检索结果-内蒙古大学图书馆

表面技术 2021年第7期50卷 165-171,224页

作者：王金磊李刚杨扬金克武鲍田中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233018

目的提高蒙砂玻璃的雾度以及调控其表面的亲疏水性。方法通过在酸蚀液中添加不同浓度的KCl,可控调节蒙砂玻璃表面微纳结构,并利用光学轮廓仪对表面形貌和粗糙度进行表征分析。通过分光光度仪对蒙砂玻璃的雾度、透过率进行测试,并使用接... 详细信息

目的提高蒙砂玻璃的雾度以及调控其表面的亲疏水性。方法通过在酸蚀液中添加不同浓度的KCl,可控调节蒙砂玻璃表面微纳结构,并利用光学轮廓仪对表面形貌和粗糙度进行表征分析。通过分光光度仪对蒙砂玻璃的雾度、透过率进行测试,并使用接触角测量仪对其亲疏水性进行分析评价。结果通过调节酸蚀液中KCl的加入量,得到具有不同表面微结构及表面粗糙度的蒙砂玻璃。酸蚀液中KCl的加入,可以实现不损失玻璃透过率的同时,将蒙砂玻璃的雾度提高1个数量级,从4.23%提高至73.11%。酸蚀液中加入质量分数20%的KCl,可实现蒙砂玻璃表面较好的亲水性,接触角达20.9°,而玻璃原片的接触角仅为47.5°。在蒙砂玻璃表面涂覆十三氟辛基三乙氧基硅烷,100℃下热处理30min,可实现蒙砂玻璃较强的疏水性,对水的接触角达到124.3°。结论酸蚀液中加入KCl可以实现酸蚀蒙砂玻璃表面微结构的构建,并且通过控制KCl的加入量,提高蒙砂玻璃的透过率和雾度,实现较好的亲水性。用低表面能物质十三氟辛基三乙氧基硅烷成功对具有一定表面微结构的蒙砂玻璃进行修饰,将蒙砂玻璃由亲水性变为较强的疏水性。

关键词：酸蚀液表面微结构雾度亲水性疏水性蒙砂玻璃透过率

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基于PS模板的SiO_(2)疏水膜制备与研究

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表面技术 2021年第11期50卷 172-178页

作者：鲍田王东汤永康徐佳馨王金磊中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000

目的研究聚苯乙烯(PS)刮涂速率、溶胶提拉速率、催化剂和陈化对疏水膜的表面粗糙度、透过率和接触角的影响规律。方法通过绕线棒刮涂和浸镀等工艺在玻璃基板上制备玻璃/聚苯乙烯/二氧化硅(Glass/PS/SiO_(2))膜系,热处理去除PS后,在表面... 详细信息

目的研究聚苯乙烯(PS)刮涂速率、溶胶提拉速率、催化剂和陈化对疏水膜的表面粗糙度、透过率和接触角的影响规律。方法通过绕线棒刮涂和浸镀等工艺在玻璃基板上制备玻璃/聚苯乙烯/二氧化硅(Glass/PS/SiO_(2))膜系,热处理去除PS后,在表面涂覆氟硅烷(FAS),得到透明疏水膜。采用光学轮廓仪和场发射扫描电子显微镜检测PS刮涂效果、膜层表面粗糙度以及微观膜层形貌。采用分光光度计测量样品的可见-近红外光学透过率。采用接触角测试仪得到疏水膜的静止水接触角。结果当绕线棒刮涂速率为2 cm/s,采用碱催化SiO_(2)溶胶,提拉速率由60 mm/min增至180 mm/min时,膜层表面粗糙度依次减小,150 mm/min对应的表面粗糙度为0.0251μm,样品的水接触角为139°。当绕线棒刮涂速率为3 cm/s,采用陈化时间较短的酸催化溶胶,可以制备得到接触角为150.5°、波长为380~1100 nm、平均透过率为88.3%的疏水膜。结论表面粗糙结构受PS刮涂速率、SiO_(2)溶胶的提拉速率及其性质的影响。采用酸催化的低黏度SiO_(2)溶胶涂覆于PS模板层,经过热处理和表面改性可以得到类蜂窝结构的SiO_(2)疏水多孔膜。

关键词：疏水 PS SiO_(2) 刮涂溶胶-凝胶

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六方氮化硼高导热纳米材料:晶体结构、导热机理及表面修饰改性

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材料导报 2022年第6期36卷 40-51页

作者：李佩悦马立云谢恩俊任子杰周新军高惠民吴建新中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司安徽蚌埠233018 浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233018 武汉理工大学资源与环境工程学院武汉430070

六方氮化硼(h-BN)纳米材料,如氮化硼纳米颗粒(BNNPs)、氮化硼纳米管(BNNTs)、氮化硼纳米纤维(BNNFs)、氮化硼纳米片(BNNSs),被认为是近年来最有前途的无机纳米材料。它们具有独特的理化性能,包括超宽带隙(5.0~6.0 eV)、高导热率(50~600 ... 详细信息

六方氮化硼(h-BN)纳米材料,如氮化硼纳米颗粒(BNNPs)、氮化硼纳米管(BNNTs)、氮化硼纳米纤维(BNNFs)、氮化硼纳米片(BNNSs),被认为是近年来最有前途的无机纳米材料。它们具有独特的理化性能,包括超宽带隙(5.0~6.0 eV)、高导热率(50~600 W/(m·K))、高机械强度等,在覆铜板(CCL)、电子封装(EMC)、热界面材料(TIMs)、发光二极管(LED)以及相变储能(PCMs)等领域具有广阔的应用前景。与其他功能材料一样,为改善其在聚合物复合材料中的分散性和界面亲和性,在其填充聚合物材料之前,通常要对其进行表面改性,最终达到改善聚合物复合材料的力学性能、导热性能及介电性能的目的。但由于h-BN特殊的晶体结构,使得其具有极强的化学惰性和抗氧化性,一方面,与石墨烯类似,每一个h-BN层中,B原子和N原子通过强共价键相连,但由于B和N的电负性不同,这种共价键具有类似离子键的特征,相比石墨结构中的C-C共价键,B-N键更强,更难以断裂。另一方面,不同于石墨片层间的AB型堆积,h-BN片层间为AA′型堆积,相邻层中B和N原子交替堆积产生“Lip-lip”作用,使得层间的极性相互作用强于石墨层间的范德华力。另外,h-BN在合成过程中,除了边缘上残留有痕量的-OH及-NH_(2)基团外,几乎没有其它官能团,极大加剧了h-BN表面修饰改性的难度。常用的碳纳米材料改性方法并不能使h-BN改性达到满意的效果,因此许多新的方法和药剂被用来设计修饰h-BN纳米材料。本文根据h-BN晶体结构、制备方法和表面性质,从共价键和非共价键功能化修饰两个方面,重点总结修饰改性药剂的设计选择以及对复合材料性能影响的研究进展,最后,对未来h-BN功能化的具体措施及修饰药剂设计选择的发展方向进行了展望。

关键词：六方氮化硼纳米材料高导热晶体结构表面修饰改性

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室温射频磁控溅射制备纳米晶ZnS_(X)薄膜及其性能研究

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光子学报 2021年第7期50卷 230-237页

作者：杨扬李刚金克武王天齐彭赛奥姚婷婷陈淑勇浮法玻璃新技术国家重点实验室薄膜技术研究所安徽蚌埠233000 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司安徽蚌埠233018

为获得性能优异的透明介质薄膜,采用射频磁控溅射技术,以ZnS陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上室温沉积纳米晶富锌ZnS薄膜,通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、分光光度计、光谱椭偏仪重点研究了不同射频功率对制备的纳米晶Zn... 详细信息

为获得性能优异的透明介质薄膜,采用射频磁控溅射技术,以ZnS陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上室温沉积纳米晶富锌ZnS薄膜,通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、分光光度计、光谱椭偏仪重点研究了不同射频功率对制备的纳米晶ZnS_(X)薄膜的晶相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明:射频功率对ZnS_(X)薄膜晶相形成和结晶度具有重要影响;随着溅射功率的增加,ZnS_(X)薄膜中Zn和S元素的比例、特征拉曼峰的强度以及折射率的值都先增大后减小,薄膜的光学带隙从3.86 eV降低至3.76 eV;当溅射功率为150 W时,为ZnS_(X)薄膜具有立方相结构及高结晶度的最优条件,薄膜的Zn/S比接近于标准化学计量比,达到1.23,可见光平均透过率大于80%,550 nm下ZnS_(X)薄膜的光学折射率为2.03。

关键词：薄膜光学材料射频磁控溅射富锌硫化锌溅射功率

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应用磁测法快速检测石英砂中铁含量的研究

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矿物岩石 2023年第4期43卷 14-19页

作者：李勇张宇翔姜玉诗叶龙强赵洪义安徽科技学院电气与电子工程学院安徽蚌埠233030 安徽科技学院化学与材料工程学院安徽蚌埠233030 蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000

为了快速检测石英砂中铁含量,通过对安徽省凤阳县灵山工业园区30个湿法石英砂样品磁学参数和代表性样品中磁性离子含量的测量以及石英砂中铁含量与磁学参数相关关系的研究,提出石英砂中铁含量的磁学检测方法。通过在高纯石英砂中掺入不... 详细信息

为了快速检测石英砂中铁含量,通过对安徽省凤阳县灵山工业园区30个湿法石英砂样品磁学参数和代表性样品中磁性离子含量的测量以及石英砂中铁含量与磁学参数相关关系的研究,提出石英砂中铁含量的磁学检测方法。通过在高纯石英砂中掺入不同质量磁选物的合成实验建立石英砂的磁化率(χ)、饱和等温剩磁(SIRM)与铁元素含量之间的标准曲线方程,合成实验结果显示石英砂的磁化率与铁含量在143.3×10^(-6)~500.0×10^(-6)范围内呈线性关系,相关系数R^(2)=0.9945,饱和等温剩磁与铁含量在67.9×10^(-6)~500.0×10^(-6)范围内呈线性关系,相关系数R^(2)=0.9992。实例检测结果显示,应用χ和SIRM测量石英砂中铁含量与应用分光光度法测量相比,相对误差分别在-9.83%~3.03%之间和-4.91%~2.42%之间,说明采用磁测法测量石英砂中铁含量是可行的,测量精度良好,采用SIRM测量精度较χ高,对石英砂进行700℃高温处理后,测量精度会增加。该研究为石英砂中铁含量的快速检测提供了一种新方法,缩短检测时间,减少化学药品对环境的污染,在石英砂质量监控领域具有重要的应用价值。

关键词：磁测法石英砂铁含量磁学参数

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浮法工艺玻璃带成形过程的模拟分析

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硅酸盐学报 2021年第2期49卷 340-346页

作者：陈淑勇李从云王照猛马立云左泽方浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000 硅基材料安徽省实验室安徽蛘埠233000 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司安徽蚌埠233018

建立了浮法工艺玻璃成形过程的玻璃带三维(3D)与Thin-Film模型,采用Ansys Polyflow软件对600 t/d锡槽内玻璃带成形过程进行了模拟研究,与3D模拟结果对比表明,Thin-Film模型可准确、高效地模拟玻璃带成形过程。根据玻璃带成形过程模拟结... 详细信息

建立了浮法工艺玻璃成形过程的玻璃带三维(3D)与Thin-Film模型,采用Ansys Polyflow软件对600 t/d锡槽内玻璃带成形过程进行了模拟研究,与3D模拟结果对比表明,Thin-Film模型可准确、高效地模拟玻璃带成形过程。根据玻璃带成形过程模拟结果,讨论了锡槽不同区域内玻璃带的成形状态,进一步模拟分析了玻璃带纵向与横向温度分布条件对不同厚度玻璃成形过程的影响,得到了4mm与10 mm浮法玻璃成形过程的较优成形温度条件。

关键词：浮法玻璃成形数值模拟

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基于PS模板的SiO;疏水膜制备与研究

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表面技术 2021年

作者：鲍田王东汤永康徐佳馨王金磊中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室

目的通过绕线棒刮涂和浸镀等工艺在玻璃基板上制备玻璃/聚苯乙烯/二氧化硅(Glass/PS/SiO;)膜系，热处理去除PS后在表面涂覆氟硅烷（FAS）得到透明疏水膜。方法研究了PS刮涂速率、溶胶提拉速率、催化剂和陈化对疏水膜的表面粗糙度、透... 详细信息

目的通过绕线棒刮涂和浸镀等工艺在玻璃基板上制备玻璃/聚苯乙烯/二氧化硅(Glass/PS/SiO;)膜系，热处理去除PS后在表面涂覆氟硅烷（FAS）得到透明疏水膜。方法研究了PS刮涂速率、溶胶提拉速率、催化剂和陈化对疏水膜的表面粗糙度、透过率和接触角的影响规律。采用光学轮廓仪和场发射扫描电子显微镜检测PS刮涂效果、膜层表面粗糙度以及微观膜层形貌。采用分光光度计测量样品的可见-近红外光学透过率。采用接触角测试仪得到疏水膜的静止水接触角。结果当绕线棒刮涂速率为2cm/s，采用碱催化SiO;溶胶，提拉速率由60mm/min增至180mm/min时，膜层表面粗糙度依次减小，在150mm/min，对应的表面粗糙度为0.0251 μm，样品的水接触角为139°。当绕线棒刮涂速率为3cm/s，采用陈化时间较短的酸催化溶胶，可以制备得到接触角为150.5°，380nm～1100nm波长范围内平均透过率为88.3%的疏水膜。结论表面粗糙结构受PS刮涂速率、SiO;溶胶的提拉速率及其性质的影响。采用酸催化的低黏度SiO;溶胶涂覆于PS模板层，经过热处理和表面改性可以得到类蜂窝结构的SiO;疏水多孔膜。

关键词：疏水 PS SiO 刮涂溶胶-凝胶

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TiO2-SiO2/SiO2双层复合薄膜制备及折射率调控

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硅酸盐学报 2020年第4期48卷 470-476页

作者：马立云金良茂汤永康鲍田苏文静甘治平李刚中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000

采用溶胶-凝胶法制备了具有W型减反特性的Ti O2-SiO2/SiO2复合薄膜,并分别调控了TiO2及TiO2-SiO2混合介质薄膜折射率,探索了不同制备条件对TiO2薄膜折射率的影响机理。通过场发射扫描电子显微镜、能谱仪、椭偏仪、紫外–可见-红外分光... 详细信息

采用溶胶-凝胶法制备了具有W型减反特性的Ti O2-SiO2/SiO2复合薄膜,并分别调控了TiO2及TiO2-SiO2混合介质薄膜折射率,探索了不同制备条件对TiO2薄膜折射率的影响机理。通过场发射扫描电子显微镜、能谱仪、椭偏仪、紫外–可见-红外分光光度计研究了薄膜微观结构、薄膜组分、折射率和光学透过率,通过TFcal软件模拟了双层复合薄膜的光学透过率线型。研究表明:溶胶pH值对TiO2薄膜折射率影响显著,其影响的前驱体水解速率对折射率的影响占主要作用,并且随着pH值的增大薄膜折射率减小,而水/钛比对薄膜折射率影响不显著。在TiO2与Si O2混合溶胶中两者物质的量比为1.2:1.0时,获得可用于制备双层复合W型减反膜系底层的薄膜,其椭偏仪拟合测试折射率约为1.68。最终制备的复合TiO2-SiO2/SiO2薄膜实现了光学宽谱范围380~1100 nm的优良增透效果,最大透过率可达约97%。

关键词：减反膜折射率光学透过率 W型减反特性

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液晶显示屏用玻璃结构与性能

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材料导报 2021年第S02期35卷 107-109页

作者：崔介东曹欣石丽芬仲召进高强中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室蚌埠233010 硅基材料安徽省实验室蚌埠233010

运用Raman光谱与^(29)Si核磁共振光谱测试(NMR),研究了液晶显示屏中使用的三种不同类型玻璃的网络结构,包括显示屏盖板玻璃、导电膜玻璃和液晶显示基板玻璃,主要比较光谱中涉及到的桥氧与非桥氧参与的振动比例,来获取玻璃网络结构的紧... 详细信息

运用Raman光谱与^(29)Si核磁共振光谱测试(NMR),研究了液晶显示屏中使用的三种不同类型玻璃的网络结构,包括显示屏盖板玻璃、导电膜玻璃和液晶显示基板玻璃,主要比较光谱中涉及到的桥氧与非桥氧参与的振动比例,来获取玻璃网络结构的紧密度信息。结果表明,导电膜玻璃网络紧密度最低,而液晶显示基板玻璃紧密度最高,显示屏盖板玻璃介于两者之间,而结构紧密度的关系体现在了玻璃性能指标的差异,液晶显示基板玻璃具有最高的应变点、退火点与软化点,而相应的浮法成型工艺温度点也最高,导电膜玻璃则最低。

关键词：液晶显示屏 Raman ^(29)Si NMR 盖板玻璃导电膜玻璃基板玻璃

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CIGS薄膜太阳能电池用背电极性能研究

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燕山大学学报 2021年第5期45卷 415-423页

作者：姚婷婷彭塞奥王天齐甘治平李刚中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司浮法玻璃新技术国家重点实验室安徽蚌埠233000 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司硅基材料安徽省实验室安徽蚌埠233000

CIGS薄膜太阳能电池的传统背电极中的导电层为了满足电阻要求,必须使用较厚的Mo薄膜作为电子传导层进行电流传输,同时作为电子触头与CIS半导体接触。但较厚的Mo薄膜导致背电极内部应力较大、薄膜制备速度慢且成本高,因此,需开发厚度小... 详细信息

CIGS薄膜太阳能电池的传统背电极中的导电层为了满足电阻要求,必须使用较厚的Mo薄膜作为电子传导层进行电流传输,同时作为电子触头与CIS半导体接触。但较厚的Mo薄膜导致背电极内部应力较大、薄膜制备速度慢且成本高,因此,需开发厚度小、应力小、成本低的新型背电极。新型背电极需要具有较高的电流传输能力,并且经过高温硒化处理后电学性能不变。同时,尽可能地降低薄膜厚度以便节约成本。有鉴于此,本工作提出了采用CuZn合金薄膜代替Mo薄膜作为导电层。X射线衍射仪、扫描电子显微镜及电学性能等测试结果表明,当Brass相CuZn薄膜的膜厚逐渐增加时,结晶特性逐渐变好。并且CuZn薄膜表现出较高的载流子浓度,形成背电极后,电流传输性能依然较好。CuZn薄膜可用于部分替代Mo薄膜,增强背电极导电性能,并减小背电极内部应力,同时节约成本。

关键词： Mo薄膜 CuZn薄膜背电极方块电阻导电层

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