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'99全国单片机学术交流会

作者：朱海东周磊陈忠明复旦大学电子工程系

该文介绍了一种利用增量PID控制原理的数字冰箱控制系统。该系统使用Motorola Mc68Hc908JL3单片机为核心，用增量PID控制原理，设计了一种最佳制冷方案，控制半导体制冷。测度表明，该系统控温精度高，制冷效率高，功耗低。

关键词：数字冰箱半导体制冷自动控制

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磁控溅射氧化铟锡(IT0)透明导电玻生产

磁控溅射氧化铟锡(IT0)透明导电玻生产

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透明导电玻璃是一种高科技的特种玻璃，是电子工业的基础材料。它广泛应用于液晶显示器件(LED)、场致发光屏(ELP)、等离子显示屏(PDP)和真空荧光显示器件(VFD)等平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。例如液... 详细信息

标准号: 0600140011

透明导电玻璃是一种高科技的特种玻璃，是电子工业的基础材料。它广泛应用于液晶显示器件(LED)、场致发光屏(ELP)、等离子显示屏(PDP)和真空荧光显示器件(VFD)等平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。例如液晶显示件(LcD)，它是目前国际上最受重视的显示器件，由于它重量轻、厚度薄、电压低、功耗小，因此在计算机、通讯、家电、仪器仪表、军工、轻工、医疗等国民经济的各个部门得到广泛的应用，由过去的电子表、计算器发展到目前的便携电脑(笔记本式、膝上式、掌上式)、电子辞典、电子笔记本、可视电话、BP机、手持游戏机、电子打字机、电子地图、掌上电视机、壁挂式彩电以及便携式医用仪器与各种电子仪表等等，是目前电子工业中发展最为迅速的一个产品。透明导电玻璃的市场：以下是透明导电玻璃生产工艺流程示意图：玻璃基片→清洗→清洗质量验收→装片→抽真空，加热→镀SiO<,2>膜→镀目前国际上最先进的制造工艺流程为：射频溅射制各SiO<,2>薄膜加上直流溅射ITO靶制备ITO膜。该项目将采用的是这种工艺流程。它的优点是：导电玻璃产品电性能优异，采用白片玻璃连镀SiO<,2>和ITO两层膜。以下是透明导电玻璃生产工艺流程示意图：玻璃基片→清洗→清洗质量验收→装片→抽真空，加热→镀SiO<,2>膜→镀ITO膜→冷却出片→卸片→表面质量检验→抽检，性能测试→包装，入库。几家主要厂家的情况介绍：据知，国内采用以上工艺的有：深圳莱宝公司和广州三盛公司(均引进德国设备与技术)；深圳伟光公司(引进日本设备与技术)；江苏金坛康达克薄膜中心(国产线)；国内深圳南亚公司，采用另一种国产设备，可以用ITO靶制备ITO透明导电玻璃产品性能良好，但是不能制备第一道SiO<,2>薄膜，所以一定只能进口的已经镀过SiO<,2>薄膜的半成品玻璃生产国内烟台多纳勒公司和蚌埠华益公司采用铟锡合金制备ITO膜，属七、八十年代工艺，只能满足低档扭曲向列液晶显示(TN-LcD)的要求，30nm厚导电薄膜的方块电阻在150欧母水平，产品性能较差。而且两家公司都没有镀SiO<,2>工艺，所以一定要进口已镀过SiO<,2>膜的半成品玻璃。投资规模预计：(1)主生产线850万元人民币，年生产能力为240万片，关键的部件从美国和日本进口。费用是相同生产能力和相同技术指标的进口生产线的1/8倍。(2)去离子水生产设备和玻璃清洗设备120万元人民币。(3)车间空气净化系统约100万元人民币。(4)需1000平方米车间，生产车间500～800平米，其中净化车间300平米；管理和生产辅助用房400～500平米(5)用电：3相380V，500kVA变压器1台。简单的技术经济分析：目前，对于方块电阻为100Ω左右的透明导电玻璃，每一片的销售价为2美元，其直接成本为10元人民币(包括人员工资、材料消耗、设备折旧、水电消耗)。以年产240万片计，年产值约为3840万元人民币，利税1440万元人民币。原材料的供应：所用的主要原材料为：原片玻璃和氧化铟锡(ITO)溅射靶目前，韩国、日本、美国、瑞典、比利时、瑞典等国在国内均设有办事处，供货非常及时；ITO靶材目前基本上有德国的Leybond公司和日本真空供应，分别在上海、广州、北京即可提货。生产组织与人员培训：A生产经营管理机构的设置：(1)镀膜车间：制水、清洗、镀膜、测试、成品包装等；(2)生产技术部：生产调度、设备修理、配电房、质量管理、检验、产品开发等等；(3)经营部：原材料供应、产品销售、原料库、成品库、财务等；(4)办公室：人事、保卫、卫生、文秘等。B劳动定员：按三班制生产，全部定员约44人。包括：(1)工人30名镀膜车间：20名；二部一室：10名。(2)技术人员(理工科大专以上)约8名，其中：化学1名、电子1名、电气1名、机械1名、生技部经理1名、经营部经理2名、生产线班长3名。(3)职员6名：公司负责人、财务、销售、供应、文秘、人保等。c人员培训：人员培训由清华大学负责。技术人员在清华大学短期集训。操作工人的培训在生产现场结合设备安装、调试与试生产进行。技术支持：该投资项目的技术依托单位为清华大学机械工程系，技术负责人庄大明副教授。该投资项目中的核心技术是ITO薄膜的磁控溅射工艺和SiO<,2>薄膜的射频溅射或高频交流溅射技术，以及生产线的配置。庄大明副教授所领导的课题组经过几年的系统研究已完全掌握了ITO薄膜磁控溅射和SiO<,2>薄膜的射频溅射或高频交流溅射技术的全套技术和工艺，并具有组建生产线的丰富经验。使用透明导电玻璃的厂家的情况：液晶显示器生产厂家(不完全)：(1)深圳天马微电子公司；(2)思特达；(3)大连东方显示器材有限公司；(4)青岛东方液晶显示器件有限公司；(5)吉林微晶电子有限公司；(6)汕头超声显示器有限公司；(7

关键词：磁控溅射氧化铟锡透明导电玻璃生产工艺特种玻璃

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植物净化空气中汞污染的研究

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中国环境卫生 2000年第3期3卷 57-60页

作者：蒋蓉芳周德灏等复旦大学公共卫生学院

对上海市常见易生长的22种植物进行了现场采样测试，结果发现，瓜子黄杨、广玉兰、海桐、蚊母、墨西哥落叶杉及棕榈对汞蒸气具有很强的吸收富集能力及抗毒性能。然后采用富集能力最强的瓜子黄杨进行一系列试验，结果显示，汞浓度随接触... 详细信息

对上海市常见易生长的22种植物进行了现场采样测试，结果发现，瓜子黄杨、广玉兰、海桐、蚊母、墨西哥落叶杉及棕榈对汞蒸气具有很强的吸收富集能力及抗毒性能。然后采用富集能力最强的瓜子黄杨进行一系列试验，结果显示，汞浓度随接触瓜子黄杨时间的延长而降低，而瓜子黄杨叶片的汞含量随时间的延长而增加。根据吸汞实验，计算得瓜子黄杨叶面积的吸气速率为0．133m^3/h/m^2。

关键词：植物瓜子黄杨汞浓度净化大气污染污染治理

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首届亚洲化学气相淀积会议简介

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国际学术动态 2000年第1期 39-40页

1999年亚洲地区化学气相淀积国际学术会议(1999 Asian conference on chemical Va-por Deposition,简称1999亚洲cVD会议或Asian cVD 99)成功地于1999年5月10～13日在上海举办。来自全世界不同国家和地区的81位代表在良好的学术气氛中进... 详细信息

1999年亚洲地区化学气相淀积国际学术会议(1999 Asian conference on chemical Va-por Deposition,简称1999亚洲cVD会议或Asian cVD 99)成功地于1999年5月10～13日在上海举办。来自全世界不同国家和地区的81位代表在良好的学术气氛中进行了交流,并且促进了国际合作,同时扩大了我国在国际学术界的影响。

关键词：亚洲化学气相沉积学术会议 cVD 气相化学反应

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遥感图像中机场目标的图像分割方法

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红外与毫米波学报 1999年第1期18卷 73-76页

作者：刘文萍陈维军吴立德复旦大学计算机系

基于遥感图像摄取过程中的特点，在模糊特征域上进行图像增强，然后引用反变换灰度图像中的熵信息进行阈值分割，最后给出了与其它两种熵阈值分割方法的比较实验．定性和定量分析结果证实了该方法在分割精度和运算速度方面所具有的优势．

关键词：遥感图像图像分割模糊集图像增强机场目标

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受阻塞下呼吸道重开的生物流体力学研究

受阻塞下呼吸道重开的生物流体力学研究

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第六届全国生物力学学术会议

作者：许世雄 Y.T.chew H.T.Low 计琳复旦大学力学与工程科学系新加坡国立大学机械与制造工程系

呼吸道阻塞在健康者及肺疾病患者中时有发生,受阻塞下呼吸道重开机理十分复杂,本研究从实验和理论分析两个方面讨论这一问题.

关键词：呼吸道重开生物流体力学肺疾病

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SiH4在cu(111)的X射线吸收近边精细结构研究

SiH4在Cu(111)的X射线吸收近边精细结构研究

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华东三省一市第三届真空学术交流会

作者：何江平唐景昌浙江杭州浙江大学物理系硅材料国家重点实验室

运用Si的Is NEXAFS实验谱对SiH在cu(Ⅲ)面的低温吸附及分解进行了系统的理论研究。通过MSc(多重散射团簇)理论计算分析表明,在11OK时,SiH己经开始在cu表面分解为SiH,分解产物吸附在cu(Ⅲ)面的fcc三度空位上。

关键词： SiH4 X射线低温吸附分解产物精细结构

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用STM研究薄膜表面的分形特征

用STM研究薄膜表面的分形特征

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华东三省一市第三届真空学术交流会

作者：汤晓明毛祖遂魏赛珍汲伟明陈晓锋郑永铭浙江大学物理系浙江大学物理系浙江大学物理系浙江大学物理系中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理实验室中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理实验室

本文在计算机上用随机数相加的方法产生了一个分形表面,对这个表面的模拟测量表明,Z方向分辨率变化对分形维数测量结果影响很小,X、Y方向分辨率降低时会导致测量结果统计误差增大。用扫描隧道显微镜(STM)测量了沉积在三种不同基底上的A... 详细信息

本文在计算机上用随机数相加的方法产生了一个分形表面,对这个表面的模拟测量表明,Z方向分辨率变化对分形维数测量结果影响很小,X、Y方向分辨率降低时会导致测量结果统计误差增大。用扫描隧道显微镜(STM)测量了沉积在三种不同基底上的Au膜的分形维数。测得Au/陶瓷的分形维数D=2.15。Au/光学玻璃的分形维数D=2.06。Au/载玻片上各点的分形维数较不一致。同时讨论了多图方法中各单图曲线之间不衔接的原因。

关键词：分形维数薄膜表面 STM 计算机模拟分辨率

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131I标记人源抗HBsAg Fab对荷人肝癌裸鼠的放射免疫治疗

131I标记人源抗HBsAg Fab对荷人肝癌裸鼠的放射免疫治疗

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中国抗癌协会临床肿瘤学协作中心第五届学术年会

作者：罗荣城吴桂臣韩焕兴尤长宣丁雪梅第一军医大学南方医院肿瘤科广州510515

放射免疫治疗(RIT)是原发性肝癌的一种有效的治疗手段.但目前临床上所采用的载体通常都是鼠源的单克隆抗体，存在着低穿透力及强免疫源性等问题而影响疗效.采用噬菌体抗体库技术可通过原核细胞表达出完全人源化的单抗，此类单抗具有较... 详细信息

放射免疫治疗(RIT)是原发性肝癌的一种有效的治疗手段.但目前临床上所采用的载体通常都是鼠源的单克隆抗体，存在着低穿透力及强免疫源性等问题而影响疗效.采用噬菌体抗体库技术可通过原核细胞表达出完全人源化的单抗，此类单抗具有较强的穿透力且无免疫源性，有望成为RIT的理想载体. 目的：本实验在已成功制备人源抗HBsAg Fab的基础上，以131I标记人源抗HBsAg Fab经腹腔注射治疗荷人肝HBsAg+癌裸鼠移植瘤，同时与131I标记鼠源性抗HBsAg完整抗体S102比较，评价人源抗HBsAg Fab作为原发性肝癌放射免疫治疗载体的可能性. 方法:应用噬菌体抗体库技术制备人源抗HBsAg-Fab，应用自制的羊抗人免疫球蛋白片段抗体(anti-Fab)与GamaBind Plus Sepharose 交联制备的亲和层析柱纯化表达上清，获得高纯度的该人源单抗片段，经流式细胞仪检测证实纯化产物保持较好的生物活性.采用能够在细胞膜和细胞质特异表达HBsAg的人肝癌细胞系HepG2.2.15作传代培养，建立荷人HBsAg+的肝癌裸鼠模型.用Iodogen法131I分别标记所制备的人源抗HBsAg Fab，鼠源抗HBsAg抗体S102及无关抗体Fab，采用腹腔注射不同放射剂量的各标记单抗，按一定时间间隔作组织分布和血液清除速率测定，继续观察4周，计算各组肿瘤生长抑制率评价疗效，并以外周血白细胞和血小板数量变化评价毒性. 结果:纯化后的人源抗HBsAg-Fab经流式细胞仪检测，人源抗HBsAg-Fab组在荧光波长范围内有荧光染色细胞的吸收峰，阳性细胞数为68％，而阴性对照无吸收峰.说明所制备的人源抗HBsAg-Fab具有较好的结合细胞表面HBsAg的活性.131I标记人源抗HBsAg-Fab的细胞结合率为61％，而131I-S102的细胞结合率为69％.131I标记人源抗HBsAg-Fab注射后24h肿瘤摄入核素即达高峰，131I-人源抗HBsAg Fab被肿瘤区的摄取和血液中清除速率均明显快于131I-S102，131I-人源抗HBsAg Fab注射后24h肿瘤摄入核素即达高峰，每克瘤组织对标记抗体的摄取占注入剂量的12.13％，131I-S102在注射后72h摄取量达高峰，为9.21％ID/g.在同等剂量下131I-人源抗HBsAg Fab的抗肿瘤疗效略低，约与1/2剂量的131I-S102相当，但131I标记人源抗HBsAg-Fab组引起的血细胞下降程度明显较轻，约与1/8剂量的131I-S102组相当，血小板的变化情况与血WBc相似. 讨论:本研究采用噬菌体抗体库技术制备的人源抗HBsAg Fab为完全人源化的单抗，且具有良好免疫活性，131I标记的该抗体能被肿瘤组织快速摄取在体内正常组织中快速清除，这与该单抗仅为Fab片段，分子量较小，渗透力有关，研究结果显示131I标记的该抗体具有良好的抗肿瘤活性，且毒副作用小，是原发性肝癌放射免疫治疗的理想载体.

关键词：放射免疫治疗肿瘤治疗肝肿瘤原发性肝癌 HBsAg-Fab抗体人源抗体

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平行管道顶进施工的相互影响与设计方法和施工工艺的优化研究

平行管道顶进施工的相互影响与设计方法和施工工艺的优化研究

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作者：徐迎伍同济大学地下建筑与工程系

学位级别：博士

本文以上海市合流污水二期吴泾闵行地区过江倒虹管工程为背景，对近间距\n平行管道顶进施工的数值模拟建立和完善了分析理论与计算方法，内容包括对弹\n塑性问题的有限元分析的表述引入统一屈服函数及其相应的流动法则，对施工因\n素影...

本文以上海市合流污水二期吴泾闵行地区过江倒虹管工程为背景，对近间距\n平行管道顶进施工的数值模拟建立和完善了分析理论与计算方法，内容包括对弹\n塑性问题的有限元分析的表述引入统一屈服函数及其相应的流动法则，对施工因\n素影响的考虑提出计算方法，对施工监测方案的制定提出优化方案，通过对监测\n数据的整理提出优化工艺的要点，以及结合离心模型实验的结果论证设计假设\n等，工作量大，成果多，并有较大的理论意义和应用价值。\n 文中对施工因素影响的数值模拟建立的计算方法主要包括：借助接触面单元\n施加和计算注浆压力的影响；通过引入参数GAP值模拟超挖现象的影响，方法\n为将释放荷载分两次施加，第一次施加释放荷载时不设粱单元，同时通过调整释\n放荷载系数，使由其产生的洞周土体的径向变形与事先设定的参数GAP值相同；\n借助接触面单元施加欠挖力模拟欠挖现象的影响；通过确定和施加纠偏力模拟纠\n偏作业的影响。\n 论文对顶管工程施工的安全性监测提出了一整套行之有效的方法，主要包\n括：在项进管道的前端设置接触压力监测断面，用以判断注浆作业的质量；在相\n邻管道上设置接触压力和(或)内力监测断面，以检验管道顶进施工对其产生的\n影响；对近间距平行管道通过量测相邻管道管段接缝的张开量判断管道顶进作业\n的合理性等。\n 通过对监测数据的整理和分析，对施工因素的影响程度进行了提炼，并对顶\n进工艺的优化得出了以下几点规律性认识：\n (1)注浆工艺的合理性对管道顶进施工的顺利实施有重要的意义，并就注\n浆工艺的改进提出了以下要点：及时补充压浆，力求使地层与管道结构间的缝隙\n始终由浆液密实充填；及时调整注浆压力，力求使其与管段所在位置的水土压力\n值相等；注浆孔在管段横剖面上均匀布设，以使注浆压力沿管道周边均匀分布；\n对位于顶进管道前端的数节管段，宜每节都设注浆孔，使可及时注浆和补浆。\n (2)超、欠挖现象均可使邻近管道的环向弯矩增大，并使之发生相对移动，\n从而不利于管道顶进施工的安全性，因而顶进施工中应注意避免发生超、欠挖现\n象。 \n (3)管段顶进速度对相邻管道接缝宽度的变化量有较大的影响。过快时，\n接缝宽度波动幅度将明显增大；过慢时，顶进阻力将因触变泥浆趋向处于凝胶状\n态而加大，使接缝宽度也将增大。\n (4)工具管纠偏对管道结构将产生附加内力,不利于管道顶进施工的安全\n性，工程施工中应尽可能小幅度作业，避免一次调整幅度过大。\n 论文并通过对施工监测数据和离心机模型试验结果的分析，对近间距平行管\n道结构的设计就荷载的合理确定进行了论证分析，指出在饱和软粘土地层中，深\n埋近间距平行管道上方不能形成稳定的卸载拱，顶部土压力值将近于与管顶上覆\n土层的重量相当，侧压力系数值则将接近于1，十分有利于圆形管道结构的均匀\n受力和使用的安全性。\n 顶管技术是施作地下管道的一类重要施工方法，迄今国内外学者已对这类技\n术进行过相当多的研究，并已取得系列成果和大大推动了这一领域的技术进步，\n然而近间距顶进钢筋混凝土平行管道国内尚无先例，本文研究取得的成果将不仅\n有理论意义，而且有推广应用前景。\n关键词：顶管技术近间距平行管道弹塑性有限元注浆压力超欠挖\n纠偏作业顶进工艺

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