检索结果-内蒙古大学图书馆

高技术通讯 2001年第3期11卷 41-44页

作者：李岩张书练韩艳梅清华大学精密仪器与机械学系精密测试技术及仪器国家重点实验室北京100084

报道了自行研制的 3～ 4 0MHz频差的双频激光器。用两种方法成功地得到 3～4 0MHz的频差 :第一种方法是将寻常光 (o光 )和非寻常光 (e光 )在空间分离 ,使其各自使用各自行进路径上的放大Ne原子介质 ;第二种方法是对双折射双频激光器外... 详细信息

报道了自行研制的 3～ 4 0MHz频差的双频激光器。用两种方法成功地得到 3～4 0MHz的频差 :第一种方法是将寻常光 (o光 )和非寻常光 (e光 )在空间分离 ,使其各自使用各自行进路径上的放大Ne原子介质 ;第二种方法是对双折射双频激光器外加横向磁场 ,将放大Ne原子介质分成两类 ,一类只放大o光。

关键词：双频激光器频差 HeNe激光器石英晶体调谐

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焊接缺陷实时成像自动检测技术的研究

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清华大学学报（自然科学版） 2001年第2期41卷 25-29页

作者：任大海尤政孙长库叶声华清华大学精密仪器与机械学系北京100084 天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室天津300072

对射线实时成像检测技术的发展现状进行了分析 ,指出了目前存在的主要问题。以焊接缺陷的射线实时成像检测为对象 ,简要介绍了图像增强及去噪声等预处理方法。对缺陷提取技术进行了研究 ,设计了基于灰度梯度的焊缝边界提取方法 ,采用基... 详细信息

对射线实时成像检测技术的发展现状进行了分析 ,指出了目前存在的主要问题。以焊接缺陷的射线实时成像检测为对象 ,简要介绍了图像增强及去噪声等预处理方法。对缺陷提取技术进行了研究 ,设计了基于灰度梯度的焊缝边界提取方法 ,采用基于分离焊缝的拟合 DSA方法进行特征提取 ,详细介绍了有关算法并给出了实际处理结果。另外 ,提出了提取结果相关性修正的概念及算法并对缺陷类型识别方法进行了研究。

关键词：焊缝实时成像焊接缺陷无损检测特征提取焊接结构

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基于近场光学超衍射分辨力的高密度光存储

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光电子．激光 2001年第6期12卷 646-652页

作者：孙利群章恩耀王佳田芊清华大学精密仪器系精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084

本文从近场光学的基本理论出发 ,在介绍近场光学超衍射分辨存储原理的基础上 ,对探针扫描显微术、超分辨力近场结构两种主要方案的实现方法和研究状况作了详细的阐述。

关键词：近场光学高密度光存储超分辨力近场结构超衍射分辨力

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大频差双折射双频Nd∶YAG激光器

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中国激光 2001年第2期28卷 100-102页

作者：焦明星张书练梁晋文西安理工大学机械与精密仪器工程学院西安710048 清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室北京100084

提出并论证了一种新型双频激光器研究方案 ,即在激光二极管 (LD)抽运Nd∶YAG激光器的谐振腔内 ,插入一只集纵模选择与纵模分裂于一体的多功能元件———晶体石英F P标准具。因腔内存在双折射效应 ,每一激光纵模分裂为两个相互正交的线... 详细信息

提出并论证了一种新型双频激光器研究方案 ,即在激光二极管 (LD)抽运Nd∶YAG激光器的谐振腔内 ,插入一只集纵模选择与纵模分裂于一体的多功能元件———晶体石英F P标准具。因腔内存在双折射效应 ,每一激光纵模分裂为两个相互正交的线偏振模 ,即o模和e模 ;同样 ,Nd∶YAG激光增益带宽范围内标准具的唯一透射极大峰也一分为二 ,即分裂为o峰和e峰。使一个o模位于o峰的峰顶处 ,并使一个e模位于e峰的峰顶处 ,即可实现o模和e模的同时运转。将厚度为 0 6 45mm ,切割角 (晶体光轴与晶体表面法线间的夹角 )为 10°的晶体石英F P标准具 ,置于腔长为 40mm的Nd∶YAG激光谐振腔内 ,获得了双纵模同时振荡输出 ,其频差约为 2GHz。

关键词：大频差双频激光器双折射效应二极管抽运 ND:YAG激光器

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微器件装配系统机器视觉的实现

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仪器仪表学报 2001年第z2期22卷 257-258页

作者：陈璐云李玉和李庆祥白立芬清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室北京100084

高精度的机器视觉系统是实现微器件装配的关键之一。本文对微器件装配系统中机器视觉的功能和过程进行了设计 ,并对各部分算法进行了改进设计使其能够满足微装配的实时检测定位的功能。对微器件中广泛存在的圆形轮廓进行了识别定位的实... 详细信息

高精度的机器视觉系统是实现微器件装配的关键之一。本文对微器件装配系统中机器视觉的功能和过程进行了设计 ,并对各部分算法进行了改进设计使其能够满足微装配的实时检测定位的功能。对微器件中广泛存在的圆形轮廓进行了识别定位的实验。

关键词：机器视觉微装配系统微器件的识别定位

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用应变仪探测光纤光栅波长移动的传感网络

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光电子．激光 2001年第5期12卷 503-505页

作者：谢芳张书练李岩梁晋文清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室北京100084

本文提出并实验了一种新的探测光纤光栅波长移动的系统。该系统采用抖动调制的方法逐步逼近光纤光栅反射光谱的中心波长、并用应变仪作为系统的读出装置 ,彻底消除压电陶瓷的非线性性和滞后性带来的误差。

关键词：光纤光栅传感器应变仪波长移动

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近场光学在高密度存储中的应用

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光学技术 2001年第3期27卷 255-259页

作者：洪涛王佳李达成清华大学精密仪器系精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084

近场光学在高密度存储方面有着很大的潜力 ,使得近场光学存储近年来得到了广泛的关注。近场光学存储具有高密度大容量及可以利用许多已有相关技术等优点 ,预计近场光学存储密度能达到 7Gbit/ cm2 ;它还可以采用硬盘驱动器中的空气悬浮... 详细信息

近场光学在高密度存储方面有着很大的潜力 ,使得近场光学存储近年来得到了广泛的关注。近场光学存储具有高密度大容量及可以利用许多已有相关技术等优点 ,预计近场光学存储密度能达到 7Gbit/ cm2 ;它还可以采用硬盘驱动器中的空气悬浮磁头技术和磁光存储中的技术等 ,使近场存储的研究和开发更加迅速。目前 ,近场光学存储主要有三种方案 :探针型方案、超分辨率近场结构、固体浸没透镜方案 ,这三种方案都是通过不同的方法缩小记录光斑来实现高密度的存储。介绍了近场光学存储的原理、研究现状及材料 ,并对三种近场存储方案的实现方法和发展概况作了详细的阐述。

关键词：近场光学光学数据存储固体浸没透镜超分辨率近场结构高密度存储

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实现AT切石英晶体振荡器微处理器温度补偿的新方法

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电子学报 2001年第2期29卷 215-217页

作者：王喆垚朱惠忠董永贵冯冠平清华大学微电子所北京100084 精密测试技术与仪器国家重点实验室清华大学精密仪器系北京100084

本文介绍实现AT切石英晶体振荡器微处理器温度补偿的新方法———双频温度自测法 .AT切石英谐振器各泛音次数的频率温度曲线不同 ,利用基频与 3次泛音除一阶温度系数不同外其他各阶温度系数相等的特性 ,基频的 3倍频与 3次泛音频率的差... 详细信息

本文介绍实现AT切石英晶体振荡器微处理器温度补偿的新方法———双频温度自测法 .AT切石英谐振器各泛音次数的频率温度曲线不同 ,利用基频与 3次泛音除一阶温度系数不同外其他各阶温度系数相等的特性 ,基频的 3倍频与 3次泛音频率的差频输出与温度近似成线性关系 .同时激励并测量基频和 3次泛音频率 ,经过微处理器计算差频实现谐振器温度自测并进行晶体振荡器的微处理器温度补偿 .与使用分立温度传感器相比 ,消除了测温元件与石英谐振器温度时间常数不同以及温度场梯度造成的测温误差 ,提高了测温和补偿精度 .

关键词：石英谐振器温度补偿微处理器振荡器

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制作重铬酸盐明胶微光学元件的化学裂解刻蚀方法

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中国激光 2001年第2期28卷 146-150页

作者：庞霖严瑛白金国藩邬敏贤郭履容陈波清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084 四川大学物理系信息光学研究中心成都610064

从生物化学和蛋白质的裂解机制出发 ,提出一种新的重铬酸盐明胶 (DCG)浮雕形成方法———化学裂解刻蚀法。由于化学裂解试剂较胰蛋白酶具有少得多的作用位点 ,化学裂解方法比明胶酶蚀方法具有更高的刻蚀分辨率。实验考察表明 ,化学裂解... 详细信息

从生物化学和蛋白质的裂解机制出发 ,提出一种新的重铬酸盐明胶 (DCG)浮雕形成方法———化学裂解刻蚀法。由于化学裂解试剂较胰蛋白酶具有少得多的作用位点 ,化学裂解方法比明胶酶蚀方法具有更高的刻蚀分辨率。实验考察表明 ,化学裂解方法可以获得 5 0 0lines mm的刻蚀分辨率。应用化学裂解方法 ,利用投影曝光系统和灰度掩摸 ,制作了单元线宽为 30 μm ,深度为 0 8μm的连续浮雕明胶微棱镜列阵。

关键词：化学裂解微光学元件重铬酸盐明胶

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基于微结构制作的溶胶凝胶浸渍成膜特性

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中国激光 2001年第2期28卷 151-154页

作者：庞霖严瑛白金国藩韦辉郭履容清华大学精密测试技术与仪器国家重点实验室北京100084 四川大学物理系信息光学研究中心成都610064

针对制作溶胶凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离... 详细信息

针对制作溶胶凝胶 (sol gel)微光学元件的需要 ,对溶胶凝胶浸渍提拉成膜过程中膜厚、均匀性等成膜特性进行了仔细考察。对于室温干燥情况 ,提拉成膜厚度与提拉速度的经验关系为 :低速时膜厚与提拉速度呈 1 2次幂关系 ;高速时则偏离以上关系 ,且随速度的增大 ,膜厚增加缓慢。对成膜过程的分析表明 ,挥发过程对溶胶

关键词：微光学元件溶胶-凝胶浸渍提拉微结构薄膜

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