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  • 6 篇 电子文献
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主题

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  • 1 篇 量子阱
  • 1 篇 NOT FOUND
  • 1 篇 选择激发
  • 1 篇 综述
  • 1 篇 nc-si

机构

  • 6 篇 南通大学
  • 1 篇 中国科学院半导体...
  • 1 篇 中国科学院半导体...
  • 1 篇 中国科学院上海技...
  • 1 篇 香港科技大学
  • 1 篇 中科院苏州纳米仿...
  • 1 篇 湘潭大学

作者

  • 5 篇 罗向东
  • 2 篇 徐仲英
  • 2 篇 luo xiang-dong
  • 2 篇 顾俊
  • 1 篇 吴渊渊
  • 1 篇 liu peisheng
  • 1 篇 ge wei-kun
  • 1 篇 杨辉
  • 1 篇 张波
  • 1 篇 何素明
  • 1 篇 戴珊珊
  • 1 篇 gu jun
  • 1 篇 陆书龙
  • 1 篇 zhang bo
  • 1 篇 wang jin-bin
  • 1 篇 dai bing
  • 1 篇 luo xiangdong
  • 1 篇 李宝吉
  • 1 篇 谭平恒
  • 1 篇 wang hao

语言

  • 6 篇 中文
检索条件"机构=南通大学理学院江苏省光用集成电路设计重点实验室"
6 条 记 录,以下是1-10 订阅
排序:
SELECTIVELY-EXCITED PHOTOLUMINESCENCE IN NC-Si:Er
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Transactions of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics 2008年 第4期25卷 318-323页
作者: 罗向东 戴兵 南通大学江苏省专用集成电路设计重点实验室 南通大学理学院
Erbium (Er) doped in nanocrystalline Si (nc-Si:Er) surrounded by SiO2 is investigated by selectivelyexcited photoluminescence(PL) technique. Optical transitions come from nc-Si (peak located at 1.39 eV, denote... 详细信息
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GaNAs/GaAs中的激子局域化和发光特性
收藏 引用
红外与毫米波学报 2005年 第3期24卷 185-188页
作者: 罗向东 徐仲英 谭平恒 GE Wei-Kun 南通大学理学院江苏省光用集成电路设计重点实验室 江苏南通226007 中国科学院半导体研究所超晶格国家重点实验室 北京100083 香港科技大学物理系
通过多种光谱手段研究了GaNAs量子阱和体材料中的局域态和非局域态的不同光学特性.在超短激光脉冲激发下,第一次在GaNAs/GaAs量子阱发光光谱中,观察到非局域激子发光.选择激发光谱表明,局域中心主要聚集在GaNAs、GaAs异质结界面.在低N... 详细信息
来源: 评论
等离子体增强化学气相沉积工艺制备SiON膜及对硅的钝化
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理学 2014年 第12期63卷 366-372页
作者: 何素明 戴珊珊 罗向东 张波 王金斌 湘潭大学材料与光电物理学院 低维材料与应用技术教育部重点实验室湘潭411105 中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室上海200083 南通大学 江苏省专用集成电路设计重点实验室南通226019
研究了等离子体增强化学气相沉积工艺条件对氮氧化硅膜的生长厚度及折射率的影响以及氮氧化硅/氮化硅叠层膜对p型硅片的钝化效果.实验结果表明,NH3的流量和N2O/SiH4流量比对氮氧化硅膜的影响较大,薄膜折射率能从1.48变化到2.1,厚度从30... 详细信息
来源: 评论
GaNAs和GaAsSb半导体的光学性质研究(英文)
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中国科学院研究生院学报 2005年 第5期22卷 645-655页
作者: 罗向东 徐仲英 南通大学理学院 江苏省专用集成电路设计重点实验室南通226007 中国科学院半导体研究所 北京100083
首次利用材料在超短脉冲激发下的瞬间高载流子密度特性研究了GaNxAs1-x/GaAs量子阱的光学特性.研究首次发现在高于量子阱的Mott迁移边(局域发光的高能端)存在一个非局域特性的新的发光峰.该峰具有与局域发光完全不同的光学性质.通过研... 详细信息
来源: 评论
Mg_xZn_(1-x)O纳米材料的研究进展
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电子元件与材料 2015年 第10期34卷 1-5,13页
作者: 王浩 刘培生 顾俊 南通大学理学院 江苏南通226007 南通大学江苏省专用集成电路设计重点实验室 江苏南通226019
近年来,镁掺杂氧化锌半导体纳米材料在透明电子元件、气体传感、光催化等领域有着广泛的应用。主要总结概括了MgxZn1–xO纳米材料的制备方法,并探究了其制备过程中可能存在的问题和解决方法。最后展望了MgxZn1–xO纳米材料在紫外光电探... 详细信息
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InAlN/GaNhemt的MBE生长及器件制备
InAlN/GaNhemt的MBE生长及器件制备
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第十一届全国分子束外延学术会议
作者: 顾俊 吴渊渊 杨文献 李宝吉 代盼 罗向东 陆书龙 杨辉 中科院苏州纳米仿生研究所 中国科学院纳米器件与应用重点实验室苏州215125 南通大学理学院 江苏省专用集成电路设计重点实验室南通226019 中科院苏州纳米仿生研究所 中国科学院纳米器件与应用重点实验室苏州215125 南通大学理学院 江苏省专用集成电路设计重点实验室南通226019
InAlN/GaN异质结在制作高迁移率晶体管(hemt)上有独特优势,当In组分为18%,时,InAlN与GaN晶格匹配,可以克服界面陷阱、电流崩塌效应等传统氮化物hemt器件遇到的问题;同时,依靠自发极化,InAlN/GaNhemt器件拥有高载流子浓度等优点。高质量... 详细信息
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