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机构

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作者

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语言

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检索条件"机构=复旦大学应用物理表面国家重点实验室"
1073 条 记 录,以下是101-110 订阅
排序:
1.30 μm/1.55 μm SiGe多模干涉滤波器
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光学学报 1998年 第11期18卷 1508-1512页
作者: 李宝军 李国正 刘恩科 王迅 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 西安交通大学微电子工程系
用多模干涉原理分析和设计了光通信波长(1.30μm~1.55μm)的Si1-xGex/Si滤波器,并用模的传播分析方法对其传输特性进行了研究。结果发现,在Ge含量x=0.04时,干涉区的脊高和宽度分别为6.35μm和... 详细信息
来源: 评论
多孔硅材料和光电器件
收藏 引用
半导体光电 1993年 第2期14卷 109-114页
作者: 俞鸣人 侯晓远 复旦大学应用表面物理国家重点实验室
介绍了多孔硅的形成方法及其机理。对国内外有关该材料在固体发光方面的研究现状和进展及其在光电器件上的应用作了讨论。
来源: 评论
硅锗量子阱发光器件的探索
收藏 引用
物理 1994年 第11期23卷 658-663页
作者: 王迅 杨宇 复旦大学应用表面物理国家重点实验室
介绍了提高硅发光效率的一些途径,在阐述硅锗合金发光的基础上,分析了硅锗量子阱的光致发光机理及特性,并介绍了硅锗量子阱电致发光研究的进展。
来源: 评论
从“布基球”到“布基管”和“布基洋葱”
收藏 引用
物理 1994年 第1期23卷 7-12页
作者: 谢希德 叶令 复旦大学应用表面物理国家重点实验室
在回顾C60等布基球基本概貌的基础上,介绍了这方面的一些最新进展,讲述了布基管的概念及其和布基球的关系,叙述了布基管的一些有趣的物理性质,它可以是良导体,也可以成为近零能隙或有中等大小能隙的半导体。这些物理性质和它的... 详细信息
来源: 评论
电导法测量Si_(1-x)Ge_x/Si量子阱的能带偏移
收藏 引用
Journal of Semiconductors 1999年 第2期20卷 139-142页
作者: 张胜坤 蒋最敏 秦捷 林峰 胡冬枝 裴成文 陆方 复旦大学表面物理国家重点实验室
本文分析了一个单量子阱的随频率变化的G-V特性,提出用电导法测量量子阱的能带偏移.通过对一个Si1-xGex/Si单量子阱的实验G-V曲线的分析。
来源: 评论
Mn掺杂ZnO薄膜的软X射线发射光谱研究
收藏 引用
无机材料学报 2012年 第3期27卷 296-300页
作者: 金晶 张新夷 周映雪 上海大学材料科学与工程学院 上海200072 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
利用先进光源(ALS)8.0.1光束线的软X射线荧光谱仪,对采用分子束外延(MBE)设备在200℃下生长的Zn0.97Mn0.03O和Zn0.67Mn0.33O薄膜样品进行了电子结构的研究.根据共振和非共振Mn L2,3边的X射线发射光谱,计算出Mn L2与Mn L3发射峰相对积分... 详细信息
来源: 评论
有机半导体电致发光器件中的焦耳热效应和有机物热分解
收藏 引用
Journal of Semiconductors 2001年 第8期22卷 1048-1051页
作者: 周美娟 钟高余 何钧 廖良生 侯晓远 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
采用显微观察的方法证明有机半导体电致发光器件处于工作状态时产生的焦耳热 ,不仅使有机物发生结晶现象 ,还使器件产生气体并向外逸出 ,气体集聚在金属电极 /有机层界面 ,从而形成表面气泡 .质谱、色谱分析表明 ,逸出气体的成分除了大... 详细信息
来源: 评论
锗硅双层量子点的光电流特性
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固体电子学研究与进展 2002年 第4期22卷 441-444页
作者: 周浩 蒋最敏 陆昉 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
在分子束外延 (MBE)系统上用自组织方式生长了硅基双层锗量子点结构 ,并对样品进行光电流谱的测试。通过调节不同外加偏压来改变量子点中的费米能级位置 ,量子点中载流子所处束缚能级将随之发生变化 ,所得到的光电流谱的峰位也将因此而... 详细信息
来源: 评论
Si中Ge量子点的光致发光
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Journal of Semiconductors 1997年 第12期18卷 939-941页
作者: 胡冬枝 朱海军 蒋最敏 黄大鸣 张翔九 王迅 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
生长温度500℃下,在Si(001)衬底上分子束外延自组织生长锗量子点.700℃退火20分钟后观察到其光致发光.原子力显微镜(AFM)和横截面试样透镜(XTEM)方法用于观察鼻子点的大小和密度.利用喇曼光谱观察不同温度退火引起的Ge与Si之... 详细信息
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第21届国际半导体物理会议在北京举行
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固体电子学研究与进展 1992年 第4期 383-384页
作者: 蒋平 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海 200433
1992年8月10日至14日,在北京国贸中心中国大饭店举行了第21届国际半导体物理会议(ICPS-21)。从1950年开始,国际半导体物理会议每两年举行一次,是全世界半导体物理领域最高水平的学术会议。本届会议由我国半导体物理学家谢希德教授担任... 详细信息
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