检索结果-内蒙古大学图书馆

真空 2010年第3期47卷 44-47页

作者：田修波吴忠振石经纬李希平巩春志杨士勤哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所哈尔滨150001

高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)由于能够产生较高的离化率而受到人们的重视。为了提高离化率/沉积速率协同效应,基于直流和脉冲耦合叠加技术我们研制了高功率密度复合脉冲磁控溅射电源,并对高功率复合脉冲磁控溅射放电特性进行研究。结... 详细信息

高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)由于能够产生较高的离化率而受到人们的重视。为了提高离化率/沉积速率协同效应,基于直流和脉冲耦合叠加技术我们研制了高功率密度复合脉冲磁控溅射电源,并对高功率复合脉冲磁控溅射放电特性进行研究。结果表明脉冲峰值电流随脉冲电压的增加而增加,但随着脉冲宽度的增加而减小。在高功率脉冲期间工件上获得的电流可以增加一个数量级以上,表明磁控离化率得到显著增强。

关键词：高功率脉冲复合磁控溅射峰值电流放电特性

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高功率脉冲磁控溅射技术——灵活的薄膜技术

高功率脉冲磁控溅射技术——灵活的薄膜技术

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TFC’09全国薄膜技术学术研讨会

作者：田修波吴忠振巩春志杨士勤等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学

高功率脉冲(HPPMS)技术由于较高的溅射粒子离化率而得到人们重视,该技术在欧洲兴起已有多年,国内研究刚刚起步。利用直流功率和脉冲功率的耦合,可以获得高离化率的脉冲时段,通过高功率脉冲的占空比可以调节沉积到基片上原子和离子的比... 详细信息

高功率脉冲(HPPMS)技术由于较高的溅射粒子离化率而得到人们重视,该技术在欧洲兴起已有多年,国内研究刚刚起步。利用直流功率和脉冲功率的耦合,可以获得高离化率的脉冲时段,通过高功率脉冲的占空比可以调节沉积到基片上原子和离子的比例。这样通过改变基片

关键词：高功率脉冲磁控溅射离化率

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高脉冲功率磁控溅射电源及放电特性研究

高脉冲功率磁控溅射电源及放电特性研究

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第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会

作者：田修波吴忠振巩春志杨士勤等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室哈尔滨工业大学

高脉冲功率磁控溅射(HPPMS)技术是最近发展起来的一种新型磁控溅射技术。由于在高功率脉冲期间,溅射粒子离化率很高,有时可达70-80%,因此HPPMS模式制备的膜层致密、性能优良,HPPMS可以被看做为"无大颗粒"的阴极弧技术,受到国... 详细信息

高脉冲功率磁控溅射(HPPMS)技术是最近发展起来的一种新型磁控溅射技术。由于在高功率脉冲期间,溅射粒子离化率很高,有时可达70-80%,因此HPPMS模式制备的膜层致密、性能优良,HPPMS可以被看做为"无大颗粒"的阴极弧技术,受到国外很多

关键词：磁控溅射 HPPMS 放电特性高脉冲

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高离化脉冲磁控放电与溅射技术

高离化脉冲磁控放电与溅射技术

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薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会

作者：田修波吴忠振石经纬巩春志杨士勤哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所

高离化率脉冲磁控溅射技术(HIPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道。本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电... 详细信息

高离化率脉冲磁控溅射技术(HIPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道。本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等。HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力、耐磨性、耐腐蚀性,以及抗高温氧化性能。最后介绍了我们研究所开发的高离化率复合脉冲磁控溅射电源及HIPMS实际应用的一些成功案例。

关键词：高离化率脉冲磁控溅射离化率离子能量薄膜性能

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高离化脉冲磁控放电与溅射技术

高离化脉冲磁控放电与溅射技术

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2009年薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会

作者：田修波吴忠振石经纬巩春志杨士勤哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所哈尔滨150001

本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等.HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力... 详细信息

本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等.HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力、耐磨性、耐腐蚀性,以及抗高温氧化性能.作者以TiN薄膜的沉积为例，利用这种电源极易获得颜色金黄且膜基结合力很高的薄膜，工艺范围很宽，即使对本实验室所使用的小圆形靶，也非常容易得性能优异的膜层。

关键词：薄膜材料制备工艺离子能量化学性能物理性能

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耦合电源技术——真空等离子体表面处理的新希望

耦合电源技术——真空等离子体表面处理的新希望

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第九届真空冶金与表面工程学术会议

作者：田修波等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室材料科学与工程学院哈尔滨工业大学

等离子体表面技术已经得到了越来越广泛的应用,真空等离子体表面技术也得到了长足发展。无论是真空获得、等离子体产生与控制,还是自动化过程控制以及应用电源技术,每一个技术的进步都为真空镀膜的水平提升提供了基础和平台。为了获得... 详细信息

等离子体表面技术已经得到了越来越广泛的应用,真空等离子体表面技术也得到了长足发展。无论是真空获得、等离子体产生与控制,还是自动化过程控制以及应用电源技术,每一个技术的进步都为真空镀膜的水平提升提供了基础和平台。为了获得更好的膜层质量和工艺优化,人们采用多种复合等离子体源或复合偏压电源或复合等离子体源/偏压电源技术,如射频/磁控、阴极弧/磁控、离子注入/沉积等等以产生需要的综合表面性能,然而这些复合一般需要分离的源头或分批处理,不仅占用空间,而且工艺复杂。国际上的一种新趋势已经出现------耦合电源技术,即所用的电源不再孤立工作,而是同体耦合,这样不仅节省了空间,更关键的是使得膜层质量和性能得到大幅度提高、工艺优化更加简便。本研究所已经开发出一些列耦合电源,其中包括:高压脉冲/射频同体耦合电源、高压脉冲/低压直流耦合电源、高脉冲/直流磁控电源(高功率脉冲磁控溅射)、射频/直流磁控溅射电源、中低压脉冲/直流偏压电源、直流/射频偏压电源等等。本文结合国外发展趋势和本研究所的研究成果,介绍这些耦合电源的设计、放电控制、应用优势以及潜在的发展前景。

关键词：等离子体表面处理

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真空镀膜中的复合电源技术

真空镀膜中的复合电源技术

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中国真空学会真空工程学术交流会

作者：田修波巩春志朱宗涛石经纬杨士勤等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室材料科学与工程学院哈尔滨工业大学

真空镀膜离不开先进的电源技术。真空镀膜中电源种类也不尽相同,包括蒸发电源、磁控溅射电源、阴极弧电源、偏压电源、离子注入电源、高压电源、溅射清洗电源等等。随着人们对薄膜质量和性能的不断追求,这些电源技术也不断发展。近些年... 详细信息

真空镀膜离不开先进的电源技术。真空镀膜中电源种类也不尽相同,包括蒸发电源、磁控溅射电源、阴极弧电源、偏压电源、离子注入电源、高压电源、溅射清洗电源等等。随着人们对薄膜质量和性能的不断追求,这些电源技术也不断发展。近些年复合电源技术受到了人们重视,因为它使得控制变得更加灵活,产生的效果也更加明显。本文介绍我们研究所在复合电源研制方面的工作,其中包括复合偏压电源(直流1kV+脉冲1kV)、射频和高压同轴耦合电源(40kV)、直流和射频耦合电源以及高功率磁控溅射电源(20kW)等等,重点介绍高功率脉冲磁控(HPPMS)溅射电源放电特性,HPPMS放电模式可以显著提高磁控溅射离化率。

关键词：真空镀膜复合电源磁控溅射

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