检索结果-内蒙古大学图书馆

物理学报 1992年第8期41卷 1308-1314页

作者：吕宏强王杰沈军刘咏王迅王昌平王建宝李晨沈孝良复旦大学应用表面物理国家重点实验室上海200433 复旦大学物理系上海200433 复旦大学分析测试中心上海200433

用热壁外延法在不同衬底温度条件下生长一系列ZnSe薄膜,并通过X射线衍射、喇曼散射以及光致发光技术对ZnSe薄膜质量作了研究。实验结果表明,随着衬底温度下降,ZnSe薄膜质量逐渐变差;当衬底温度低于300℃时,(100)ZnSe薄膜中有(111)孪晶出... 详细信息

用热壁外延法在不同衬底温度条件下生长一系列ZnSe薄膜,并通过X射线衍射、喇曼散射以及光致发光技术对ZnSe薄膜质量作了研究。实验结果表明,随着衬底温度下降,ZnSe薄膜质量逐渐变差;当衬底温度低于300℃时,(100)ZnSe薄膜中有(111)孪晶出现;但同时发现衬底温度大于375℃时,衬底Ga原子对ZnSe外延层扩散严重。

关键词：硒化锌薄膜热壁外延法衬底温度

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NH_3在Cu及其氧化表面物理吸附的光声振动谱研究

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物理学报 1992年第7期41卷 1119-1124页

作者：胡长武俞立民徐颖朱昂如王兆永复旦大学应用表面物理国家重点实验室上海200433 香港浸会学院物理系

本工作采用激光光声谱对85K多晶Cu表面上NH_3分子的物理吸附进行了研究。通过监测NH_3分子伞形振动模(ν_2),发现在清洁和预吸附O的Cu表面上,相同物理吸附态NH_3分子振动谱的峰位频率和峰的半高宽度(FWHM)随覆盖度表现出不同的变化规律... 详细信息

本工作采用激光光声谱对85K多晶Cu表面上NH_3分子的物理吸附进行了研究。通过监测NH_3分子伞形振动模(ν_2),发现在清洁和预吸附O的Cu表面上,相同物理吸附态NH_3分子振动谱的峰位频率和峰的半高宽度(FWHM)随覆盖度表现出不同的变化规律,对应着不同的物理吸附机理。实验结果同时表明高分辨率的光声谱在研究弱吸附体系细致结构和细微作用方面的潜力。

关键词：铜表面氨分子物理吸附光声谱

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Ge_xSi_(1-x)/Si应变层超晶格的折迭纵声学声子

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Journal of Semiconductors 1991年第7期12卷 448-451页

作者：张树霖金鹰秦国刚盛篪周国良周铁成北京大学物理系北京100871 复旦大学应用表面物理国家重点实验室上海200433

用喇曼光谱研究了Ge_xSi_(1-x)/Si(x=0.5)应变层超晶格的折迭纵声学声子.在Ge_xSi_(1-x)和Si的层厚分别为50和250A的样品中,我们首次观察到了多达9级的折迭纵声学声子模.与理论计算比较,鉴认了不同波矢值的声学声子模.理论与实验结果间... 详细信息

用喇曼光谱研究了Ge_xSi_(1-x)/Si(x=0.5)应变层超晶格的折迭纵声学声子.在Ge_xSi_(1-x)和Si的层厚分别为50和250A的样品中,我们首次观察到了多达9级的折迭纵声学声子模.与理论计算比较,鉴认了不同波矢值的声学声子模.理论与实验结果间符合得相当的好.它表明 Rytov模型对长周期 Ge_xSi_(1-x)/Si 超晶格可以较好地得到应用.

关键词： GeSi/Si 应变层超晶格声学声子

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光弹模型计算GexSi1-x应变层超晶格中折迭声学声子的散射强度

光弹模型计算GexSi1-x应变层超晶格中折迭声学声子的散射强度

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中国物理学会光散射专业委员会成立十周年暨第六届学术会议

作者：金鹰张树霖秦国刚周国良俞鸣人北京大学物理系人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学物理系复旦大学表面物理实验室

超晶格中出现折迭声学声子是多层结构超晶格的直接反映,从它的频率位置和散射强度中,我们可以得到超晶格中有关周期及界面的信息.用Rytov公式,可以折迭声学声子的频率,并且理论结果和实验符合得相当好。它的散射强度可以用光弹模型来计... 详细信息

超晶格中出现折迭声学声子是多层结构超晶格的直接反映,从它的频率位置和散射强度中,我们可以得到超晶格中有关周期及界面的信息.用Rytov公式,可以折迭声学声子的频率,并且理论结果和实验符合得相当好。它的散射强度可以用光弹模型来计算.用这种方法,***等曾计算过GaAS/AeGaAs超晶格中折迭声学声子

关键词：应变层超晶格声学声子 GexSi 光弹理论光弹模型散射强度

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GexSi1-x/Si应变层超晶格周期不均匀性对喇曼光谱中折迭声学声子线宽的影响

GexSi1-x/Si应变层超晶格周期不均匀性对喇曼光谱中折迭声学声子...

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中国物理学会光散射专业委员会成立十周年暨第六届学术会议

作者：金鹰秦国刚张树霖周国良俞鸣人北京大学物理系人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学物理系复旦大学表面物理实验室

超晶格中折迭声学声子的喇曼光散射是表征超晶材料的有效工具.但是到目前为止,人们主要只是从折迭声学声子的频率和散射强度这两个方面来研究.从折迭声学声子的频率可以推算出超晶格中的周期大小,从它的散射强度则可以得到超晶格中界面... 详细信息

超晶格中折迭声学声子的喇曼光散射是表征超晶材料的有效工具.但是到目前为止,人们主要只是从折迭声学声子的频率和散射强度这两个方面来研究.从折迭声学声子的频率可以推算出超晶格中的周期大小,从它的散射强度则可以得到超晶格中界面的信息,而对折迭声学声子的线型,还没有有关这方面比较定量的研究工作的报道,其原因可能

关键词：声学声子应变层超晶格 GexSi 不均匀性喇曼光谱

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GexSi1-x/Si应变层超晶格中折迭声学声子的喇曼光谱研究

GexSi1-x/Si应变层超晶格中折迭声学声子的喇曼光谱研究

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中国物理学会光散射专业委员会成立十周年暨第六届学术会议

作者：张树霖金鹰秦国刚周国良俞鸣人北京大学物理系人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学物理系复旦大学表面物理实验室

GexSi/Si应变层超晶格由于具有广阔的器件应用前景,得到了很大的关注, GexSi/Si应变层超晶格中的折迭声学声子的散射信号在组分X较大(X>0.4时比较强,超晶格周期d的变化范围也比较大.因此,它是研究折迭声学声子的一种理

关键词：应变层超晶格声学声子 GexSi 喇曼光谱

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Ge_x Si_(1-x)/Si超晶格中纵声学声子的喇曼散射强度研究

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光散射学报 1991年第1期3卷 14-18页

作者：金鹰候永田秦国刚张树霖周国良俞鸣人北京大学人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学物理系北京100871 复旦大学表面物理实验室上海200433

本文用光弹理论,在全面考虑了超晶格中两种材料的声速,质量密度和光弹常数存在差别的基础上,计算了Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格中折迭纵声学声子的喇曼散射强度,在高达50cm^(-1)的频率范围内,理论值和实验符合得很好。

关键词：超晶格折迭声学声子喇曼散射

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