检索结果-内蒙古大学图书馆

表面技术 2018年第9期47卷 199-205页

作者：刘恋石倩代明江匡同春林松盛郭朝乾李洪苏一凡华南理工大学材料科学与工程学院广州510641 广东省新材料研究所广州510650 现代材料表面工程技术国家工程实验室广州510650 广东省现代表面工程技术重点实验室广州510650

目的改善TiCN薄膜的组织结构,进一步提高其硬度与结合力。方法采用电弧离子镀技术,通过改变脉冲偏压的幅值,制备一系列的TiCN薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面和截面形貌,采用X射线衍射(XRD)对薄膜进行物相分析,用X射线光... 详细信息

目的改善TiCN薄膜的组织结构,进一步提高其硬度与结合力。方法采用电弧离子镀技术,通过改变脉冲偏压的幅值,制备一系列的TiCN薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面和截面形貌,采用X射线衍射(XRD)对薄膜进行物相分析,用X射线光电子谱(XPS)表征元素的化学状态,通过能谱仪(EDS)分析薄膜的成分。采用显微维氏硬度计测量薄膜硬度,使用3D轮廓仪测量薄膜厚度,利用多功能材料表面性能试验仪进行划痕测试。结果偏压对薄膜的硬度、结合力、组织结构和沉积速度都有影响。随着脉冲偏压的提高,TiCN薄膜晶粒逐渐细化,沉积速率、结合力有先增大后减小的趋势,TiCN薄膜的硬度保持线性提高。偏压为-200 V时,TiCN薄膜出现C_3N_4新相,此时薄膜的硬度和结合力都大幅度提高,表面形貌发生突变,液滴最多。偏压为-250 V时,TiCN薄膜综合性能最好,并且表面的液滴明显减少,此时硬度值为4017HV,结合力为51 N。结论偏压对组织结构及碳元素在薄膜中的存在形式有一定影响,适当地改变脉冲偏压可以使TiCN薄膜的显微组织更加致密,同时,形成的弥散硬化相使薄膜具备较高的硬度和膜基结合强度。

关键词： TiCN薄膜电弧离子镀脉冲偏压 C3N4 硬度结合强度

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绕线片式电感表面金属化研究进展

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材料研究与应用 2019年第1期13卷 71-74页

作者：李洪林松盛石倩韦春贝崔骏蔡畅黄裕坤广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510650 中山国磁真空技术有限公司广东中山528445

随着信息通信技术快速发展,绕线片式电感在3C电子行业、智能装备、航空航天、汽车能源等领域的市场需求量迅速增长,同时朝着小型化方向发展.金属化作为绕线片式电感制造过程中关键工序,其质量直接影响到电感的性能.本文针对绕线片式电... 详细信息

随着信息通信技术快速发展,绕线片式电感在3C电子行业、智能装备、航空航天、汽车能源等领域的市场需求量迅速增长,同时朝着小型化方向发展.金属化作为绕线片式电感制造过程中关键工序,其质量直接影响到电感的性能.本文针对绕线片式电感表面金属化这一关键工艺过程,介绍了国内外的相关研究进展,为绕线片式电感持续发展提供一定的信息支撑.

关键词：绕线片式电感金属化薄膜

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小型绕线功率电感磁芯材料及其表面金属化工艺研究现状

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材料研究与应用 2019年第2期13卷 160-164页

作者：崔骏蔡畅黄裕坤李洪林松盛中山国磁真空技术有限公司广东中山528445 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510650

小型绕线功率电感的主要结构包括磁芯和线圈.目前市场上主要使用镍锌材料和合金材料作为磁芯的主要材料,合金材料作为近年新开发的材料,在各方面性能上有明显的优势.随着合金材料技术的逐渐完善,合金材料将逐渐取代镍锌材料.电极金属化... 详细信息

小型绕线功率电感的主要结构包括磁芯和线圈.目前市场上主要使用镍锌材料和合金材料作为磁芯的主要材料,合金材料作为近年新开发的材料,在各方面性能上有明显的优势.随着合金材料技术的逐渐完善,合金材料将逐渐取代镍锌材料.电极金属化是小型绕线功率电感制作工艺中的重要环节,本文介绍了目前市场上主流的两种电极金属化工艺,比较了其膜系结构以及工艺流程的差异,其中真空镀工艺比电镀工艺在薄膜综合性能及环保要求上具有一定的优势,是未来主流磁芯电极表面金属化工艺.

关键词：电感磁芯金属化

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镁合金表面离子辅助蒸镀铝膜的耐蚀性研究

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腐蚀科学与防护技术 2018年第1期30卷 67-73页

作者：廖富达侯惠君石倩胡芳林松盛裴和中张国亮昆明理工大学材料科学与工程学院昆明650093 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广州510650

采用离子辅助热蒸镀技术在AZ91D镁合金表面沉积了厚度为100μm的单层铝膜及厚度为(25+25)和(50+50)μm的双层铝膜,并对试样表面进行喷丸+化学转化后处理,研究了铝膜的结构和耐蚀防护性能。结果表明:不同工艺的镀铝试样表面铝膜形貌相似... 详细信息

采用离子辅助热蒸镀技术在AZ91D镁合金表面沉积了厚度为100μm的单层铝膜及厚度为(25+25)和(50+50)μm的双层铝膜,并对试样表面进行喷丸+化学转化后处理,研究了铝膜的结构和耐蚀防护性能。结果表明:不同工艺的镀铝试样表面铝膜形貌相似,晶粒清晰、细小,呈柱状紧密排列,存在少许孔缝;双铝膜层中有明显的界面,界面处致密且结合紧密。经后处理,膜层表面致密性提高,并生成一层耐蚀化学转化膜。采用双层工艺铝膜能大幅度提高基体的耐腐蚀性能,100μm单层膜镀铝试样的盐雾寿命为6 h,(25+25)和(50+50)μm双层膜镀铝试样的盐雾寿命分别为72和460 h。(25+25)和(50+50)μm的镀铝试样自腐蚀电流密度分别为3.86×10-6和4.3×10-7A/cm^2,比基体降低了2~3个数量级。

关键词：镁合金离子辅助蒸镀多层铝膜后处理耐蚀性

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TiAlSiN涂层高温摩擦磨损性能

TiAlSiN涂层高温摩擦磨损性能

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第三届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会

作者：宋智辉代明江李洪林松盛石倩洪悦苏一凡广东工业大学材料与能源学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

TiAlSiN涂层因其优异的抗氧化性与高硬度被应用于于刀具、模具等工件表面,涂层主要处于高温磨损与冷却液耦合作用,高、低温循环使用的服役环境,因此探究涂层在不同温度下的耐磨性能与磨损机理至关重要。本文采用电弧离子镀技术于M2高速... 详细信息

TiAlSiN涂层因其优异的抗氧化性与高硬度被应用于于刀具、模具等工件表面,涂层主要处于高温磨损与冷却液耦合作用,高、低温循环使用的服役环境,因此探究涂层在不同温度下的耐磨性能与磨损机理至关重要。本文采用电弧离子镀技术于M2高速钢表面沉积TiAlSiN涂层,使用摩擦磨损试验机研究涂层在常温、600℃、700℃、800℃下摩擦学性能,探究TiAlSiN涂层在高温磨损与高温氧化多重作用下表面变化。使用X射线衍射仪表征涂层磨损前后物相结构;划痕仪和硬度计测量涂层力学性能;3D表面轮廓仪测量表面轮廓与磨痕3D形貌;SEM扫描电镜观察磨痕微观形貌;EDS能谱检测磨痕各处元素分布。结果表明:TiAlSiN涂层在常温、600℃、700℃、800℃下与SiN的摩擦系数分别为0.81、0.7、0.62、0.5。磨损温度上升,TiAlSiN涂层氧化后生成的TiO、AlO等氧化物在磨损过程中起到润滑作用,涂层的摩擦系数降低,同时高温条件下TiAlSiN涂层发生软化,磨损时产生的硬质颗粒夹杂在涂层与摩擦球之间形成磨粒磨损、黏着磨损,高温氧化条件下涂层磨损率增大,出现低摩擦系数高磨损率现象。

关键词： TiAlSiN涂层结构氧化性耐摩性

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电弧离子镀的电磁参数对CrAlN涂层结构与性能的影响

电弧离子镀的电磁参数对CrAlN涂层结构与性能的影响

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第三届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会

作者：刘灵云林松盛王迪李风代明江石倩汪唯苏一凡广东工业大学材料与能源学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

电弧离子镀由于其显着的优点,如高离子化率,高入射粒子能量,良好的衍射和低沉积温度,已广泛应用于各种工业领域。当电弧等离子体从目标表面处的燃烧阴极点喷射时,称为宏观粒子的一些中性粒子簇产生极高能量密度的阴极点。这些中性粒子... 详细信息

电弧离子镀由于其显着的优点,如高离子化率,高入射粒子能量,良好的衍射和低沉积温度,已广泛应用于各种工业领域。当电弧等离子体从目标表面处的燃烧阴极点喷射时,称为宏观粒子的一些中性粒子簇产生极高能量密度的阴极点。这些中性粒子簇与等离子体一起喷射并向下飞到沉积的薄膜层。表面引起膜表面的污染,其存在严重影响沉积膜层的质量。为了提高涂层的表面质量,采用电磁及强永磁的共同作用降低颗粒的数量和大小,然而电磁电压对磁场的作用影响很大。所以应优化出最佳电磁电压获得表面质量好、综合性能佳的涂层。利用电弧离子镀在TC11钛合金沉积CrAlN涂层,电磁电压分别为OV,15V,25V,35V和45V。通过X射线衍射（XRD）,扫描电子显微镜（SEM）、能量色散X射线光谱（EDX）、纳米压痕仪和纳米划痕仪研究了电磁电压对涂层微观结构,元素含量和力学性能的影响。利用金相显微镜、球-盘摩擦磨损试验仪和3D表面形貌仪对不同电磁电压下制备的涂层表面的颗粒数量进行定量分析和研究涂层的摩擦磨损性能和抗冲蚀性能。结果表明:添加电磁电压可以显着减少涂层中的大颗粒数量,提高涂层的表面质量和耐磨性。改变电磁电压对涂层的微观结构没有显着影响,涂层沿（111）晶面优先生长。随着电磁电压从15V增加到45V,涂层沉积速率从0.81μm/h增加到1.195μm/h;涂层上的大颗粒数量,摩擦系数和磨损率先减小后增大,磨损机制为磨粒磨损。电磁电压为25V时涂层由于具有较少大颗粒的紧凑结构而显示出最佳性能,此时大颗粒占涂层的面积比例为6.22%,摩擦系数为0.45,磨损率为2.09×10mm/N·m。

关键词：电弧离子镀大颗粒电磁电压摩擦磨损

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GH3536高温合金表面等离子喷涂镍铝钨涂层的微观结构与性能

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电镀与涂饰 2018年第24期37卷 1123-1127页

作者：曾威杨焜陈龙飞广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510651

采用大气等离子喷涂在GH3536高温合金基体上制备了NiAlW涂层,对其显微结构、物相组成、孔隙率、结合强度、显微硬度和高温摩擦磨损行为进行了表征。结果表明,由于大气等离子喷涂NiAlW粉末颗粒熔化充分,因此涂层截面呈典型的层状结构且... 详细信息

采用大气等离子喷涂在GH3536高温合金基体上制备了NiAlW涂层,对其显微结构、物相组成、孔隙率、结合强度、显微硬度和高温摩擦磨损行为进行了表征。结果表明,由于大气等离子喷涂NiAlW粉末颗粒熔化充分,因此涂层截面呈典型的层状结构且较致密,与基体结合良好,在600°C下的耐磨性能明显优于基体。

关键词：高温合金镍铝钨合金涂层大气等离子喷涂显微结构形貌结合强度耐磨性

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响应曲面设计在碳化钨–钴–铬涂层褪除工艺优化中的应用

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电镀与涂饰 2018年第15期37卷 683-686页

作者：康忠明陈志坤广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510651

采用电化学法褪除45钢表面的WC–10Co–4Cr超音速喷涂层,通过回归分析和响应曲面分析对褪除工艺进行优化,得到最优工艺条件为:褪除粉(主要成分是柠檬酸钠和碳酸钠)0.25~0.30 kg/L,p H 11~12,室温,不锈钢为阴极,电流密度5 A/dm2,时间80~9... 详细信息

采用电化学法褪除45钢表面的WC–10Co–4Cr超音速喷涂层,通过回归分析和响应曲面分析对褪除工艺进行优化,得到最优工艺条件为:褪除粉(主要成分是柠檬酸钠和碳酸钠)0.25~0.30 kg/L,p H 11~12,室温,不锈钢为阴极,电流密度5 A/dm2,时间80~90 min。

关键词：碳化钨–钴–铬涂层超音速喷涂褪除响应曲面设计回归分析

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表面处理技术对钛合金疲劳性能影响的研究进展

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真空 2019年第6期56卷 36-42页

作者：王迪林松盛刘灵云杨洪志蒋百灵薛玉娜周克崧西安理工大学材料科学与工程学院陕西西安710048 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510651

针对钛合金表面硬度较低、耐磨性较差、易高温氧化等缺陷,选择适当的表面处理技术能够使其得以改善。由于钛合金对疲劳性能十分敏感,在表面处理过后,对其疲劳性能有较大影响。因而本文归纳了钛合金表面处理的多种方法,如电镀、化学镀、... 详细信息

针对钛合金表面硬度较低、耐磨性较差、易高温氧化等缺陷,选择适当的表面处理技术能够使其得以改善。由于钛合金对疲劳性能十分敏感,在表面处理过后,对其疲劳性能有较大影响。因而本文归纳了钛合金表面处理的多种方法,如电镀、化学镀、热喷涂、激光处理、阳极氧化、微弧氧化、物理气相沉积技术等。根据钛合金疲劳断裂现状及表面改性技术的特点,讨论了表面技术的应用、材料的选择和结构的设计对钛合金基体疲劳性能的影响。分析并总结了涂层在疲劳断裂过程起到的作用及影响疲劳性能的的主要原因,展望了未来钛合金表面改性方法、涂层材料及结构的研究趋势。以期为制备高强度、耐摩擦磨损和提升钛合金基体疲劳性能的表面改性涂层提供参考。

关键词：钛合金表面改性疲劳性能涂层结构

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掺钨类金刚石薄膜制备工艺参数的正交分析研究

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材料研究与应用 2019年第1期13卷 53-56页

作者：张程李福球谢思中林凯生朱晖朝张忠诚广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510650 湖南南方通用航空发动机有限公司湖南株洲412000

采用离子源技术制备掺钨类金刚石薄膜(W-DLC),为系统地探究各工艺参数对薄膜硬度的影响,设计了L9(34)正交试验方案,同时结合正交分析效应曲线分别研究了C2H2流量、离子源电流、基体负偏压、钨靶电流对薄膜硬度的影响.结果表明:基体负偏... 详细信息

采用离子源技术制备掺钨类金刚石薄膜(W-DLC),为系统地探究各工艺参数对薄膜硬度的影响,设计了L9(34)正交试验方案,同时结合正交分析效应曲线分别研究了C2H2流量、离子源电流、基体负偏压、钨靶电流对薄膜硬度的影响.结果表明:基体负偏压对薄膜硬度影响最大,其次为C2H2流量和离子源电流,钨靶电流的影响最小;薄膜硬度随C2H2流量的增大整体呈上升趋势,随离子源电流及偏压的增加而增加,随钨靶电流的增加而减小;工艺参数组合优选为C2H2流量100mL/min、离子源电流8A、负偏压100V、钨靶电流4A.该研究为后续进一步优化工艺,制备高性能类金刚石薄膜提供了重要的理论依据.

关键词：正交分析类金刚石薄膜硬度

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