检索结果-内蒙古大学图书馆

表面技术 2017年第6期46卷 143-150页

作者：赵凤丽代明江林松盛许伟侯慧君中南大学材料科学与工程学院长沙410083 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广州510650

目的研究离子源功率对a-C:H(Al)薄膜结构及性能的影响。方法采用阳极离子源离化CH_4气体,中频磁控溅射Al靶,通过改变离子源功率,在n(100)型单晶硅及16Mn Cr5钢基体上沉积a-C:H(Al)薄膜。利用扫描电镜、维氏显微硬度计、摩擦磨损试验机... 详细信息

目的研究离子源功率对a-C:H(Al)薄膜结构及性能的影响。方法采用阳极离子源离化CH_4气体,中频磁控溅射Al靶,通过改变离子源功率,在n(100)型单晶硅及16Mn Cr5钢基体上沉积a-C:H(Al)薄膜。利用扫描电镜、维氏显微硬度计、摩擦磨损试验机和表面轮廓仪等设备对a-C:H(Al)薄膜的结构及性能进行表征。结果薄膜的硬度均在1000HV以上。摩擦系数较低,为0.05~0.15。离子源功率为450 W时,薄膜摩擦系数和结合力均出现了最优值,分别为0.05和21.46 N。离子源功率在550 W时,磨损率达到最低值,为3.59×10^(-7) mm^3/(N·m)。结论离子源功率较低时,薄膜表面较疏松,随着离子源功率的增加,薄膜逐渐趋于平整致密。随离子源功率的增加,薄膜的硬度增大,薄膜的结合力先增大后减小,而薄膜的摩擦系数先减小后增大,磨损宽度减小,磨损深度降低,磨损率减小。

关键词：类金刚石薄膜 a-C:H(Al)薄膜中频磁控溅射离子源功率结合强度摩擦学力学性能

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聚四氟乙烯/Al_3O_2-TiO_2复合涂层的制备及其疏水性能研究

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表面技术 2017年第3期46卷 143-150页

作者：庞晓军邓畅光徐丽萍邓春明张小锋中南大学材料科学与工程学院长沙410083 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广州510651

目的在铝合金表面制备耐磨、耐蚀、高结合强度的疏水涂层。方法采用大气等离子喷涂(APS)在铝合金基体上制备AT(Al3O2-Ti O2)涂层,在AT涂层上采用溶胶-凝胶法制备聚四氟乙烯(PTFE)面层,借助扫描电子显微镜、X射线衍射仪、3D形貌仪、接触... 详细信息

目的在铝合金表面制备耐磨、耐蚀、高结合强度的疏水涂层。方法采用大气等离子喷涂(APS)在铝合金基体上制备AT(Al3O2-Ti O2)涂层,在AT涂层上采用溶胶-凝胶法制备聚四氟乙烯(PTFE)面层,借助扫描电子显微镜、X射线衍射仪、3D形貌仪、接触角测试仪等仪器对涂层的显微结构、成分、粗糙度、接触角进行表征。结果喷距为120 mm、电流为680 A、送粉量为18 g/min的条件下,实心AT涂层和空心AT涂层表面粗糙度为6.99μm、6.13μm,孔隙率为5.88%、15.18%,硬度为945.82HV0.3、768.1HV0.3,与基体的结合强度为32 MPa、28 MPa,实心AT涂层与PTFE涂层的结合强度为19 MPa。实心PTFE/AT复合涂层与水的静态接触角最大可达130.9°,PTFE涂层表面含有氟化物和硅化物。结论实心粉末AT涂层表面粗糙度较大,综合性能优于空心粉末AT涂层,因此,将实心AT涂层作为复合涂层的底层。实心PTFE/AT复合涂层具有与荷叶表面相仿的微纳米二元粗糙结构,具有良好的疏水性能,疏水性能与表面含氟物质的疏水基团以及低表面能的二元粗糙结构相关。

关键词：大气等离子喷涂溶胶-凝胶复合涂层粗糙度结合力疏水性能二元粗糙结构

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等离子喷涂-物理气相沉积制备热障涂层对气膜冷却孔的影响

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表面技术 2017年第8期46卷 21-26页

作者：刘飞毛杰邓子谦邓春明张小锋邓畅光刘敏华南理工大学材料科学与工程学院广州510640 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广州510651

目的研究等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)制备热障涂层过程中影响气膜冷却孔堵塞情况的因素。方法采用等离子喷涂-物理气相沉积技术,以团聚烧结的ZrO_2-7%Y_2O_3(7YSZ)为原料,在预制有气膜冷却孔的高温合金板基体上制备热障涂层,研究... 详细信息

目的研究等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)制备热障涂层过程中影响气膜冷却孔堵塞情况的因素。方法采用等离子喷涂-物理气相沉积技术,以团聚烧结的ZrO_2-7%Y_2O_3(7YSZ)为原料,在预制有气膜冷却孔的高温合金板基体上制备热障涂层,研究了气膜冷却孔的孔角度、孔径大小等参数在热障涂层制备过程中对气膜孔堵塞情况的影响。结果当气膜冷却孔的孔径控制为0.85 mm时,30°、60°、90°气膜冷却孔的孔径收缩率分别为19.01%、14.50%、14.86%,孔径收缩率随角度的增大而减小,一定程度后保持稳定。孔内部涂层结构与表面涂层结构一致,都为柱状结构涂层。当气膜冷却孔的角度控制为30°时,孔径为1.0、1.3、15 mm的气膜冷却孔的孔径收缩率分别为36.40%、31.70%、24.45%,孔径收缩率随孔径的增大而减小。涂层在孔内的分布深度随孔径大小的增大而增大。结论气膜冷却孔的角度会影响PS-PVD热障涂层的沉积效率,从而影响孔径收缩率。气膜冷却孔的孔径不影响PS-PVD热障涂层的沉积效率,但会影响孔径收缩率。

关键词：等离子喷涂-物理气相沉积热障涂层气膜冷却孔孔径收缩率柱状涂层堵孔

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电弧离子镀工艺参数对CrAlN薄膜抗冲蚀性能研究

电弧离子镀工艺参数对CrAlN薄膜抗冲蚀性能研究

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粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2018年广东省真空学会学术年会

作者：刘灵云林松盛王迪李风代明江石倩韦春贝李洪郭朝乾苏一凡广东工业大学材料与能源学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

冲蚀磨损是指材料受到小而松散的流动粒子冲击时表面出现破坏的一类磨损现象。空气中的尘埃和砂粒对飞机发动机压气机系统的冲蚀缩短了发动机近90%的使用寿命。在压气机部件钛合金上制备涂层是一种提高抗冲蚀性能有效的方法。目前国内... 详细信息

冲蚀磨损是指材料受到小而松散的流动粒子冲击时表面出现破坏的一类磨损现象。空气中的尘埃和砂粒对飞机发动机压气机系统的冲蚀缩短了发动机近90%的使用寿命。在压气机部件钛合金上制备涂层是一种提高抗冲蚀性能有效的方法。目前国内外普遍采用在钛合金基体上沉积TiN薄膜提高基体的抗冲蚀性能,延长工件的使用寿命。CrN虽然硬度比TiN稍低,但韧性、抗氧化性和耐磨性都要优于TiN。在CrN加入Al元素可以提高薄膜的力学性能。故本试验采用真空阴极电弧沉积技术在钛合金TC11表面制备CrAlN薄膜,用AlO沙粒以冲蚀角为90°对薄膜进行冲蚀实验,探讨工艺参数中的弧电流、基体偏压和气压对薄膜抗冲蚀性能的影响。采用扫描电镜观察膜层表面和截面形貌;硬度计测量膜层的维氏显微硬度;喷砂试验机对薄膜的抗冲蚀性能进行测试,通过三维表面轮廓仪测量薄膜厚度和侵蚀坑的深度。结果表明:工艺参数中偏压对CrAlN薄膜抗冲蚀性能影响最大,其次为弧电流,最小为炉压。偏压增大,薄膜沉积时离子轰击作用增强,夯实薄膜使其致密度提高,偏压为-100 V时抗冲蚀性能表现最好,侵蚀率为1.721μm/g;随着弧电流的增加,CrAlN薄膜的抗冲蚀能力先增强后减弱。弧电流的增加,一方面薄膜的厚度和硬度增加,另一方面沉积到基片上的大颗粒数量和尺寸增大,薄膜在弧电流为90 A时抗冲蚀性能表现最好,侵蚀率为1.130μm/g;CrAlN薄膜的抗冲蚀能力随着气压的增大而增强,气压为4 Pa时侵蚀率为1.034μm/g。优化的最佳工艺参数为:弧电流90 A、偏压-100 V、气压4 Pa。

关键词：电弧离子镀弧电流偏压气压抗冲蚀性能

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7075铝合金在硼酸钠溶液体系的微弧氧化涂层性能表征

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材料研究与应用 2018年第2期12卷 98-101页

作者：黄科里陈兴驰肖晓玲张吉阜广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510650 广东省工业分析检测中心广东广州510650

在以硼酸盐为主的碱性水溶液中对7075超高强度铝合金进行不同时间的微弧氧化表面处理,通过SEM和XRD对氧化陶瓷层的组织结构进行了分析,同时研究不同微弧氧化时间对涂层显微硬度的影响.结果表明:制备的涂层由疏松层和致密层组成,其中致... 详细信息

在以硼酸盐为主的碱性水溶液中对7075超高强度铝合金进行不同时间的微弧氧化表面处理,通过SEM和XRD对氧化陶瓷层的组织结构进行了分析,同时研究不同微弧氧化时间对涂层显微硬度的影响.结果表明:制备的涂层由疏松层和致密层组成,其中致密层占涂层总厚度的80%以上,与基体材料形成冶金结合;涂层中出现γ-Al2O3和α-Al_2O_3两相,其中γ-Al_2O_3相含量较多;随着氧化时间的不同,涂层显微硬度增大,但表面粗糙度变化不大,涂层的显微硬度为1250~1300Hv0.1.

关键词：铝合金微弧氧化陶瓷涂层硼酸钠

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电弧离子镀TiAlSiN涂层的结构及性能

电弧离子镀TiAlSiN涂层的结构及性能

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粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2018年广东省真空学会学术年会

作者：宋智辉代明江李洪林松盛石倩韦春贝郭朝乾苏一凡广东工业大学材料与能源学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

TiAlN涂层具有高硬度及优异的抗氧化和耐磨性能,是常用刀具涂层之一。随着干式切削速度的提高及被加工材料综合性能提升,TiAlN涂层综合性能需进一步提高。本文在电磁加永磁耦合作用下,基于电弧离子镀技术在相同工艺条件下于YG6硬质合金... 详细信息

TiAlN涂层具有高硬度及优异的抗氧化和耐磨性能,是常用刀具涂层之一。随着干式切削速度的提高及被加工材料综合性能提升,TiAlN涂层综合性能需进一步提高。本文在电磁加永磁耦合作用下,基于电弧离子镀技术在相同工艺条件下于YG6硬质合金试样上制备TiAlN涂层和TiAlSiN涂层,采用3D表面轮廓仪测量涂层表面粗糙度;SEM扫描电镜、金相显微镜、×射线衍射仪表征涂层形貌及结构;划痕仪和洛氏硬度计测量涂层力学性能;摩擦磨损试验仪、SEM扫描电镜探究涂层摩擦学性能及摩擦磨损机制。通过对比表明:Si元素的加入细化了TiAlN的晶面组织,大幅度提高了涂层的力学性能、耐磨性及抗高温氧化性能。

关键词： TiAlSiN涂层组织结构力学性能抗氧化性摩擦磨损性能

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等离子喷涂CoNiCrAlY涂层组织结构与性能研究

等离子喷涂CoNiCrAlY涂层组织结构与性能研究

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第二十一届国际热喷涂研讨会（ITSS'2018）暨第二十二届全国热喷涂年会（CNTSC'2018）

作者：杨焜牛少鹏邓子谦曾威徐丽萍邓春明邓畅光刘敏广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室

分别采用大气等离子喷涂和低压等离子喷涂方法在GH3536基体上制备了CoNiCrAlY涂层,并采用真空热处理炉对涂层试样进行热处理。对所制备涂层的显微结构、孔隙率、结合强度、显微硬度、氧含量、抗高温氧化性能和高温耐磨等进行了对比研究... 详细信息

分别采用大气等离子喷涂和低压等离子喷涂方法在GH3536基体上制备了CoNiCrAlY涂层,并采用真空热处理炉对涂层试样进行热处理。对所制备涂层的显微结构、孔隙率、结合强度、显微硬度、氧含量、抗高温氧化性能和高温耐磨等进行了对比研究。结果表明,喷涂粉末熔化良好并充分铺展,所制备涂层与基体结合良好,硬度适中,抗高温氧化性能优良;低压等离子喷涂涂层显示出更好的综合性能。

关键词：等离子喷涂 CoNiCrAlY涂层显微结构性能

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含氢掺钨类金刚石薄膜微结构演变及其力学与摩擦学性能

含氢掺钨类金刚石薄膜微结构演变及其力学与摩擦学性能

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粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2018年广东省真空学会学术年会

作者：许伟周克崧林松盛代明江韦春贝石倩中南大学材料科学与工程学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

采用磁控溅射复合阳极层流型离子源技术制备了含氢掺钨类金刚石（wTDLC）薄膜,利用原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、×射线衍射仪（XRD）、拉曼光谱和纳米压痕仪等方法分析了薄膜表面... 详细信息

采用磁控溅射复合阳极层流型离子源技术制备了含氢掺钨类金刚石（wTDLC）薄膜,利用原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、×射线衍射仪（XRD）、拉曼光谱和纳米压痕仪等方法分析了薄膜表面形貌、微观结构和力学性能,探讨了w靶电流对碳膜微结构演变的影响及其作用机制。研究结果表明:w掺入非晶碳基结构后以WC相的形式存在,靶电流为1 A时,W-DLC薄膜呈非晶-纳米晶复合结构;靶电流增大到2 A及以上时,W-DLC薄膜具有纳米多层超晶格结构。随着靶电流的增大,薄膜碳基网络结构中的sp杂化键含量逐渐增大,而薄膜的硬度和弹性模量以及残余应力则不断降低。当w靶电流为1 A时,w-DLC薄膜的摩擦系数和磨损率最低分别为0.09和6.6×10mm·N·m。

关键词：类金刚石薄膜掺杂微结构纳米多层膜电子能量损失谱

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CrN／DLC复合薄膜的制备及其摩擦学性能研究

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电镀与涂饰 2017年第1期36卷 25-30页

作者：李福球林松盛林凯生陈焕涛广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室广东广州510650

采用阴极电弧离子镀技术沉积了厚度为16μm左右的CrN膜层,然后在其上以阴极电弧+磁控溅射+阳极层离子源复合技术沉积了厚度约3μm的类金刚石(DLC)膜层,分别用扫描电镜、显微硬度计、划痕仪、摩擦磨损试验仪分析和测试了CrN、DLC、CrN/DL... 详细信息

采用阴极电弧离子镀技术沉积了厚度为16μm左右的CrN膜层,然后在其上以阴极电弧+磁控溅射+阳极层离子源复合技术沉积了厚度约3μm的类金刚石(DLC)膜层,分别用扫描电镜、显微硬度计、划痕仪、摩擦磨损试验仪分析和测试了CrN、DLC、CrN/DLC等3种膜层的表面和截面形貌,厚度,显微硬度,结合力以及耐磨损性能。结果表明,采用上述方法制备的CrN/DLC复合膜具有良好的综合性能,膜层界面明晰、结构致密,膜基结合力大于60 N,显微硬度达到2200~2600 HV,磨损率为1.8×10^(-16)m^3/(N·m),耐磨损性能优于CrN和DLC单层膜。

关键词：氮化铬类金刚石复合薄膜阴极电弧离子镀磁控溅射阳极层离子源摩擦学

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Al-DLC薄膜的制备及性能研究

Al-DLC薄膜的制备及性能研究

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粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2018年广东省真空学会学术年会

作者：彭雅利代明江郭朝乾林松盛石倩韦春贝李洪苏一凡中南大学材料科学与工程学院广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室

类金刚石薄膜具有高硬度和高弹性模量、低摩擦系数、极好的耐磨性等优良特性,广泛应用于机械、光学、电子等领域。但类金刚石薄膜同时存在内应力高、膜基结合力差等问题,会严重影响类金刚石薄膜的使用范围和寿命。为了改善类金刚石薄膜... 详细信息

类金刚石薄膜具有高硬度和高弹性模量、低摩擦系数、极好的耐磨性等优良特性,广泛应用于机械、光学、电子等领域。但类金刚石薄膜同时存在内应力高、膜基结合力差等问题,会严重影响类金刚石薄膜的使用范围和寿命。为了改善类金刚石薄膜的固有缺陷,满足工业要求,本文采用磁控溅射技术对类金刚石薄膜进行改性,获得摩擦磨损性能优良、结合强度高的Al掺杂类金刚石薄膜。采用透射电子显微镜、扫描显微镜对薄膜形貌进行分析,采用Raman和XPS对薄膜结构进行分析,采用划痕试验仪和洛氏硬度计对薄膜的膜基结合力进行测试,采用维氏硬度计测量薄膜的硬度,采用球-盘式摩擦磨损试验研究了Al掺杂类金刚石薄膜的摩擦磨损性能。结果表明:Al掺杂类金刚石薄膜临界载荷达到了100N以上,通过样品表面洛氏压痕形貌,根据德国工程师协会VDI-3198洛氏压痕等级标准判断薄膜的膜基结合强度为HF1级,耐磨性能优异,磨损率为8.20×10mm/（N·m）。

关键词： Al-DLC 磁控溅射技术膜基结合力摩擦磨损性能

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