检索结果-内蒙古大学图书馆

光谱实验室 1993年第1期 4-4页

机械电子工业部第十二研究所(又名北京真空电子技术研究所)创建于1957年,拥有2400名职工,是以开展真空电子和光电子技术的基础研究和应用研究为主体的大型综合性研究所。地址:北京市朝阳区酒仙桥路13号,邮政编码:100016。通讯处:北京市... 详细信息

机械电子工业部第十二研究所(又名北京真空电子技术研究所)创建于1957年,拥有2400名职工,是以开展真空电子和光电子技术的基础研究和应用研究为主体的大型综合性研究所。地址:北京市朝阳区酒仙桥路13号,邮政编码:100016。通讯处:北京市749信箱。本所从事各类新型微波电真空器件的研制和小批量中试生产。其产品包括:大功率速调管、行波速调管、栅控行波管、宽频带行波管、同轴磁控管、捷变频磁控管、前向波放大管、充气闸流管、天线开关管、冷阴极触发管、微波三四极管、气体激光器、特种光源、空

关键词：栅控行波管真空电子技术同轴磁控管电真空器件电子器件

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机械电子工业部上海工业锅炉研究所关于启用“机械电子工业部上海工业锅炉研究所”印章的通知

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工业锅炉 1988年第4期 38-38页

各省、市、自治区机械电子工业厅、局.各有关企、事业单位:根据机械电子工业部电改(1988)865号文“关于更改机械电子工业部部份部属单位名称的通知”,将原“国家机械工业委员会上海工业锅炉研究所”更名为“机械电子工业部上海工业锅炉... 详细信息

各省、市、自治区机械电子工业厅、局.各有关企、事业单位:根据机械电子工业部电改(1988)865号文“关于更改机械电子工业部部份部属单位名称的通知”,将原“国家机械工业委员会上海工业锅炉研究所”更名为“机械电子工业部上海工业锅炉研究所”。印章从一九八八年十二月一日起启用,原“国家机械委员会上海工业锅

关键词：机械电子工业部研究所工业锅炉上海

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ULSI相移光刻技术

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电子学报 1993年第2期21卷 77-83页

作者：王阳元徐立武国英俞忠钰化京大学微电子学研究所北京1000871 机械电子工业部北京100820

相移掩模光刻技术,是近几年来为了开发超大规模集成电路(ULSI)而发展起来的一种新颖光刻技术。它应用了光学相移掩模方法,大大提高了现有光学光刻设备的分辨率水平。本文综述了相移光刻技术的发展及其在ULSI中的应用。

关键词：光学光刻相移相移掩模集成电路

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从摩擦学角度优化LT工艺的处理参数及其共渗层的磨损机理研究

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摩擦学学报 1993年第4期13卷 306-316页

作者：刘志强沈永秋胡以正机械电子工业部武汉材料保护研究所武汉430030

本文从摩擦学角度出发通过正交试验对LT(无污染硫氰共渗)工艺的处理参数进行了优化,指出赋予不同基材最佳承载能力和耐磨性的处理参数都明显不同,同种基材获得最佳耐磨性的处理参数则随载荷范围的不同而改变,提出了各处理参数与几种材... 详细信息

本文从摩擦学角度出发通过正交试验对LT(无污染硫氰共渗)工艺的处理参数进行了优化,指出赋予不同基材最佳承载能力和耐磨性的处理参数都明显不同,同种基材获得最佳耐磨性的处理参数则随载荷范围的不同而改变,提出了各处理参数与几种材料共渗层最高抗擦伤载荷之关系的经验公式,并且指出共渗层的承载能力与其结构有关,而与盐浴中所含二价硫离子的多少无对应关系。文章还借助于现代分析手段对共渗层的磨损机理进行了研究,提出了新的看法。

关键词： LT工艺正交试验参数优化强化层

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计算机光互连和光互连用光电子器件