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  • 2 篇 理学
    • 2 篇 物理学
  • 2 篇 工学
    • 2 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 2 篇 离子能量
  • 1 篇 高离化率脉冲磁控...
  • 1 篇 自激放电
  • 1 篇 管筒
  • 1 篇 射频
  • 1 篇 薄膜材料
  • 1 篇 离化率
  • 1 篇 物理性能
  • 1 篇 化学性能
  • 1 篇 制备工艺
  • 1 篇 等离子体特性
  • 1 篇 薄膜性能

机构

  • 2 篇 哈尔滨工业大学
  • 1 篇 等离子体表面技术...

作者

  • 3 篇 田修波
  • 3 篇 巩春志
  • 3 篇 杨士勤
  • 2 篇 吴忠振
  • 2 篇 石经纬
  • 1 篇 朱宗涛

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"机构=等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室哈工大材料学院"
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等离子体离子注入管筒内壁自激射频放电等离子体特性
等离子体离子注入管筒内壁自激射频放电等离子体特性
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第九届真空冶金与表面工程学术会议
作者： 巩春志 田修波 朱宗涛 杨士勤 等离子体表面技术与设备研究所现代焊接生产技术国家重点实验室哈工大材料学院
PⅢ处理管筒内表面轴向均匀性是离子注入一项较为棘手的问题。如何在有限的空间内产生均匀的等离子并实现注入是这项技术的关键。本文采用不锈钢管筒自身直接作为射频天线,在管筒内部获得了稳定的辉光放电等离子体。针对该等离子体源新... 详细信息
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高离化脉冲磁控放电与溅射技术
高离化脉冲磁控放电与溅射技术
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薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会
作者： 田修波 吴忠振 石经纬 巩春志 杨士勤 哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所
高离化率脉冲磁控溅射技术(HIPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道。本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电... 详细信息
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高离化脉冲磁控放电与溅射技术
高离化脉冲磁控放电与溅射技术
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2009年薄膜技术高峰论坛暨广东省真空学会学术年会
作者： 田修波 吴忠振 石经纬 巩春志 杨士勤 哈尔滨工业大学材料学院现代焊接生产技术国家重点实验室等离子体表面技术与设备研究所 哈尔滨150001
本文介绍了HIPMS技术放电等离子体的特点,即等离子体密度高、溅射材料离化率高、离子平均电荷数高、成膜离子比例大、离子能量高等.HPPMS技术制备的薄膜由于受到高能离子轰击,更加致密、缺陷少、表面光滑,进而表现出较高的硬度、结合力... 详细信息
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