检索结果-内蒙古大学图书馆

基于速度饱和的CMOS倒相器延迟模型

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Journal of Semiconductors 2000年第7期21卷 711-716页

作者：宋任儒阮刚梁擎擎 ReinhardStreiter ThomasOtto ThomasGessner 复旦大学电子工程系专用集成电路与系统国家重点实验室 Chemnitz技术大学微技术中心

提出了一个新的小尺寸 CMOS倒相器延迟模型 ,它考虑了速度饱和效应以及非阶梯的输入信号对延迟的影响并给出了倒相器快输入响应与慢输入响应的判据 ,模型计算结果与SPICE BSIM1模型的模拟结果吻合得很好 .

关键词：速度饱和倒相器延迟 CMOS

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适用于低温和多种Ge分布的SiGeHBT电流增益模型

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固体电子学研究与进展 1999年第2期19卷 190-198页

作者：王大强阮刚薛乐川复旦大学电子工程系专用集成电路与系统国家重点实验室

在前人优秀工作的基础上，叙述了一个适用于低温和多种基区Ｇｅ组分分布的ＳｉＧｅ－ＨＢＴ电流增益的解析模型，详细推出了它的模型公式。该模型考虑了基区处于非平衡态下的载流子准弹道输运效应对集电极电流Ｊｃ和电流增益β的影响，... 详细信息

在前人优秀工作的基础上，叙述了一个适用于低温和多种基区Ｇｅ组分分布的ＳｉＧｅ－ＨＢＴ电流增益的解析模型，详细推出了它的模型公式。该模型考虑了基区处于非平衡态下的载流子准弹道输运效应对集电极电流Ｊｃ和电流增益β的影响，并考虑了ＳｉＧｅ材料迁移率及本征载流子浓度随温度的变化。解析模型的计算结果与数值模拟结果符合较好，证明了解析模型是可信的和有一定精度的。模型计算结果表明：均匀Ｇｅ分布、较低的发射区掺杂浓度和较宽的基区有利于ＳｉＧｅＨＢＴ在低温下具有较大的电流增益。

关键词：锗硅异质结双极晶体管电流增益 HBT

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非均匀掺杂增强型埋沟pMOSFET阈值电压的建模

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固体电子学研究与进展 1999年第2期19卷 62-69页

作者：阮刚专用集成电路与系统国家重点实验室复旦大学电子工程系

比较了增强型埋沟ｐＭＯＳＦＥＴ和增强型表面沟道ｐＭＯＳＦＥＴ的导通机理，提出了一种处理沟道反型注入非均匀掺杂浓度的方法，推导了增强型埋沟ｐＭＯＳＦＥＴ阈值电压的计算公式，比较了增强型埋沟ｐＭＯＳＦＥＴ阈值电压的计算值... 详细信息

比较了增强型埋沟ｐＭＯＳＦＥＴ和增强型表面沟道ｐＭＯＳＦＥＴ的导通机理，提出了一种处理沟道反型注入非均匀掺杂浓度的方法，推导了增强型埋沟ｐＭＯＳＦＥＴ阈值电压的计算公式，比较了增强型埋沟ｐＭＯＳＦＥＴ阈值电压的计算值和测量值，计算值和测量值的相对偏差＜１０％，表明文中提出的有关方法和模型是有一定精度的。计算结果也表明掺杂浓度和结深是影响阈值电压的两个主要参数。

关键词：埋沟金属氧化物硅场效应晶体管阈值电压器件建模

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