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机构

  • 2 篇 哈尔滨工业大学
  • 1 篇 等离子体表面技术...
  • 1 篇 等离子体表面技术...

作者

  • 4 篇 田修波
  • 3 篇 巩春志
  • 3 篇 杨士勤
  • 3 篇 石经纬
  • 2 篇 吴忠振
  • 1 篇 朱宗涛

语言

  • 4 篇 中文
检索条件"机构=哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所"
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高离化脉冲磁控放电与溅射技术
高离化脉冲磁控放电与溅射技术
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薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会
作者： 田修波 吴忠振 石经纬 巩春志 杨士勤 哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所
高离化率脉冲磁控溅射技术(HIPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道。本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电... 详细信息
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高离化脉冲磁控放电与溅射技术
高离化脉冲磁控放电与溅射技术
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2009年薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会
作者： 田修波 吴忠振 石经纬 巩春志 杨士勤 哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所 哈尔滨150001
本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等.HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力... 详细信息
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耦合电源技术——真空等离子体表面处理的新希望
耦合电源技术——真空等离子体表面处理的新希望
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第九届真空冶金与表面工程学术会议
作者： 田修波 等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室 材料科学与工程学院哈尔滨工业大学
等离子体表面技术已经得到了越来越广泛的应用,真空等离子体表面技术也得到了长足发展。无论是真空获得、等离子体产生与控制,还是自动化过程控制以及应用电源技术,每一个技术的进步都为真空镀膜的水平提升提供了基础和平台。为了获得... 详细信息
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真空镀膜中的复合电源技术
真空镀膜中的复合电源技术
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中国真空学会真空工程学术交流会
作者： 田修波 巩春志 朱宗涛 石经纬 杨士勤 等离子体表面技术与设备研究所 现代焊接生产技术国家重点实验室材料科学与工程学院哈尔滨工业大学
真空镀膜离不开先进的电源技术。真空镀膜中电源种类也不尽相同,包括蒸发电源、磁控溅射电源、阴极弧电源、偏压电源、离子注入电源、高压电源、溅射清洗电源等等。随着人们对薄膜质量和性能的不断追求,这些电源技术也不断发展。近些年... 详细信息
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