检索结果-内蒙古大学图书馆

物理 1994年第10期23卷 582-584页

作者：蒋平梁励芬董树忠复旦大学李政道物理学综合实验室应用表面物理国家重点实验室

介绍了一项扫描隧道显微术的最新成就。用扫描隧道显微镜操纵吸附在Ｃｕ（１１１）表面的铁原子，形成由４８个铁原子组成的空心围栏，这一量子围栏能将所包围的表面态电子禁锢在其内部，从而可以用ＳＴＭ与ＳＴＳ同时研究禁锢电子的状... 详细信息

介绍了一项扫描隧道显微术的最新成就。用扫描隧道显微镜操纵吸附在Ｃｕ（１１１）表面的铁原子，形成由４８个铁原子组成的空心围栏，这一量子围栏能将所包围的表面态电子禁锢在其内部，从而可以用ＳＴＭ与ＳＴＳ同时研究禁锢电子的状态密度对空间和能量的分布．预期这一成果将在许多方面促进今后研究工作的发展。

关键词：量子围栏表面态扫描隧道显微

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表面结构研究的新进展──第四届国际表面结构会议介绍

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物理 1994年第3期23卷 164-166页

作者：蒋平复旦大学李政道物理学综合实验室复旦大学应用表面物理国家重点实验室

表面结构研究的新进展──第四届国际表面结构会议介绍蒋平（复旦大学李政道物理学综合实验室，复旦大学应用表面物理国家重点实验室，上海２００４３３）第四届国际表面结构会议（ＩＣＳＯＳ－ＩＶ）于１９９３年８月１６日至８月１９... 详细信息

表面结构研究的新进展──第四届国际表面结构会议介绍蒋平（复旦大学李政道物理学综合实验室，复旦大学应用表面物理国家重点实验室，上海２００４３３）第四届国际表面结构会议（ＩＣＳＯＳ－ＩＶ）于１９９３年８月１６日至８月１９日在上海举行。来自１３个国家和地区...

关键词：表面结构吸附半导体材料金属

来源：评论

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发光多孔硅荧光峰位的钉扎和尺寸量子化

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物理 1994年第12期23卷 761-762页

作者：俞鸣人王迅复旦大学应用表面物理国家重点实验室复旦大学李政道物理综合实验室

发光多孔硅荧光峰位的钉扎和尺寸量子化自从Ｃａｎｈａｍ［１］在１９９０年发现多孔硅（ＰＳ）在窒温下高效率的可见光发射以来，由于其在光电技术上的应用前景，加上它和硅大规模集成工艺的可容性，很快就引起人们的极大关注。因此，... 详细信息

发光多孔硅荧光峰位的钉扎和尺寸量子化自从Ｃａｎｈａｍ［１］在１９９０年发现多孔硅（ＰＳ）在窒温下高效率的可见光发射以来，由于其在光电技术上的应用前景，加上它和硅大规模集成工艺的可容性，很快就引起人们的极大关注。因此，之后不久各国有好多研究组都重复了这...

关键词：多孔硅荧光峰位钉扎尺寸量子化

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GaAs表面钝化的新方法：S_2Cl_2处理

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Journal of Semiconductors 1994年第7期15卷 505-510页

作者：李喆深蔡卫中苏润洲侯晓远董国胜金晓峰丁训民王迅复旦大学应用表面物理国家重点实验室复旦大学李政道物理综合实验室东北林业大学物理系

本文用光致发光谱（ＰＬ）结合俄欧电子能谱（ＡＥＳ）和Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ），首次研究了Ｓ２Ｃｌ２钝化的ＧａＡｓ（１００）表面．结果表明，ＰＬ强度较钝化前样品提高了将近两个数量级．钝化后的表面ＡＥＳ谱显示含有Ｓ，Ｇ... 详细信息

本文用光致发光谱（ＰＬ）结合俄欧电子能谱（ＡＥＳ）和Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ），首次研究了Ｓ２Ｃｌ２钝化的ＧａＡｓ（１００）表面．结果表明，ＰＬ强度较钝化前样品提高了将近两个数量级．钝化后的表面ＡＥＳ谱显示含有Ｓ，Ｇａ，ＡＳ，Ｃ和少量Ｃｌ原子而不含Ｏ原子．ＸＰＳ谱说明Ｓ原子和Ｇａ、Ａｓ原子都成键．与（ＮＨ４）２Ｓ处理的比较结果显示，几秒钟的．Ｓ２Ｃｌ２处理即可达到或超过几十分钟（ＮＨ４）２Ｓ处理的钝化效果．

关键词：砷化镓钝化氯化硫处理

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快速退火后重掺硼的分子束外延层的电学特性

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物理学报 1994年第7期43卷 1137-1143页

作者：袁健陆昉孙恒慧卫星杨敏黄大鸣徐宏来沈鸿烈邹世昌复旦大学李政道物理学综合实验室和物理系复旦大学应用表面物理国家重点实验室中国科学院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室

对快速退火后用共蒸发Ｂ＿２Ｏ＿３方法实现重掺杂硼的硅分子束外延层的电学特性进行了研究．１１００℃退火可以使得外延层中载流子浓度提高４倍，空穴的霍耳迁移率与相同浓度下硅体材料的水平相当；外延层与衬底之间载流子浓度转变陡... 详细信息

对快速退火后用共蒸发Ｂ＿２Ｏ＿３方法实现重掺杂硼的硅分子束外延层的电学特性进行了研究．１１００℃退火可以使得外延层中载流子浓度提高４倍，空穴的霍耳迁移率与相同浓度下硅体材料的水平相当；外延层与衬底之间载流子浓度转变陡峭，获得了晶体质量良好的外延层．

关键词：分子束外延快速退火电学性质

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表面结构的最新进展——第四届国际表面结构会议简介

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中国科学基金 1994年第1期 34-37页

作者：蒋平复旦大学李政道物理学综合实验室复旦大学应用表面物理国家重点实验室

第四届国际表面结构会议(ICSOS-Ⅳ)最近在上海举行。与会代表交流了表面和界面结构研究方面的最新成果。本文除介绍了会议概况外,着重介绍在会上引起普遍关注的热点内容。

关键词：表面结构会议金属表面最新进展

来源：评论

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