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文献类型

  • 3 篇 会议

馆藏范围

  • 3 篇 电子文献
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日期分布

学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 材料科学与工程(可...
    • 1 篇 光学工程
    • 1 篇 电子科学与技术(可...
  • 1 篇 理学
    • 1 篇 物理学

主题

  • 2 篇 氧化铟锡薄膜
  • 1 篇 有机电致发光器件
  • 1 篇 等离子体浸没离子...
  • 1 篇 等离子体浸没离子...
  • 1 篇 表面处理

机构

  • 2 篇 复旦大学
  • 1 篇 复且大学

作者

  • 3 篇 高欢忠
  • 3 篇 吴忠航
  • 3 篇 何龙
  • 3 篇 李泽斌
  • 3 篇 区琼荣
  • 2 篇 梁荣庆
  • 1 篇 粱荣庆

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"机构=复且大学信息学院电光源研究所"
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排序:
等离子体浸没离子注入方法处理氧化铟锡薄膜的初步实验研究
等离子体浸没离子注入方法处理氧化铟锡薄膜的初步实验研究
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第十五届全国等离子体科学技术会议
作者: 何龙 高欢忠 区琼荣 吴忠航 李泽斌 粱荣庆 复且大学信息学院电光源研究所
用等离子体浸没离子注入(PIII)的方法对氧化铟锡(ITO)进行了表面处理。在稳定100W射频功率输入情况下,氧等离子体环境中,研究了不同电学参数的处理效果。XPS分析表明,不同注入偏压条件下,样品表面氧含量有变化,从而影响到ITO表面功函... 详细信息
来源: 评论
等离子体浸没离子注入方法处理氧化铟锡薄膜的研究
等离子体浸没离子注入方法处理氧化铟锡薄膜的研究
收藏 引用
上海照明科技及应用趋势论坛
作者: 何龙 高欢忠 区琼荣 吴忠航 李泽斌 梁荣庆 复旦大学信息学院电光源研究所
用等离子体浸没离子注入(PIII)的方法对氧化铟锡(ITO)进行了表面处理。在稳定100W射频功率输入情况下,氧等离子体环境中,研究了不同电学参数的处理效果。XPS分析表明,不同注入偏压条件下,样品表面氧含量有变化,从而影响到ITO表面... 详细信息
来源: 评论
等离子体浸没离子注入方法处理氧化锢锡薄膜的初步实验研究
等离子体浸没离子注入方法处理氧化锢锡薄膜的初步实验研究
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第十五届全国等离子体科学技术会议
作者: 何龙 高欢忠 区琼荣 吴忠航 李泽斌 梁荣庆 复旦大学信息学院电光源研究所 上海200433
用等离子体浸没离子注入(PIII)的方法对氧化铟锡(ITO)进行了表面处理.在稳定IOOW射频功率输入情况下,氧等离子体环境中,研究了不同电学参数的处理效果.XPS分析表明,不同注入偏压条件下,样品表面氧含量有变化,从而影响到ITO表面功函数...
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