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作者

  • 58 篇 陈辰
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  • 33 篇 任春江
  • 32 篇 柏松
  • 32 篇 陈刚
  • 29 篇 李哲洋
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  • 27 篇 chen tangsheng
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  • 15 篇 li zheyang
  • 15 篇 chen gang
  • 14 篇 ren chunjiang
  • 13 篇 xue fangshi

语言

  • 165 篇 中文
检索条件"机构=南京电子器件研究所,单片集成电路与模块国家重点实验室,南京 210016"
165 条 记 录,以下是31-40 订阅
排序:
156GHz 0.15μm GaAs Metamorphic HEMT器件研制
收藏 引用
固体电子研究与进展 2010年 第1期30卷 51-53,128页
作者: 康耀辉 高建峰 黄念宁 陈堂胜 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016
应用电子束直写技术成功制作了栅长0.15μm的高性能In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As GaAs MHEMT。从工艺角度,结合器件的小信号等效电路的理论分析,优化了器件源漏间距,从而减小了器件寄生参数,达到了较好的器件性能。最终制作的In0.52Al... 详细信息
来源: 评论
X波段GaN单片电路低噪声放大器
收藏 引用
固体电子研究与进展 2011年 第1期31卷 16-19页
作者: 周建军 彭龙新 孔岑 李忠辉 陈堂胜 焦刚 李建平 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京电子器件研究所 南京210016
采用0.25μm GaN HEMT制备工艺在AlGaN/GaN异质结材料上研制了高性能X波段GaN单片电路低噪声放大器。GaN低噪声单片电路采取两级微带线结构,10 V偏压下芯片在X波段范围内获得了低于2.2 dB的噪声系数,增益达到18 dB以上,耐受功率达到了27... 详细信息
来源: 评论
1200V常开型4H-SiC VJFET
收藏 引用
固体电子研究与进展 2011年 第2期31卷 103-106页
作者: 倪炜江 李宇柱 李哲洋 李赟 管邦虎 陈征 柏松 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室 南京210016
用沟槽和离子注入方法在自主外延的4H导通型碳化硅晶圆上研制了垂直沟道结型场效应晶体管(VJFET)。在栅电压VG=-10 V时阻断电压达到1 200 V;在VG=2.5 V,VD=2V时的电流密度为395 A/cm2,相应的比导通电阻为5.06 mΩ·cm2。分析发现欧... 详细信息
来源: 评论
导通和半绝缘衬底上的SiC MESFET
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2007年 第z1期28卷 382-384页
作者: 柏松 陈刚 李哲洋 张涛 汪浩 蒋幼泉 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室 南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室南京210016
分别在导通和半绝缘4H-SiC衬底上外延生长了MESFET结构并制成器件.两种衬底上的SiC MESFET具有类似的直流特性,饱和电流为350mA/mm,最大跨导为25~30mS/mm,击穿电压大于120V.导通衬底上的SiC MESFET在2GHz 50V工作时饱和输出功率为1.75W... 详细信息
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600 V-30 A 4H-SiC肖特基二极管作为IGBT续流二极管的研究
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固体电子研究与进展 2010年 第2期30卷 292-296页
作者: 李宇柱 倪炜江 李哲洋 李赟 陈辰 陈效建 南京电子器件研究所 单片集成电路和模块国家级重点实验室南京210016
采用碳化硅外延和器件工艺制造了碳化硅肖特基(SBD)二极管,耐压超过600 V。正向压降为1.6 V时,器件电流达到30A。作为IGBT续流二极管,600 V碳化硅肖特基二极管和国际整流器公司的600 V超快恢复二极管(Ultra fast diode)进行了对比:125℃... 详细信息
来源: 评论
耐250°C高温的1200V-5A 4H-SiC JBS二极管
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固体电子研究与进展 2010年 第4期30卷 478-480,549页
作者: 倪炜江 李宇柱 李哲洋 李赟 陈辰 陈效建 南京电子器件研究所单片集成电路和模块国家级重点实验室 南京210016
采用碳化硅外延和器件工艺制造了碳化硅结势垒肖特基(JBS)二极管,耐压达到1200V,封装的器件电流温达到5A(正向压降2.1V)。通过在不同工作温度下对比测试显示了直流特性随工作温度的变化情况,并验证至少在250°C下依旧能正常工作... 详细信息
来源: 评论
SiC衬底AlGaN/GaN HEMT的ICP通孔刻蚀
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Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2408-2411页
作者: 任春江 陈堂胜 柏松 徐筱乐 焦刚 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
利用ICP对研制的SiC衬底上Al GaN/GaN HEMT刻蚀获得了深度为50μm的接地通孔.器件通孔制作前首先用机械研磨的方法将衬底减薄至50μm,在背面蒸发Ti/Ni并电镀Ni至3μm作为刻蚀阻挡层;之后利用SF6/O2混合气体的电感耦合等离子体对SiC衬底... 详细信息
来源: 评论
14W X-Band AlGaN/GaN HEMT Power MMICs
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第6期29卷 1027-1030页
作者: 陈堂胜 张斌 任春江 焦刚 郑维彬 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
The development of an AIGaN/GaN HEMT power MMIC on SI-SiC designed in microstrip technology is pres- ented. A recessed-gate and a field-plate are used in the device processing to improve the performance of the AIGaN/G... 详细信息
来源: 评论
SiN钝化前的NF_3等离子体处理对AlGaN/GaN HEMT性能的影响
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2385-2388页
作者: 任春江 陈堂胜 焦刚 陈刚 薛舫时 陈辰 南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016
研究了Si N钝化前利用感应耦合等离子体(ICP)对Al GaN/GaN HEMT表面进行NF3等离子体处理对器件性能的影响.结果表明,运用低能量的NF3等离子体处理钝化前的Al GaN/GaN HEMT表面能有效抑制器件电流崩塌,而器件直流及微波小信号特性则未受... 详细信息
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Ka波段低相位噪声GaAs MHEMT单片压控振荡器
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固体电子研究与进展 2009年 第3期29卷 352-355页
作者: 王维波 王志功 张斌 康耀辉 吴礼群 杨乃彬 东南大学射频与光电集成电路研究所 南京210096 单片集成电路与模块国家重点实验室 南京210016 南京电子器件研究所 南京210016
报道了一种低相位噪声VCOMMIC芯片,采用传统的源端反馈形成负阻来消除谐振回路中的寄生电阻,通过合理的输出匹配实现起振条件并抑制谐波,利用南京电子器件研究所0.15μmGaAsMHEMT工艺,研制的Ka波段GaAsMHEMT压控振荡器,典型振荡频率为39... 详细信息
来源: 评论