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作者

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语言

  • 145 篇 中文
检索条件"机构=单片集成电路及模块电路国家级重点实验室"
145 条 记 录,以下是31-40 订阅
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耐250°C高温的1200V-5A 4H-SiC JBS二极管
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2010年 第4期30卷 478-480,549页
作者: 倪炜江 李宇柱 李哲洋 李赟 陈辰 陈效建 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室 南京210016
采用碳化硅外延和器件工艺制造了碳化硅结势垒肖特基(JBS)二极管,耐压达到1200V,封装的器件电流温达到5A(正向压降2.1V)。通过在不同工作温度下对比测试显示了直流特性随工作温度的变化情况,并验证至少在250°C下依旧能正常工作... 详细信息
来源: 评论
4H-SiC MESFET结构外延生长技术
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第Z1期28卷 379-381页
作者: 李哲洋 董逊 柏松 陈刚 陈堂胜 陈辰 南京电子器件研究所 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016
利用热壁式CVD技术生长4H-SiC MESFET结构外延材料,TMA和氮气分别用作p型和n型掺杂源.外延层厚度使用SEM进行表征,SIMS汞探针C-V用作外延层掺杂浓度测试.通过优化生长参数,成功生长出高质量的MESFET结构外延材料并获得陡峭的过渡掺杂... 详细信息
来源: 评论
毫米波硅基微机械屏蔽膜微带线和滤波器
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2009年 第2期29卷 202-205,275页
作者: 戴新峰 郁元卫 贾世星 朱健 於晓峰 丁玉宁 南京电子器件研究所 南京210016 单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016
介绍了一种屏蔽膜微带线,该型传输线为介质薄膜所支撑,周围为空气,并为金属面所屏蔽,具有可忽略不计的衬底损耗色散效应,以很小的辐射损耗。运用HFSS三维电磁场仿真软件对毫米波屏蔽膜微带线与滤波器进行了仿真设计,运用MEMS工艺在... 详细信息
来源: 评论
12~15GHz5 W GaAs宽带内匹配功率管其应用
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2008年 第3期28卷 360-362,391页
作者: 钟世昌 周焕文 陈堂胜 冯军 单片集成电路及模块电路国家重点实验室 南京210016 南京电子器件研究所 南京210016 东南大学信息科学与工程学院 南京210096
报道了一种新型的砷化镓宽带高效内匹配功率放大器,它采用集总参数与分布参数相混合的匹配电路形式,取用南京电子器件研究所研制的12 mm功率PHEMT管芯,研制的内匹配功率放大器在12~15 GHz频带内,输出功率大于5 W,功率增益大于6 dB,相... 详细信息
来源: 评论
Ku波段60W AlGaN/GaN功率管
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2014年 第4期34卷 350-353页
作者: 钟世昌 陈堂胜 钱锋 陈辰 高涛 南京电子器件研究所 南京210016 单片集成电路及模块电路国家重点实验室 南京210016
针对Ku波段60W氮化镓内匹配功率管,开展了内匹配电路的设计、合成以内匹配电路的测试等研究工作,实现了GaN功率HEMT在Ku波段60W输出功率的内匹配电路,并使整个电路的输入、输出电路阻抗提升至50Ω。该功率管采用南京电子器件研究所研... 详细信息
来源: 评论
Fabrication of SiC MESFETs for Microwave Power Applications
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第1期28卷 10-13页
作者: 柏松 陈刚 张涛 李哲洋 汪浩 蒋幼泉 韩春林 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016
4H-SiC MESFETs are fabricated on semi-insulating SiC substrates. Key processes are optimized to obtain better device performance. A microwave power amplifier is demonstrated from a 1mm SiC MESFET for S band operation.... 详细信息
来源: 评论
AlGaN/GaN HFET中的陷阱位置和激活能
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第Z1期28卷 418-421页
作者: 薛舫时 南京电子器件研究所 单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016
自洽求解薛定谔方程和泊松方程求出了异质结能带和沟道阱基态、激发态二维表面态的波函数.研究了表面陷阱位置其激活能.发现表面高密度缺陷减薄了势垒层,显著增强了热电子隧穿过程.从缺陷态发射电子和热电子隧穿构成的新陷阱模型出... 详细信息
来源: 评论
Ti/4H-SiC Schottky Barrier Diodes with Field Plate and B^+ Implantation Edge Termination Technology
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第9期28卷 1333-1336页
作者: 陈刚 李哲洋 柏松 任春江 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016
This paper describes the fabrication and electrical characteristics of Ti/4H-SiC Schottky barrier diodes (SBDs). The ideality factor n = 1.08 and effective Schottky barrier heightφ= 1.05eV of the SBDs were measured... 详细信息
来源: 评论
耐250℃高温的1200V-5A4H-SiC JBS二极管
收藏 引用
固体电子学研究与进展 2010年 第4期30卷 478-480页
作者: 倪炜江 李宇柱 李哲洋 李赟 陈辰 陈效建 南京电子器件研究所 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016
采用碳化硅外延和器件工艺制造了碳化硅结势垒肖特基(JBS)二极管,耐压达到1 200 V,封装的器件电流温达到5 A(正向压降2.1 V).通过在不同工作温度下对比测试显示了直流特性随工作温度的变化情况,并验证至少在250℃下依旧能正常工作.研... 详细信息
来源: 评论
GaN HFET研究中的钝化、场板和异质结构设计
收藏 引用
微纳电子技术 2009年 第4期46卷 193-200,253页
作者: 薛舫时 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016
从AlGaN/GaN沟道阱电子状态出发,深入研究了GaNHFET研究中的钝化和场板电极。提出了用低、高Al组分比势垒制成复合势垒,来抬高势垒和增大势垒宽度,强化沟道阱的量子限制。强调了负极化电荷在强化沟道阱量子限制和能带剪裁中的重要作用... 详细信息
来源: 评论