检索结果-内蒙古大学图书馆

光谱学与光谱分析 2013年第7期33卷 1734-1738页

作者：杨晓冬陈英陈晓波 Sawarobori N 王水峰周永芬李崧徐怡庄程欢利杨国建北京师范大学物理系分析测试中心应用光学北京重点实验室北京100875 Sumita Optical Glass Inc.4-7-25 HarigayaUrawaSaitama 338Japan 北京大学化学与分子工程学院北京100871

通过实验分别测得了掺杂Ho3+(0.5mol%)的氟氧化物玻璃(FOG)样品和掺杂Ho3+(0.5mol%)的氟氧化物玻璃陶瓷(FOV)样品的吸收光谱,根据Jubb-Ofelt理论拟合出两种材料强度三参量Ω2,4,6,并且分析了两种材料在强度参量上产生差异的可能原因。... 详细信息

通过实验分别测得了掺杂Ho3+(0.5mol%)的氟氧化物玻璃(FOG)样品和掺杂Ho3+(0.5mol%)的氟氧化物玻璃陶瓷(FOV)样品的吸收光谱,根据Jubb-Ofelt理论拟合出两种材料强度三参量Ω2,4,6,并且分析了两种材料在强度参量上产生差异的可能原因。再由拟合得到的强度参量值计算出了各激发态之间的振子强度,自发辐射跃迁速率,荧光分支比和积分发射截面等光谱学参量,并且对两种材料的各参量进行了对比分析,Ho3+在FOV和在FOG中的振子强度相差不多,与在YAlO3中大致相同,比在钛酸铝氟化物玻璃(lead borale titanale aluminium fluoride,LBTAF)中稍强,比在LaF3和锆系氟化物玻璃(ZrF4-BaF2-LaF3-AlF3-NaF,ZBLAN)更强。通过分析计算得到的光谱学参量,可以发现有些跃迁,特别是5I 7→5I 8,5 F5→5I 8等,具有比较大的振子强度(大于10-6)和积分发射截面(大于10-18 cm),具备形成激光通道的条件,因此值得关注。总结了几个强发光能级在不同领域的应用前景。

关键词： Ho3+ 氟氧化物玻璃氟氧化物玻璃陶瓷 J-O理论光谱学参量量子剪裁

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ErP_5O_(14)非晶中从0秒到稳态的粒子数变化过程和发光强度

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光谱学与光谱分析 2012年第6期32卷 1490-1495页

作者：陈晓波陈英李崧姚文婷吴正龙北京师范大学物理系应用光学北京重点实验室分析测试中心北京100875

分别对五磷酸盐非晶材料(ErP5O14)在979.3,803.8,521.8,450.0,405.5和378.5nm等光激发下所有能级的动力学过程在改进能量传递理论前后进行了数值模拟比较。结果发现,应用改进后的能量传递速率进行计算模拟的结果才是合理的,其中在521.8,... 详细信息

分别对五磷酸盐非晶材料(ErP5O14)在979.3,803.8,521.8,450.0,405.5和378.5nm等光激发下所有能级的动力学过程在改进能量传递理论前后进行了数值模拟比较。结果发现,应用改进后的能量传递速率进行计算模拟的结果才是合理的,其中在521.8,450.0和378.5nm光激发ErP5O14非晶时,4I 13/2→4I 15/2和4I 11/2→4I 15/2跃迁的相对荧光强度的比值分别是979.3nm光激发的2.11倍,2.82倍和2.99倍,均存在有效的4I 13/2→4I 15/2跃迁的红外量子剪裁效应。该研究对于提高锗太阳能电池的转换效率具有潜在的应用前景。

关键词：近红外量子剪裁动力学过程太阳能电池五磷酸盐非晶荧光强度比值

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pr^3＋掺杂透明氟氧化物玻璃陶瓷的光谱特性

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光谱学与光谱分析 2011年第12期31卷 3213-3217页

作者：陈英陈晓波陈鸾杨小冬胡丽丽吴正龙于春雷王亚非刘大禾田强北京师范大学物理系应用光学北京重点实验室分析测试中心北京100875 中国科学院上海高功率激光玻璃研究中心上海201800

根据Pr3+掺杂透明氟氧化物玻璃陶瓷(Pr(0.2)∶FOV)样品在室温下的吸收光谱,分别采用了标准和修正的Judd-Ofelt理论拟合出J-O强度三参量Mn。结果表明,此修正的J-O理论应用到Pr(0.2)∶FOV材料的跃迁强度计算中是合理的和必要的。并由此修... 详细信息

根据Pr3+掺杂透明氟氧化物玻璃陶瓷(Pr(0.2)∶FOV)样品在室温下的吸收光谱,分别采用了标准和修正的Judd-Ofelt理论拟合出J-O强度三参量Mn。结果表明,此修正的J-O理论应用到Pr(0.2)∶FOV材料的跃迁强度计算中是合理的和必要的。并由此修正理论计算了各个激发态之间跃迁的振子强度、自发辐射速率、荧光分支比和积分发射截面等光谱参量,分析了Pr3+∶FOV材料的应用价值。其中,特别是3 P0→3 H4,3 P1→3 H5和3 P0→3 H6,3 P0→3 F2等几个强发光能级都有很好的应用前景。由此表明:Pr3+掺杂的氟氧化物玻璃陶瓷作为固态激光材料有可观的应用前景。

关键词： Pr3+掺杂氟氧化物玻璃陶瓷修正的J-O理论光谱特性

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Er^(3+)∶YVO_4中Er^(3+)的光谱参数计算

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光谱学与光谱分析 2010年第7期30卷 1729-1733页

作者：陈英陈晓波陈鸾刘大禾宋增福李永良李崧曾永志吴正龙张春林王亚非郭敬华北京师范大学物理系应用光学北京重点实验室分析测试中心北京100875 北京大学物理学院北京100871 福州大学物理系福建福州350108 北京物科光电有限公司北京100080 中国科学院物理所北京100080

根据掺杂Er3+(0.5%)的YVO4样品的吸收光谱,用Jubb—Ofelt理论拟合出唯象强度参量Ωλ,并由此计算了激发能级的振子强度、自发辐射跃迁速率、荧光分支比和积分发射截面等光谱参量。并根据这些光学参量,分析了Er3+∶YVO4晶体的应用价值。... 详细信息

根据掺杂Er3+(0.5%)的YVO4样品的吸收光谱,用Jubb—Ofelt理论拟合出唯象强度参量Ωλ,并由此计算了激发能级的振子强度、自发辐射跃迁速率、荧光分支比和积分发射截面等光谱参量。并根据这些光学参量,分析了Er3+∶YVO4晶体的应用价值。其中,特别是4I13/2→4I15/2,2H11/2→4I15/2,4S3/2→4I15/2和4F9/2→4I15/2等几个强发光能级具有较大的振子强度(大于10-6)和积分发射截面(大于10-18cm),分别分析了它们的应用前景,因此非常值得关注。并且,本文结果和Capobianco等所报道的Er3+(2.5 mol%)∶YVO4晶体强度参量结果很相近。而且,通过比较掺Er3+钒酸钇晶体和掺Er3+其他晶体的光学性能,可以看出钒酸钇晶体作为激光晶体的优点。最后,还根据Er3+在晶体中的对称性,利用群论讨论了Er3+在YVO4晶场中各能级的劈裂情况。

关键词： Er3+∶YVO4 强度参量Ωλ 能级分裂不可约表示

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Er(3):FOV纳米材料的红外量子剪裁现象的初步研究

Er(3):FOV纳米材料的红外量子剪裁现象的初步研究

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第12届全国发光学学术会议暨发光学相关产业研讨会

作者：陈晓波杨国建宋增福温磊郭敬华于春雷胡丽丽李新新周固张会敏核科学与技术研究院和分析测试中心应用光学北京重点实验室北京师范大学北京 100875 北京大学物理学院北京 100871 中国科学院上海光机所上海 201800

我们研究了掺铒的纳米相氟氧化物玻璃陶瓷Er(3)：FOV的红外量子剪裁现象,我们测量了红外和可见的Er(3)：FOV的荧光发光光谱和激发光谱.透彻计算了可见和红外的荧光发光光谱的积分荧光强度和近似量子剪裁效率η',结果发现光激发2H11/...

我们研究了掺铒的纳米相氟氧化物玻璃陶瓷Er(3)：FOV的红外量子剪裁现象,我们测量了红外和可见的Er(3)：FOV的荧光发光光谱和激发光谱.透彻计算了可见和红外的荧光发光光谱的积分荧光强度和近似量子剪裁效率η',结果发现光激发2H11/2能级的4I13/2→4I15/2荧光跃迁的近似量子剪裁效率已达约186.28％.我们计算了有关的无辐射弛豫速率、自发辐射速率和能量传递速率,也分析了有关的能量传递动力学过程,发现速率为371000 s-1的{2H11/2→4I9/2,4I15/2→4I13/2}交叉能量传递为导致光激发2H11/2能级有高量子剪裁效率的主要原因.据我们所知,我们首次发现Er(3)：FOV的可见激发的三光子和浅紫外激发的四光子的有效红外量子剪裁现象.该项研究对提高时髦国内外研究热点太阳能电池的效率很有意义.

关键词：

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纳米相氟氧化物玻璃陶瓷Tm(0.35)Yb(5)∶FOV的上转换发光

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光谱学与光谱分析 2008年第8期28卷 1730-1733页

作者：陈晓波王亚非 Naruhito Sawanobori 杨国建崔建生何琛娟陈志坚刘大禾彭芳麟宋增福应用光学北京市重点实验室北京师范大学物理系和分析测试中心北京100875 Sumita Optical Glass Inc.4-7-25 HarigayaUrawaSaitama338Japan 北京大学物理学院北京100871

研究了纳米相氟氧化物玻璃陶瓷Tm(0.35)Yb(5)∶FOV在975nm半导体激光激发下的上转换发光。发现了位于363.6,(462.6,477.0),648.7,(699.7,680.7)和(777.6,800.7nm)的几条上转换发光线,它们是Tm3+离子的1D2→3H6,1G4→3H6,1G4→3F4,3F3→3H6和3H4→3H6的荧光跃迁。为了确认它们的上转换机理,还测量了上转换发光强度F随975nm泵浦激光功率P改变的双对数曲线,结果证实了1D2能级的上转换发光部分是五光子上转换发光,而1G4能级和3H4能级的上转换发光则是三光子和双光子上转换发光。

关键词：上转换发光 Tm^3+离子纳米相氟氧化物玻璃陶瓷

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Tm(0．1)Yb(5)：FOV纳米相氟氧化物玻璃陶瓷的紫外和可见上转换发光

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中国科学（G辑） 2008年第7期38卷 817-824页

作者：陈晓波宋增福吴瑾光 N. Sawanobori M. Ohtsuka 李永良周静王策刘金英田强孙萍景红梅应用光学北京市重点实验室北京师范大学物理系和分析测试中心北京100875 北京大学物理学院化学学院北京100871 Sumita Optical Glass Inc. 4-7-25 Harigaya Urawa Saitama338 Japan

研究了在975nm半导体激光激发下纳米相氟氧化物玻璃陶瓷Tm(0.1)Yb(5):FOV里Yb3+敏化Tm3+的紫外和可见上转换发光.发现了位于363.6nm的一条紫外上转换发光线,它是Tm3+离子的1D2→3H6的荧光跃迁.还发现了位于450.7nm,(477.0,462.5nm),648.... 详细信息

研究了在975nm半导体激光激发下纳米相氟氧化物玻璃陶瓷Tm(0.1)Yb(5):FOV里Yb3+敏化Tm3+的紫外和可见上转换发光.发现了位于363.6nm的一条紫外上转换发光线,它是Tm3+离子的1D2→3H6的荧光跃迁.还发现了位于450.7nm,(477.0,462.5nm),648.5nm,(680.5,699.5nm)和(777.2,800.7nm)的几条上转换发光线,它们是Tm3+离子的1D2→3F4,1G4→3H6,1G4→3F4,3F3→3H6和3H4→3H6的荧光跃迁.通过对上转换发光强度F随975nm抽运激光功率P改变详细地测量和分析证实了1D2能级的上转换发光部分是五光子上转换发光,而1G4能级和3H4能级的上转换发光则是三光子和双光子上转换发光.初步的理论分析建议1D2能级的上转换发光机理部分是Tm3+离子之间{3H4(Tm3+)→3F4(Tm3+),1G4(Tm3+)→1D2(Tm3+)}和{1G4(Tm3+)→3F4(Tm3+),3H4(Tm3+)→1D2(Tm3+)}的交叉能量传递.而1G4能级和3H4能级的上转换发光机理则是Yb3+离子到Tm3+离子的{2F5/2(Yb3+)→2F7/2(Yb3+),3H4(Tm3+)→1G4(Tm3+)}和{2F5/2(Yb3+)→2F7/2(Yb3+),3F4(Tm3+)→3F2(Tm3+)}的相继的能量传递。

关键词：上转换发光紫外纳米相氟氧化物玻璃陶瓷饱和 Tm^3+离子 Yb^3+离子能量传递

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Pr^(3+)离子在氟化物玻璃中的光跃迁的计算与分析

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光谱学与光谱分析 2007年第1期27卷 1-4页

作者：康洞国陈晓波李菘崔建生蔡青俞包庭北京师范大学分析测试中心物理系应用光学北京市重点实验室北京100875 北京玻璃研究院北京100062

测量了Pr(0.5)∶ZBLAN非晶的吸收光谱,由此利用Judd-Ofelt理论计算了Pr3+离子在材料中的光谱跃迁强度参量,讨论Judd-Ofelt理论在计算Pr3+离子的强度参数时存在的问题。从所得到的强度参数计算预言了此材料中Pr3+离子的各能级之间的自发... 详细信息

测量了Pr(0.5)∶ZBLAN非晶的吸收光谱,由此利用Judd-Ofelt理论计算了Pr3+离子在材料中的光谱跃迁强度参量,讨论Judd-Ofelt理论在计算Pr3+离子的强度参数时存在的问题。从所得到的强度参数计算预言了此材料中Pr3+离子的各能级之间的自发辐射跃迁速率、荧光分支比和积分发射截面,由所得结果讨论了该材料作为激光材料的前景及可能存在的光子雪崩上转换机制。

关键词： Pr:ZBLAN非晶材料吸收光谱 Judf-Ofelt理论 Pr^3+离子光谱参量

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头孢药物与牛血清白蛋白的相互作用研究

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北京师范大学学报（自然科学版） 2006年第2期42卷 157-160页

作者：丁焕平陈晓波杨秀清李辉王水峰郭敬华北京师范大学物理学系应用光学北京重点实验室北京师范大学分析测试中心北京100875

利用光谱技术研究了头孢拉定(Cefradine)、头孢羟氨苄(Cefadroxil)与牛血清白蛋白(BSA)的相互作用机制.由Lineweave-Burk双倒数图,分别求出了在284,290 nm波长激发下它们与BSA作用的结合常数.BSA内源荧光主要由Trp-214色氨酸做贡献.依据... 详细信息

利用光谱技术研究了头孢拉定(Cefradine)、头孢羟氨苄(Cefadroxil)与牛血清白蛋白(BSA)的相互作用机制.由Lineweave-Burk双倒数图,分别求出了在284,290 nm波长激发下它们与BSA作用的结合常数.BSA内源荧光主要由Trp-214色氨酸做贡献.依据F rster非辐射能量转移机制,得出了头孢拉定与Trp-214的距离r284,激发=2.37 nm,r290,激发=2.40 nm;头孢羟氨苄与Trp-214的距离r284,激发=2.35 nm,r290,激发=2.37 nm;证实药物的稳定性及半衰期与结合常数有关.

关键词：头孢拉定头孢羟氨苄牛血清白蛋白荧光

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利复星药物与牛血清白蛋白作用的荧光光谱研究

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量子电子学报 2006年第2期23卷 150-154页

作者：陈晓波李崧康栋国王水锋宋增福陈鸾吴正龙马辉李辉郭敬华北京师范大学分析测试中心应用光学北京重点实验室北京100875 北京大学物理学院北京100871

以荧光光谱为手段,研究了药物利复星(Levofloxacin)与牛血清白蛋白(BSA)的作用和影响,研究了它的荧光淬灭现象。在向该溶液滴加利复星时,观察不到激发峰的明显移动,而发射峰出现了新颖的现象, 原有的353．1 nm的发射峰强度明显的减弱;... 详细信息

以荧光光谱为手段,研究了药物利复星(Levofloxacin)与牛血清白蛋白(BSA)的作用和影响,研究了它的荧光淬灭现象。在向该溶液滴加利复星时,观察不到激发峰的明显移动,而发射峰出现了新颖的现象, 原有的353．1 nm的发射峰强度明显的减弱;新出现了峰位位于450．4 nm的新的荧光发射峰。利复星-BSA 体系的猝灭过程不是因为分子扩散和碰撞所引起的动态猝灭,而是分子之间结合形成了化合物所引起的静态猝灭。利复星的离解常数为Kd=3．39×10-5mol／L。利复星的能量转移效率为50％时给体和受体之间距离的 R0=1．81×10-7cm,利复星和牛血清白蛋白的能量转移效率为E=0．351,根据这些计算结果可以知道利复星和牛血清白蛋白的色氨酸残基的结合位置为r=2．01×10-7cm。

关键词：光谱学利复星荧光猝灭牛血清白蛋白结合位置

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