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作者

  • 66 篇 陈辰
  • 53 篇 陈堂胜
  • 37 篇 陈刚
  • 36 篇 柏松
  • 35 篇 任春江
  • 32 篇 李哲洋
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  • 29 篇 李忠辉
  • 28 篇 chen chen
  • 27 篇 chen tangsheng
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  • 25 篇 焦刚
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  • 15 篇 chen gang
  • 14 篇 ren chunjiang

语言

  • 181 篇 中文
检索条件"机构=南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室"
181 条 记 录,以下是31-40 订阅
排序:
1200V常开型4H-SiC VJFET
收藏 引用
固体电子研究与进展 2011年 第2期31卷 103-106页
作者: 倪炜江 李宇柱 李哲洋 李赟 管邦虎 陈征 柏松 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室 南京210016
用沟槽和离子注入方法在自主外延的4H导通型碳化硅晶圆上研制了垂直沟道结型场效应晶体管(VJFET)。在栅电压VG=-10 V时阻断电压达到1 200 V;在VG=2.5 V,VD=2V时的电流密度为395 A/cm2,相应的比导通电阻为5.06 mΩ·cm2。分析发现欧... 详细信息
来源: 评论
导通和半绝缘衬底上的SiC MESFET
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第Z1期28卷 382-384页
作者: 柏松 陈刚 李哲洋 张涛 汪浩 蒋幼泉 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016
分别在导通和半绝缘4H-SiC衬底上外延生长了MESFET结构并制成器件.两种衬底上的SiC MESFET具有类似的直流特性,饱和电流为350mA/mm,最大跨导为25~30mS/mm,击穿电压大于120V.导通衬底上的SiC MESFET在2GHz 50V工作时饱和输出功率为1.75W... 详细信息
来源: 评论
600 V-30 A 4H-SiC肖特基二极管作为IGBT续流二极管的研究
收藏 引用
固体电子研究与进展 2010年 第2期30卷 292-296页
作者: 李宇柱 倪炜江 李哲洋 李赟 陈辰 陈效建 南京电子器件研究所 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016
采用碳化硅外延和器件工艺制造了碳化硅肖特基(SBD)二极管,耐压超过600 V。正向压降为1.6 V时,器件电流达到30A。作为IGBT续流二极管,600 V碳化硅肖特基二极管和国际整流器公司的600 V超快恢复二极管(Ultra fast diode)进行了对比:125℃... 详细信息
来源: 评论
SiC衬底AlGaN/GaN HEMT的ICP通孔刻蚀
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2408-2411页
作者: 任春江 陈堂胜 柏松 徐筱乐 焦刚 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
利用ICP对研制的SiC衬底上Al GaN/GaN HEMT刻蚀获得了深度为50μm的接地通孔.器件通孔制作前首先用机械研磨的方法将衬底减薄至50μm,在背面蒸发Ti/Ni并电镀Ni至3μm作为刻蚀阻挡层;之后利用SF6/O2混合气体的电感耦合等离子体对SiC衬底... 详细信息
来源: 评论
SiN钝化前的NF_3等离子体处理对AlGaN/GaN HEMT性能的影响
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2385-2388页
作者: 任春江 陈堂胜 焦刚 陈刚 薛舫时 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
研究了Si N钝化前利用感应耦合等离子体(ICP)对Al GaN/GaN HEMT表面进行NF3等离子体处理对器件性能的影响.结果表明,运用低能量的NF3等离子体处理钝化前的Al GaN/GaN HEMT表面能有效抑制器件电流崩塌,而器件直流及微波小信号特性则未受... 详细信息
来源: 评论
14W X-Band AlGaN/GaN HEMT Power MMICs
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第6期29卷 1027-1030页
作者: 陈堂胜 张斌 任春江 焦刚 郑维彬 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
The development of an AIGaN/GaN HEMT power MMIC on SI-SiC designed in microstrip technology is pres- ented. A recessed-gate and a field-plate are used in the device processing to improve the performance of the AIGaN/G... 详细信息
来源: 评论
毫米波硅基微机械屏蔽膜微带线和滤波器
收藏 引用
固体电子研究与进展 2009年 第2期29卷 202-205,275页
作者: 戴新峰 郁元卫 贾世星 朱健 於晓峰 丁玉宁 南京电子器件研究所 南京210016 单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016
介绍了一种屏蔽膜微带线,该型传输线为介质薄膜支撑,周围为空气,并为金属面屏蔽,具有可忽略不计的衬底损耗及色散效应,以及很小的辐射损耗。运用HFSS三维电磁场仿真软件对毫米波屏蔽膜微带线与滤波器进行了仿真设计,运用MEMS工艺在... 详细信息
来源: 评论
耐250°C高温的1200V-5A 4H-SiC JBS二极管
收藏 引用
固体电子研究与进展 2010年 第4期30卷 478-480,549页
作者: 倪炜江 李宇柱 李哲洋 李赟 陈辰 陈效建 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室 南京210016
采用碳化硅外延和器件工艺制造了碳化硅结势垒肖特基(JBS)二极管,耐压达到1200V,封装的器件电流温达到5A(正向压降2.1V)。通过在不同工作温度下对比测试显示了直流特性随工作温度的变化情况,并验证至少在250°C下依旧能正常工作... 详细信息
来源: 评论
4H-SiC MESFET结构外延生长技术
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第Z1期28卷 379-381页
作者: 李哲洋 董逊 柏松 陈刚 陈堂胜 陈辰 南京电子器件研究所 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016
利用热壁式CVD技术生长4H-SiC MESFET结构外延材料,TMA和氮气分别用作p型和n型掺杂源.外延层厚度使用SEM进行表征,SIMS及汞探针C-V用作外延层掺杂浓度测试.通过优化生长参数,成功生长出高质量的MESFET结构外延材料并获得陡峭的过渡掺杂... 详细信息
来源: 评论
12~15GHz5 W GaAs宽带内匹配功率管及其应用
收藏 引用
固体电子研究与进展 2008年 第3期28卷 360-362,391页
作者: 钟世昌 周焕文 陈堂胜 冯军 单片集成电路及模块电路国家重点实验室 南京210016 南京电子器件研究所 南京210016 东南大学信息科学与工程学院 南京210096
报道了一种新型的砷化镓宽带高效内匹配功率放大器,它采用集总参数与分布参数相混合的匹配电路形式,取用南京电子器件研究所研制的12 mm功率PHEMT管芯,研制的内匹配功率放大器在12~15 GHz频带内,输出功率大于5 W,功率增益大于6 dB,相... 详细信息
来源: 评论