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语言

  • 357 篇 中文
检索条件"机构=宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安电子科技大学微电子学院"
357 条 记 录,以下是91-100 订阅
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单轴应力锗能带结构研究
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中国科学:物理学、力学、天文学 2012年 第1期42卷 15-21页
作者: 马建立 张鹤鸣 宋建军 魏群 王晓艳 王冠宇 徐小波 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
用形变势理论讨论了单轴和及张/压应力对锗导带各能谷(?能谷、?能谷及L能谷)能级的影响,采用包含自旋-轨道互作用及应力在内的六带k.p微扰法建立了单轴张/压应力作用下锗的价带结构模型,分析了锗价带带边能级随应力的变化情况,获得了锗... 详细信息
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一种CMOS卫星导航接收机多模低噪声放大器设计
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电路与系统学报 2012年 第5期17卷 42-47页
作者: 李兵 庄奕琪 龙强 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 陕西西安710071
本文介绍了一种用于卫星导航接收机中的多模低噪声放大器模块的设计。采用主流CMOS工艺,对源极负反馈的共源共栅放大器的放大管栅源两极间增加可调电容、调整偏置电压、共用片外匹配以及调整输出电感的方法,实现多个频点的噪声和功率匹... 详细信息
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新型RESURF AlGaN/GaN HEMTs器件耐压分析
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中国科学:信息科学 2012年 第6期42卷 770-777页
作者: 段宝兴 杨银堂 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
本文首先从器件有源区耗尽过程分析表明AlGaN/GaN HEMTs器件具有与传统Si功率器件不同的耗尽过程,针对AlGaN/GaN HEMTs器件特殊的耐压机理,提出了一种降低表面电场,提高击穿电压的新型RESURF AlGaN/GaN HEMTs结构.新结构通过在极化的Al... 详细信息
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一种3.1-10.6GHz超带低噪声放大器设计
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微波学报 2012年 第1期28卷 49-52,61页
作者: 张滨 杨银堂 李跃进 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
设计了一种基于TSMC 0.13μm CMOS工艺,用于3.1~10.6GHz带的CMOS低噪声放大器。输入级采用共栅极结构,在频带内能较好地完成输入匹配。放大级采用共源共栅结构,为整个电路提供合适的增益。输出则采用源极输出器来进行输出匹配。使... 详细信息
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SiGe HBT超带低噪声放大器设计
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微波学报 2012年 第4期28卷 76-80页
作者: 张滨 杨银堂 李跃进 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
采用ADS软件设计并仿真了一种应用于UWB标准的低噪声放大器。该低噪声放大器基于JAZZ 0.35μmSiGe工艺,工作带为3.1~10.6GHz。电路的输入极采用共发射极结构,利用反馈电感来进行输入匹配,第二级采用达林顿结构对信号提供合适的增益... 详细信息
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高k栅栈MOSFET共振隧穿模型
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中国科学:物理学、力学、天文学 2012年 第10期42卷 1040-1047页
作者: 刘宇安 庄奕琪 杜磊 李聪 陈华 曲成立 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安710071 西安电子科技大学技术物理学院 西安710071
针对高介电常数(k)栅堆栈金属氧化物场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)实际结构,建立了入射电子与界面缺陷共振高k栅栈结构共振隧穿模型.通过薛定谔方程和泊松方程求SiO2和高k界面束缚态波函数,... 详细信息
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新型Si_3N_4层分固定正电荷AlGaN/GaNHEMTs器件耐压分析
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物理学报 2012年 第24期61卷 464-469页
作者: 段宝兴 杨银堂 Kevin J.Chen 西安电子科技大学 微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071 Department of Electronic and Computer Engineering Hong Kong University of Science and TechnologyClear Water BayHong KongChina
为了优化传统AlGaN/GaN high electron mobility transistors结构表面电场分布,提高器件击穿电压和可靠性,本文利用不影响AlGaN/GaN异质结极化效应的Si3N4钝化层电荷分布,提出了一种Si3N4钝化层分固定正电荷AlGaN/GaN high electron m... 详细信息
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反位缺陷对碳化硅纳米管电子结构和光学性质影响研究
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物理学报 2012年 第23期61卷 446-451页
作者: 宋久旭 杨银堂 郭立新 王平 张志勇 西安电子科技大学理学院 西安710071 西安石油大学电子工程学院 西安710065 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室 西安电子科技大学微电子学院西安710071 西北大学信息科学与技术学院 西安710127
采用基于密度泛函理论的第一性原理计算对含有反位缺陷(5,5)单壁碳化硅纳米管的电子结构和光学性质进行了研究.纳米管进行结构优化的结果显示,C_(Si)缺陷在纳米管表面形成了凹陷,Si_C缺陷形成了凸起;反位缺陷在纳米管的导带底附近形成... 详细信息
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(001)面任意方向单轴应变硅材料能带结构
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物理学报 2011年 第2期60卷 552-557页
作者: 马建立 张鹤鸣 宋建军 王冠宇 王晓艳 西安电子科技大学微电子学院 宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室西安710071
首先计算了(001)晶面单轴应变张量,在此基础上采用结合形变势理论的K·P微扰法建立了在(001)晶面内受任意方向的单轴压/张应力作用时,应变硅材料的能带结构与应力(类型、大小)及晶向的关系模型,进而分析了不同单轴应力(类型、大小)... 详细信息
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应变Si全耗尽SOI MOSFET二维亚阈电流模型
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物理学报 2011年 第5期60卷 784-788页
作者: 秦珊珊 张鹤鸣 胡辉勇 屈江涛 王冠宇 肖庆 舒钰 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
本文通过求解二维泊松方程,为应变Si全耗SOI MOSFET建立了全耗尽条件下表面势模型,利用传统的漂移-扩散理论.在表面势模型的基础上,得到了应变Si全耗SOI MOSFET的亚阈电流模型,并通过与二维器件数值模拟工具ISE的结果做比较,证明了所建... 详细信息
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