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作者

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检索条件"机构=复旦大学应用表面物理国家重点实验室上海200433"
828 条 记 录,以下是461-470 订阅
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渣油催化裂化液态烃的深度利用
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合成橡胶工业 2002年 第3期25卷 167-168页
作者: 火金三 蔺有雄 周健 刘维民 李同生 薛群基 中国石油天然气股份有限公司兰州石化分公司合成橡胶厂 甘肃兰州730060 中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 甘肃兰州730000 复旦大学聚合物分子工程教育部重点实验室 上海200433
介绍了渣油催化裂化副产液态烃的综合利用方法,着重阐述了碳四通过催化脱硫并运用萃取精馏、催化精馏和超精密精馏的方法生产1-丁烯和甲基叔丁基醚的试验和实施。
来源: 评论
影响ABS树脂用EBR胶乳粒径的因素
收藏 引用
合成橡胶工业 2002年 第3期25卷 143-145页
作者: 火金三 刘维民 李同生 薛群基 中国石油天然气股份有限公司兰州石化分公司合成橡胶厂 甘肃兰州730060 中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 甘肃兰州730000 复旦大学聚合物分子工程教育部重点实验室 上海200433
考察了影响ABS树脂用乳液聚丁二烯橡胶(EBR)胶乳粒径的诸因素,包括初乳化剂用量、补加乳化剂用量、电解质用量、引发剂用量、初水配比及聚合温度等,得到了影响胶乳粒径各因素的线性关系。结果表明,影响EBR胶乳粒径的主要因素为初乳化剂... 详细信息
来源: 评论
龋病人牙釉质表面硬度及抗磨损性能测试
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分析测试技术与仪器 2002年 第3期8卷 182-185页
作者: 邱宜农 刘维民 李同生 刘兰忠 兰州军区总医院口腔科 甘肃兰州730050 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室 甘肃兰州730000 复旦大学聚合物分子工程教育部重点实验室 上海200433
采用人工方法制成人牙釉质浅龋及使用抗龋措施的龋损釉质样本 ,分别测量各组釉质表面显微硬度 ,并以微动摩擦磨损试验机测试其抗磨性能 .试验结果表明 :各组实验组釉质较对照组表面硬度都有不同程度下降 ,氟化钠前处理会使釉质表面硬度... 详细信息
来源: 评论
用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜
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中国激光 2001年 第3期28卷 272-274页
作者: 凌浩 施维 孙剑 应质峰 吴嘉达 李富铭 王康林 丁训民 复旦大学三束材料改性国家重点实验室 上海200433 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
介绍了用脉冲激光沉积 (PLD)方法制备AlN薄膜的工作 ,在Si(10 0 )衬底上得到了光滑平整、透明度高的AlN薄膜 ,由实验结果拟合得到能隙宽度为 5 7eV。考察了衬底温度和退火温度的影响。
来源: 评论
高分辨率电子能量损失谱在半导体表面研究中的应用
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复旦学报(自然科学版) 2001年 第3期40卷 261-267页
作者: 丁训民 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
低能电子与半导体表面的相互作用能激发带间电子跃迁和 (或 )表面振动 ,因而对背散射电子能量分布的高分辨率测量可望给出与这些激发相关的丰富信息 .近年来的实验研究证实 ,进行这样的电子能量损失测量确能从各种不同半导体得到诸如禁... 详细信息
来源: 评论
高分辨率FFT-DLTS测试系统
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复旦学报(自然科学版) 2001年 第3期40卷 255-260,267页
作者: 刘天宇 陆昉 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
相对于传统深能级瞬态谱 (DLTS)方法 ,快速傅立叶变换深能级瞬态谱 (FFT DLTS)方法具有灵敏度高 ,分辨率高等特点 ,但是由于用FFT DLTS方法在处理多能级DLTS系统时存在着系统误差从而限制了该方法的应用 .论证了该误差产生的原因并提出... 详细信息
来源: 评论
有机半导体电致发光器件中的焦耳热效应和有机物热分解
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Journal of Semiconductors 2001年 第8期22卷 1048-1051页
作者: 周美娟 钟高余 何钧 廖良生 侯晓远 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
采用显微观察的方法证明有机半导体电致发光器件处于工作状态时产生的焦耳热 ,不仅使有机物发生结晶现象 ,还使器件产生气体并向外逸出 ,气体集聚在金属电极 /有机层界面 ,从而形成表面气泡 .质谱、色谱分析表明 ,逸出气体的成分除了大... 详细信息
来源: 评论
用光电流谱研究多孔硅微腔的光电特性
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Journal of Semiconductors 2001年 第9期22卷 1127-1130页
作者: 熊卫华 熊祖洪 陆昉 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
利用光电流谱对全硅基多孔硅微腔的吸收特性进行了研究 ,在光电流谱中观察到 λ1 =742 nm主峰 .同时也对多孔硅微腔的 PL 谱和单层多孔硅的光电流谱进行了测量 ,结合有效折射率方法和菲涅耳公式 ,对照 PL 谱和单层多孔硅的光电流谱 ,对... 详细信息
来源: 评论
Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究
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高能物理与核物理 2001年 第12期25卷 1231-1237页
作者: 郑文莉 贾全杰 姜晓明 蒋最敏 中国科学院高能物理研究所 北京100039 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
用X射线反射方法研究了分子束外延技术生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性 .根据X射线反射理论及Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟 ,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式 :在靠近样品... 详细信息
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X射线驻波方法研究半导体超薄异质外延层
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高能物理与核物理 2001年 第6期25卷 588-594页
作者: 姜晓明 贾全杰 胡天斗 黄宇营 郑文莉 何伟 冼鼎昌 施斌 蒋最敏 王迅 中国科学院高能物理研究所 北京100039 复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433
利用双晶单色器和精密二圆衍射仪 ,在北京同步辐射装置建立了同步辐射X射线驻波实验技术 ,并用这一实验技术结合X射线衍射方法 ,研究了Si晶体中外延生长的超薄Ge原子层的微结构 .实验结果表明 ,由于Ge原子的偏析 ,在Si晶体样品中形成了... 详细信息
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