检索结果-内蒙古大学图书馆

功能材料与器件学报 2006年第3期12卷 229-232页

作者：袁振宇徐东刘毓舒蔡炳初上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030 上海交通大学材料科学与工程学院上海200030

研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成了微驱动器,观察并分析了该器件的形变特性。结果表明:原位加热溅射可以获得具有织构的晶化薄膜;用该薄膜... 详细信息

研究了适用于微器件的溅射态N iTi形状记忆合金薄膜。讨论了溅射工艺及织构对薄膜结构和相变特征的影响。利用薄膜热相变特性制成了微驱动器,观察并分析了该器件的形变特性。结果表明:原位加热溅射可以获得具有织构的晶化薄膜;用该薄膜制备的驱动器回复率为0.76%。

关键词： NiTi薄膜形状记忆合金织构微驱动器

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制备态Fe_(21)Ni_(79)/Cu/Fe_(21)Ni_(79)三明治薄膜的纵向巨磁阻抗效应

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磁性材料及器件 2006年第2期37卷 14-17页

作者：商干兵周勇丁文余先育曹莹周志敏上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用直流电镀结合正胶光刻工艺制备了Fe21Ni79／Cu／Fe21Ni79三明冶薄膜，并在0．1-40MHz范围内研究了它的纵向巨磁阻抗效应特性。实验结果表明，Fe21Ni79／Cu／Fe21Ni79三明治薄膜有十分明显的纵向GMI效应，GMI先随外加磁场的增高而迅... 详细信息

采用直流电镀结合正胶光刻工艺制备了Fe21Ni79／Cu／Fe21Ni79三明冶薄膜，并在0．1-40MHz范围内研究了它的纵向巨磁阻抗效应特性。实验结果表明，Fe21Ni79／Cu／Fe21Ni79三明治薄膜有十分明显的纵向GMI效应，GMI先随外加磁场的增高而迅速增大，在Hext=0.96kA／m达到最大值后开始逐渐下降．在频率为1．2MHz，外加磁场为0．96kA／m时薄膜的纵向GMI最大值达到88．3％．

关键词： FeNi/Cu/FeNi三明治薄膜纵向巨磁阻抗效应各向异性场横向有效磁导率

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微拾振器压电悬臂梁结构的设计与测试

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微细加工技术 2006年第5期 55-58,64页

作者：方华斌董璐刘景全陈迪蔡炳初徐峥谊王莉上海交通大学微纳科学技术研究微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

提出了一种压电悬臂梁结构的微拾振器,利用有限元法计算了结构的固有频率和电压输出,以设计适合具体应用环境的器件结构。采用MEMS技术制备了器件原型并进行了试验测试。研究表明,所制备的器件在加速度为9.8 m/s2的低频谐振激励下电压... 详细信息

提出了一种压电悬臂梁结构的微拾振器,利用有限元法计算了结构的固有频率和电压输出,以设计适合具体应用环境的器件结构。采用MEMS技术制备了器件原型并进行了试验测试。研究表明,所制备的器件在加速度为9.8 m/s2的低频谐振激励下电压输出达200 mV以上。考虑到压电薄膜的制备和湿法刻蚀硅造成的不均匀性,可以认为,测试结果和模拟结果基本相符,为设计、制备高性能的器件打下了良好的基础。

关键词：微拾振器压电悬臂梁有限元模拟固有频率电压输出

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MEMS技术制作的螺线管微电感

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微细加工技术 2006年第5期 36-40页

作者：方东明周勇赵小林王西宁上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

考虑和分析了螺线管微电感的几何结构参数对微电感性能的影响,利用MEMS技术制作了四种不同几何结构的高性能射频螺线管微电感。这些微电感采用铜线圈,以减小线圈寄生电阻,且制作工艺简单,成本低,与IC相兼容。测试结果表明,微电感在较宽... 详细信息

考虑和分析了螺线管微电感的几何结构参数对微电感性能的影响,利用MEMS技术制作了四种不同几何结构的高性能射频螺线管微电感。这些微电感采用铜线圈,以减小线圈寄生电阻,且制作工艺简单,成本低,与IC相兼容。测试结果表明,微电感在较宽的工作频率范围内具有较高的Q值,在频率分别为6 GHz,4.4 GHz,5.8 GHz和5.6 GHz,微电感Q峰值为38,19.1,24.1和21.9,所对应的电感量为1.81 nH,1.07 nH,1.03 nH和1.17 nH。

关键词：螺线管电感微机电系统品质因素射频

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CoFeSiB/Cu/CoFeSiB多层膜的巨磁阻抗效应研究

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微纳电子技术 2006年第12期43卷 582-585页

作者：张桂林周勇周志敏上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

利用射频磁控溅射技术及微细加工技术制备了三明治结构的CoFeSiB/Cu/CoFeSiB多层膜,在频率l～40MHz下研究了多层膜的纵向和横向巨磁阻抗效应,结果表明曲折状三明治结构多层膜的巨磁阻抗效应比单层膜有较大的提高。在交流电流频率5MHz,... 详细信息

利用射频磁控溅射技术及微细加工技术制备了三明治结构的CoFeSiB/Cu/CoFeSiB多层膜,在频率l～40MHz下研究了多层膜的纵向和横向巨磁阻抗效应,结果表明曲折状三明治结构多层膜的巨磁阻抗效应比单层膜有较大的提高。在交流电流频率5MHz,外加直流磁场100Oe下巨磁阻抗变化率达17.3%。

关键词：巨磁阻抗 CoFeSiB/Cu/CoFeSiB 三明治薄膜曲折状结构微机电系统

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非硅表面微机械加工技术及其在微光机电系统中的应用

非硅表面微机械加工技术及其在微光机电系统中的应用

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中国光学学会2006年学术大会

作者：戴旭涵赵小林丁桂甫汪红蔡炳初薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室微米／纳米加工技术国家级重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院

微光机电系统（MOEMS）技术的出现让人们看到了光学系统微型化的现实可行性。虽然硅为基础的MOEMS技术借助IC工业的技术积累而占据一定优势,但是,更多的器件需要基于非硅材料制造,并且材料的特性往往起决定性作用,非硅基表面微加工技术...

微光机电系统（MOEMS）技术的出现让人们看到了光学系统微型化的现实可行性。虽然硅为基础的MOEMS技术借助IC工业的技术积累而占据一定优势,但是,更多的器件需要基于非硅材料制造,并且材料的特性往往起决定性作用,非硅基表面微加工技术与表面硅微加工技术具有很多相似之处,是一类借助于非硅基薄膜材料微细加工技术,通过叠层方式实现多层非硅三维微结构成型的加工技术,它为新型功能器件和微系统创新研究提供了更多的材料选择,能够显著拓展MOEMS技术的发展空间。

关键词：

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金属基微型光纤定位夹及其在光电子器件封装耦合中的应用

金属基微型光纤定位夹及其在光电子器件封装耦合中的应用

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中国光学学会2006年学术大会

目前,在光电子器件的封装耦合中,广泛运用了被动定位对准(passive alignment)技术,采用硅V型槽实现光纤与光纤、光纤与管芯的低成本、高精度对准。但如何在对准后将光纤固定在V型槽内仍然存在问题。

关键词：金属基光电子器件定位夹

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纳米薄膜的光学参数及厚度提取方法研究

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光电子技术 2006年第1期26卷 26-29页

作者：金文豪徐东杨莺歌张亚非上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层T iO2、A u纳米薄膜和双层T iO2/A u纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种... 详细信息

采用磁控溅射法在玻璃基底上分别制备了不同厚度的单层T iO2、A u纳米薄膜和双层T iO2/A u纳米薄膜,并测量了这些薄膜的透射光谱。通过设计计算机程序拟合透射光谱;获取了薄膜的折射率和消光系数随波长的变化曲线以及薄膜的厚度。这种拟合方法是以非线性约束优化理论为基础的,具有透射光谱易测量、计算精度高等特点。

关键词：薄膜光学光学常数非线性约束优化算法

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微纳工艺中防粘连自组装薄膜技术的研究

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微细加工技术 2006年第6期 36-39页

作者：顾盼刘景全孙洪文陈迪上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

研究在硅基表面形成1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷防粘自组装膜的方法和特性。成功地在硅基表面形成了防粘连自组装薄膜,从浸润角、表面能、薄膜成分和表面粗糙度几个角度对该薄膜进行了分析,证实薄膜可将硅基表面能降低47.35%,可满足半导... 详细信息

研究在硅基表面形成1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷防粘自组装膜的方法和特性。成功地在硅基表面形成了防粘连自组装薄膜,从浸润角、表面能、薄膜成分和表面粗糙度几个角度对该薄膜进行了分析,证实薄膜可将硅基表面能降低47.35%,可满足半导体工艺中的微纳器件加工工艺的防粘连涂层的需要。

关键词： 1,1,2,2 H过氟癸基三氯硅烷自组装膜微机电系统防粘连膜

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锌/碳纳米管复合电沉积薄膜性能研究

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电镀与涂饰 2006年第11期25卷 13-16页

作者：吴惠箐丁桂甫王裕超汪红上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海200030

通过复合电沉积技术制备了纳米叠层锌/碳纳米管和光亮锌/碳纳米管2种复合薄膜,薄膜的拉曼光谱验证了锌与碳纳米管的共沉积。薄膜表面的场发射扫描电子显微镜观测显示碳纳米管表面的金属包覆层连续且均匀,预示着良好的界面结合。在2种薄... 详细信息

通过复合电沉积技术制备了纳米叠层锌/碳纳米管和光亮锌/碳纳米管2种复合薄膜,薄膜的拉曼光谱验证了锌与碳纳米管的共沉积。薄膜表面的场发射扫描电子显微镜观测显示碳纳米管表面的金属包覆层连续且均匀,预示着良好的界面结合。在2种薄膜的断口和裂纹处分别发现了被拔出基体和桥联的碳纳米管,证实了碳管对基体具有有效的增强作用。

关键词：碳纳米管金属基复合材料复合电沉积薄膜

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