE-XRF)分析方式。掠入射方式在微量和痕量元素分析方面显示了很大的潜力，也可以用来分析薄膜样品表面特性，但因其操作时激发光束需要以很小的掠射角入射到样品表面，所以x射线在样品表面的照射面积很大，不利于对样品进行微区分析。而掠出射方式因由于其布局方面的优点，可以结合微束扫描技术进行微区分析和薄膜表面的二维分析。导管X光学的发展和导管X光透镜的发明以及应用，使得人们可以十分有效地利用现有的实验室X光源。由X光会聚透镜得到的X射线微束强度比通常采用小孔限束方法得到的X光束强度提高2到3个量级，因此将会聚透镜应用于掠入射X射线荧光分析，不仅可以实现样品的微区分布，同时也能大幅提高荧光强度，实现在合理的时间内对样品表面元素的二维分布分析。而平行束透镜则能利用实验室X光源获得平行X射线束。将平行束透镜应用于掠入射X射线荧光分析，则能简化实验装置，同时也能增加接收立体角，提高入射光束的强度。

关键词：掠入射方式 X射线荧光分析 X光透镜入射光束

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氩离子注入的聚酰亚胺表面沉积的合金膜的结合力

氩离子注入的聚酰亚胺表面沉积的合金膜的结合力

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2010年全国荷电粒子源、粒子束学术会议、中国电工技术学会第十三届全国电子束离子束学术年会暨电子束离子束专业委员会换届大会、中国电子学会焊接专业委员会第十届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十二届全国离子源学术交流会、中国机械工程学会焊接分会高能束及特种焊接2010年学术交流会、北京电机工程学会第十一届粒子加速器学术交流会

作者：张济忠冉杰周宏余北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京师范大学核科学与技术学院清华大学材料科学与工程系

用2 keV的氩离子对聚酰亚胺进行表面注入,注入剂量分别为5×10、1×10、和3×10ions/cm。氩离子注入后,用原子力显微镜分析聚酰亚胺表面的形貌变化。然后用离子溅射镀膜法,在聚酰亚胺表面均匀地沉积一层Ti-Cr合金膜,用台阶... 详细信息

用2 keV的氩离子对聚酰亚胺进行表面注入,注入剂量分别为5×10、1×10、和3×10ions/cm。氩离子注入后,用原子力显微镜分析聚酰亚胺表面的形貌变化。然后用离子溅射镀膜法,在聚酰亚胺表面均匀地沉积一层Ti-Cr合金膜,用台阶仪、SEM等进行测试分析。结果表明,该合金膜的厚度为186 nm,膜表面平整,无缺陷。对该合金膜的结合力,采用常规的方法进行测试,其结合力为0.82 kg/cm。然后将试样加热到120℃,保温144小时后,其结合力为0.80 kg/cm。结合力的测试表明,该合金膜与聚酰亚胺的结合强度比较高,在经过六天的热疲劳试验后,仍然能够保持较高的结合力。

关键词：聚酰亚胺氩离子溅射镀膜合金膜结合力

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BNU400 注入机改造及应用

BNU400 注入机改造及应用

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第七届全国高压加速器技术应用学术交流会

作者：郭春刚夏稷李晓明陈如意北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京 100875 北京师范大学核科学与技术学院北京 100875 北京市辐射中心北京 100875

介绍北京师范大学核科学与技术学院BNU400 注入机近几年来的运行、改造及应用情况。通过将注入机靶室部位隔离改造成一个超净间，并配有超净工作台，实现样品到装入靶室无菌操作。改善了放入样品的实验环境。超净间全部进行了铅屏蔽，... 详细信息

介绍北京师范大学核科学与技术学院BNU400 注入机近几年来的运行、改造及应用情况。通过将注入机靶室部位隔离改造成一个超净间，并配有超净工作台，实现样品到装入靶室无菌操作。改善了放入样品的实验环境。超净间全部进行了铅屏蔽，保证了实验环境的安全。增大了靶室的靶盘面积，提高了注入效率。将中性束偏转从水平偏转改为垂直偏转，便于样品的放置。真空系统增加了两个分子泵，使注入机的真空获得很大提高，使注入机的束流的强度和稳定性都得到很大提高。更换了离子源电源、偏转高压电源，电源的稳定性有很大提升，有利于束流的稳定。近几年BNU400 注入机开展了大量应用研究。主要包括离子注入材料的改性研究、生物育种研究，微生物的生物诱变效应研究等。

关键词： BNU400注入机注入机靶室隔离改造超净工作台铅屏蔽离子注入生物育种

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Ti＋C双离子注入GCr15钢表面改性工艺研究

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中国材料科技与设备 2008年第5期5卷 41-43页

作者：顾永俶丁晓纪顾畅北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室北京100875 北京师范大学核科学与技术学院北京100875 北京大学数学科学学院北京100871

采用Ti＋C双离子注入GCr15轴承钢，使其表面硬度增加，摩擦系数降低，增强了GCr15钢表面抗磨损特性。同时发现，离子注入时金属基体的温升效应对表面改性效果具有显著的影响。通过对比分析，获取了最佳处理工艺参数。

关键词：离子注入表面改性温升效应回火

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