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作者

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  • 40 篇 陈刚
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  • 32 篇 董逊
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  • 31 篇 chen tangsheng
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  • 21 篇 李拂晓
  • 20 篇 蒋幼泉
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  • 15 篇 li zheyang
  • 15 篇 chen gang

语言

  • 212 篇 中文
检索条件"机构=单片集成电路与模块国家重点实验室"
212 条 记 录,以下是31-40 订阅
排序:
MOCVD生长AlGaN/GaN/Si(111)异质结材料
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固体电子学研究与进展 2009年 第4期29卷 608-610页
作者: 李忠辉 李亮 董逊 李赟 张岚 许晓军 姜文海 陈辰 单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京电子器件研究所南京210016
利用MOCVD在Si(111)衬底上生长了无裂纹的GaN外延薄膜和AlGaN/GaN异质结构。通过优化Si衬底的浸润处理时间、AlN层厚度等参数获得了无裂纹的GaN外延薄膜,研究了SiN缓冲层和插入层厚度对AlGaN/GaN异质结电学性质的影响,2DEG的迁移率和面... 详细信息
来源: 评论
具有136GHz的0.18m GaAs Metamorphic HEMT器件
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2009年 第2期29卷 167-169页
作者: 康耀辉 张政 朱赤 高剑锋 单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京电子器件研究所南京210016
应用电子束直写技术成功制作了栅长0.18μm的高性能In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As MHEMT。从工艺角度,结合器件的小信号等效电路的理论分析,优化了器件结构,特别是T形栅结构,从而减小了器件寄生参数,达到了较好的器件性能。最终制作的I... 详细信息
来源: 评论
GaN HFET中的耦合沟道阱
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2010年 第2期30卷 169-173页
作者: 薛舫时 单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京电子器件研究所南京210016
从自洽求解薛定谔方程和泊松方程出发研究了GaN异质结构中的耦合沟道阱,求出了耦合沟道阱中电子状态随异质结构的变化,发现通过适当的能带剪裁可以使基态子带和激发态子带分别落在主阱和副阱中,从而显著降低了子带间的散射。使用这种新... 详细信息
来源: 评论
SiN钝化前的NF_3等离子体处理对AlGaN/GaN HEMT性能的影响
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2385-2388页
作者: 任春江 陈堂胜 焦刚 陈刚 薛舫时 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
研究了Si N钝化前利用感应耦合等离子体(ICP)对Al GaN/GaN HEMT表面进行NF3等离子体处理对器件性能的影响.结果表明,运用低能量的NF3等离子体处理钝化前的Al GaN/GaN HEMT表面能有效抑制器件电流崩塌,而器件直流及微波小信号特性则未受... 详细信息
来源: 评论
用CF4等离子体处理来剪裁AlGaN/GaN异质结能带
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2009年 第1期29卷 31-35页
作者: 薛舫时 单片集成电路与模块国家级重点实验室南京电子器件研究所 南京210016
自洽求解薛定谔方程和泊松方程研究了CF4等离子体处理对AlGaN/GaN异质结能带的影响。证实了强F离子注入和势垒层的腐蚀是导致沟道电子气耗尽和夹断电压正移的根源。建立了夹断电压移动与异质结构间的关联,为精确的能带剪裁奠定了基础。... 详细信息
来源: 评论
SiC衬底AlGaN/GaN HEMT的ICP通孔刻蚀
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2408-2411页
作者: 任春江 陈堂胜 柏松 徐筱乐 焦刚 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
利用ICP对研制的SiC衬底上Al GaN/GaN HEMT刻蚀获得了深度为50μm的接地通孔.器件通孔制作前首先用机械研磨的方法将衬底减薄至50μm,在背面蒸发Ti/Ni并电镀Ni至3μm作为刻蚀阻挡层;之后利用SF6/O2混合气体的电感耦合等离子体对SiC衬底... 详细信息
来源: 评论
14W X-Band AlGaN/GaN HEMT Power MMICs
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第6期29卷 1027-1030页
作者: 陈堂胜 张斌 任春江 焦刚 郑维彬 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
The development of an AIGaN/GaN HEMT power MMIC on SI-SiC designed in microstrip technology is pres- ented. A recessed-gate and a field-plate are used in the device processing to improve the performance of the AIGaN/G... 详细信息
来源: 评论
导通和半绝缘衬底上的SiC MESFET
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第Z1期28卷 382-384页
作者: 柏松 陈刚 李哲洋 张涛 汪浩 蒋幼泉 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016
分别在导通和半绝缘4H-SiC衬底上外延生长了MESFET结构并制成器件.两种衬底上的SiC MESFET具有类似的直流特性,饱和电流为350mA/mm,最大跨导为25~30mS/mm,击穿电压大于120V.导通衬底上的SiC MESFET在2GHz 50V工作时饱和输出功率为1.75W... 详细信息
来源: 评论
X波段GaN单片电路低噪声放大器
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固体电子学研究与进展 2011年 第1期31卷 16-19页
作者: 周建军 彭龙新 孔岑 李忠辉 陈堂胜 焦刚 李建平 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京电子器件研究所 南京210016
采用0.25μm GaN HEMT制备工艺在AlGaN/GaN异质结材料上研制了高性能X波段GaN单片电路低噪声放大器。GaN低噪声单片电路采取两级微带线结构,10 V偏压下芯片在X波段范围内获得了低于2.2 dB的噪声系数,增益达到18 dB以上,耐受功率达到了27... 详细信息
来源: 评论
磁控溅射AlN介质MIS栅结构的AlGaN/GaN HEMT
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2009年 第3期29卷 330-333,368页
作者: 任春江 陈堂胜 焦刚 钟世昌 薛舫时 陈辰 南京电子器件研究所 单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016
报道了一种X波段输出功率密度达10.4W/mm的SiC衬底AlGaN/GaN MIS-HEMT。器件研制中采用了MIS结构、凹槽栅以及场板,其中MIS结构中采用了磁控溅射的AlN介质作为绝缘层。采用MIS结构后,器件击穿电压由80V提高到了180V以上,保证了器件能够... 详细信息
来源: 评论